基板涂布裝置的制造方法
【專利摘要】本實用新型公開一種基板涂布裝置。根據(jù)本實用新型的基板涂布裝置，包括：狹縫形狀的狹縫噴嘴，排出待涂布到基板上的藥液；以及負壓模塊，以涂布進行方向為基準，位于所述狹縫噴嘴的肋前方，并且在所述狹縫噴嘴的噴出口前方形成負壓空間。負壓模塊通過在所述狹縫噴嘴的噴出口前方形成負壓空間，向前方牽拉從狹縫噴嘴的噴出口排出的藥液，從而在噴出口下方形成半月形狀而使涂布順利地進行。負壓模塊包括：吸入部，形成上方封閉并且下方向著所述負壓空間開放的內(nèi)部空間部；以及吸入泵，連接于形成在所述吸入部的上方的排出口。吸入部通過吸入所述負壓空間的空氣來形成負壓。
【專利說明】
基板涂布裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實用新型涉及一種基板涂布裝置，尤其涉及一種通過在狹縫噴嘴的排出口前方形成負壓，從而使從狹縫噴嘴中排出的藥液向著排出口前方以半月形排出，由此改善涂布性能的基板涂布裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]將藥液以一定的厚度均勻地涂布到平板基板的涂布裝置可以用于多樣的領(lǐng)域中，其中之一就包括為了制造LCD等平板顯示器而在玻璃基板表面涂布感光性樹脂的涂布工
-H-
O
[0003]隨著顯示器基板的大小的大型化，利用狹縫噴嘴(SlitNozzle)的狹縫涂布方式作為藥液涂布方式被廣泛的應(yīng)用。狹縫涂布方式為令具有與被處理基板的寬度相當?shù)拈L度的狹縫噴嘴沿著基板移送，并且通過噴嘴噴射藥液而涂布的方式。
[0004]參考圖1，基板涂布裝置100在基板G固定于基板平臺102的狀態(tài)下，長度為基板G的寬度的狹縫噴嘴110借助于移送機構(gòu)120而沿著基板G移送的同時涂布藥液。通過藥液提供部112提供大概一次涂布工序所要用到的量的藥液到狹縫噴嘴110后，將藥液通過狹縫噴嘴110而噴射到基板G。涂布裝置100在基板G上涂布藥液，即感光性樹脂(PR = Photoresist)后，基板G被移送到干燥工序而被干燥。
[0005]涂布到基板G的藥液的厚度與藥液的粘性、涂布速度和涂布間隙等相關(guān)，所以需要調(diào)整與要涂布的厚度相對應(yīng)的藥液的粘性和排出速度等。
[0006]例如，如圖2的X那樣，從狹縫噴嘴110排出的藥液m以涂布前進方向X為基準，朝狹縫噴嘴110的肋(Rib)IlOa的前端以半月形被充分排出時，因為狹縫噴嘴110的行進速度、涂布間隙等適當，所以可以進行適當?shù)耐坎肌?br>[0007]但是，如圖2的(b)那樣，通過狹縫噴嘴110排出的藥液m的量少或者涂布速度過快時，從狹縫噴嘴110排出的藥液m位于狹縫噴嘴110的肋11 Oa的后端，并成為被狹縫噴嘴110的行進拖拉的形狀，并且無法適當?shù)靥畛渫坎奸g隙，并且無法有效地進行涂布。相反，若排出量過大，也無法進行有效的涂布。
[0008]最近，隨著對薄膜涂布的要求變高，在需要進行更薄的涂布的情況下，發(fā)生難以匹配涂布條件的問題。
[0009][相關(guān)技術(shù)文獻]
[0010]難以找到基本類似的發(fā)明。
[0011]1.韓國公開專利第 10-2015-0039901 號(2015.04.14公開)
[0012]該發(fā)明公開了在狹縫噴嘴的兩個端部形成用于再次吸入藥液的吸入管道的方法。從排出口排出的藥液通過吸入管道被吸入，從而藥液只涂布在藥液涂布區(qū)域，并且可防止藥液不必要地涂布在基板的兩個側(cè)部，并使整體均勻的涂布變得可能。
【實用新型內(nèi)容】
[0013]本實用新型的目的在于提供一種以涂布進行方向為基準，在狹縫噴嘴的排出口前方形成負壓，從而使從狹縫噴嘴排出的藥液向排出口前方以半月形狀被排出，由此改善涂布性能的基板涂布裝置。
[0014]為了實現(xiàn)上述目的，根據(jù)本實用新型的基板涂布裝置，包括:狹縫形狀的狹縫噴嘴，排出待涂布到基板上的藥液;及負壓模塊，以涂布進行方向為基準，位于所述狹縫噴嘴的肋的前方，并且在所述狹縫噴嘴的噴出口前方形成負壓空間。并且與狹縫噴嘴分開地布置的負壓模塊在所述狹縫噴嘴的噴出口前方形成負壓空間，從而把從噴出口排出的藥液向噴出口前方拽拉，從而在噴出口下方形成半月形狀。所以，狹縫噴嘴不需要具有雙狹縫形狀。
[0015]根據(jù)實施例，所述負壓模塊包括:吸入部，形成向所述負壓空間開放的內(nèi)部空間部；以及吸入栗，連接于形成在所述吸入部的排出口，通過吸入所述內(nèi)部空間部的空氣，在所述負壓空間形成負壓。
[0016]根據(jù)實施例，所述吸入部的內(nèi)部空間部可以為與所述基板平行地布置的平板形狀。
[0017]根據(jù)實施例，所述吸入部的內(nèi)部空間部向所述噴出口傾斜地開放。
[0018]根據(jù)另一實施，所述吸入部的下表面形成于所述狹縫噴嘴和基板之間的涂布間隙的高度以下，并且優(yōu)選地所述吸入部的開放的下表面位于距離基板20?300μπι的高度處。
[0019]根據(jù)實施例，所述吸入部的排出口形成于所述內(nèi)部空間部的前方上側(cè)，以給所述噴出口前方提供均勻的負壓。
[0020]另外，在所述狹縫噴嘴的肋的端部形成平平的負壓抵抗部，用于防止從所述狹縫噴嘴的噴出口排出的藥液因由所述負壓模塊引起的負壓而被吸入到所述負壓模塊。并且，優(yōu)選地，所述負壓抵抗部具有Imm以上的寬度。
[0021]根據(jù)實施例，所述負壓模塊固定于所述狹縫噴嘴的側(cè)面。
[0022]根據(jù)負壓模塊的實施例，本實用新型的基板涂布裝置還包括:移送模塊，用于支撐并移送所述狹縫噴嘴。并且，所述移送模塊包括:一對吊架(gantry)，分別形成于支撐所述基板的基板平臺的兩側(cè);及橋梁(bridged bar)，橫穿所述基板平臺而布置，并且各個端部分別連接于所述吊架，以支撐所述狹縫噴嘴。
[0023]在該情況下，所述負壓模塊被所述橋梁所支撐而布置于所述狹縫噴嘴的前方。
[0024]根據(jù)實施例，所述移送模塊還包括:一對導軌，分別布置于所述基板平臺的兩側(cè)，并引導所述吊架的移動；以及吊架驅(qū)動部，利用磁懸浮方式使所述吊架沿著所述導軌往復運動。
[0025]根據(jù)實施例，負壓模塊包括:主體部，連接于所述橋梁;吸入管道，貫通所述主體部而形成，并且末端向負壓空間開放;及吸入栗，通過所述吸入管道吸入空氣，從而在所述負壓空間形成負壓。根據(jù)實施例，所述吸入管道以末端向著所述噴出口傾斜的狀態(tài)開放。
[0026]本實用新型的基板涂布裝置以涂布進行方向為基準，在狹縫噴嘴的前端布置負壓模塊，從而在狹縫噴嘴噴出口前方形成負壓，使得從狹縫噴嘴排出的藥液朝噴出口前方形成半月形狀。如我們知道，若從狹縫噴嘴排出的藥液在狹縫噴嘴的前端形成適當?shù)陌雸A形狀，則可以進行更快速的涂布，并且可以無不良地進行更薄的薄膜涂布，并且可以維持足夠的涂布間隙。
[0027]因為形成負壓的負壓模塊相比狹縫噴嘴的噴出口具有相當大的大小，所以可以消除藥液妨礙負壓的形成或堵住用于形成負壓的任一吸氣口等的隱患。
[0028]并且，因為本實用新型中負壓模塊位于狹縫噴嘴的前方，所以可以從狹縫噴嘴的移動中因誤操作可能發(fā)生的突發(fā)的碰撞或基板上的異物保護噴嘴。
【附圖說明】
[0029]圖1為示出現(xiàn)有的具有異物檢測裝置的基板涂布裝置的立體圖。
[0030]圖2為示出圖1的狹縫涂布器的藥液涂布過程的側(cè)剖面圖，其中，圖2(a)是適當?shù)剡M行涂布時的側(cè)剖面圖，圖2(b)是無法適當?shù)剡M行涂布時的側(cè)剖面圖。
[0031]圖3為概略地示出根據(jù)本實用新型的一實施例的基板涂布裝置的圖。
[0032]圖4為將圖3沿A-A線截取而示出剖面圖。
[0033]圖5為根據(jù)圖3的一實施例的負壓模塊的立體圖。
[0034]圖6為概略地示出根據(jù)本實用新型的另一實施例的基板涂布裝置的圖。
[0035]圖7為示出圖6的負壓模塊的實施例的剖面圖。
[0036]圖8為示出圖6的負壓模塊的另一實施例的剖面圖。
[0037]符號說明
[0038]102:基板平臺110:狹縫噴嘴
[0039]I 1a:狹縫噴嘴的肋I 1b:狹縫噴嘴的噴出口
[0040]I 1c:負壓抵抗部112:藥液提供部
[0041]120:移送模塊121:吊架
[0042]123:橋梁125:導軌
[0043]310、610:負壓模塊311:吸入部
[0044]313:排出口315:吸入栗
[0045]710、810:主體部711、811:吸入管道
【具體實施方式】
[0046]以下，參考附圖對本實用新型進行更詳細的說明。
[0047]參考圖3及圖4，根據(jù)本實用新型的第一實施例的基板涂布裝置300包括:基板平臺102，用于固定基板G;狹縫噴嘴110，將藥液涂布到基板G上;藥液提供部112，給狹縫噴嘴110提供藥液;移送模塊120，支撐狹縫噴嘴110并且能夠沿著涂布進行方向X移送狹縫噴嘴110。
[0048]移送模塊120包括:一對吊架(Gantry)121，分別設(shè)置于基板平臺102的兩側(cè);橋梁(Bridged Bar)123，將一對吊架121的上部相互連接，從而支撐狹縫噴嘴110; —對導軌125，在基板平臺102的兩側(cè)沿涂布進行方向X并排布置，以引導吊架121的移動；以及吊架驅(qū)動部(未圖示)。吊架驅(qū)動部例如可以通過磁懸浮方式使吊架121沿著導軌125進行往復運動。
[0049]為了涂布，狹縫噴嘴110與基板G可以相對移動就足夠，所以本實用新型不限于狹縫噴嘴110在固定的基板G上被水平移送的情況，還適用于基板G在固定的狹縫噴嘴110的下方被移送的情況。例如，根據(jù)涂布裝置，專門的基板支撐機構(gòu)可以支撐基板G而在狹縫噴嘴110的下方移送該基板G。在該情況下，移送模塊120發(fā)揮為了清洗等而移送狹縫噴嘴110的功能，并且固定支撐涂布中的狹縫噴嘴110而不移送涂布中的狹縫噴嘴110。
[0050]下文中說明的基本動作中除了負壓模塊310的動作，都與現(xiàn)有技術(shù)的說明相同。也就是說，在基板G固定于基板平臺102的狀態(tài)下，基板G的寬度長度的狹縫噴嘴110借助于移送模塊120而沿著基板G移送的同時通過噴出口 I 1b把藥液涂布到基板G上。藥液提供部112把大約一次涂布工序所要用到的量的藥液提供給狹縫噴嘴110后，通過狹縫噴嘴110把藥液噴射到基板G。如果基板涂布裝置300把藥液涂布到基板G上，則基板G被移送到下一工序。如上文所述，可以借助于專門的支撐機構(gòu)而在狹縫噴嘴110的下方沿水平方向移送基板G的過程中進行涂布。
[0051 ]此時，從狹縫噴嘴110的噴出口 I 1b排出的藥液需要以涂布進行方向X為基準比噴出口 IlOb更靠前地突出而維持半月形。為此，本實用新型的基板涂布裝置300還包括負壓模塊310，以涂布進行方向X為基準，在狹縫噴嘴110的肋11 Oa的前方與基板G分離地設(shè)置。負壓模塊310在涂布過程中固定于狹縫噴嘴110的前方，從而在狹縫噴嘴110的噴出口 I 1b的前方形成負壓空間310a。
[0052]在涂布工序中，作為將負壓模塊310定位于狹縫噴嘴110的肋I1a前方的方法中的一種方法，如圖3至圖5所示，負壓模塊310固定于狹縫噴嘴110的側(cè)面，從而在涂布過程中與狹縫噴嘴110—起被移送。作為另一種方法，如圖6所示，負壓模塊610直接支撐于橋梁123而不是直接支撐于狹縫噴嘴110，由此定位于狹縫噴嘴110的肋I1a前方。
[0053]負壓模塊形成下面朝向負壓空間開放的內(nèi)部空間部，并使內(nèi)部空間部變成真空，從而在負壓空間形成負壓。負壓模塊的示例可設(shè)計為多種多樣。
[0054]圖3至圖5的例子中，負壓模塊310形成為下面朝向負壓空間開放的容器形狀，并附著于狹縫噴嘴110的側(cè)面，負壓模塊310包括:形成下面朝向負壓空間開放的內(nèi)部空間部而覆蓋負壓空間310a的形態(tài)的吸入部311、以及與形成于吸入部311的上部的排出口 313的通過軟管等而連接的吸入栗315。吸入栗315通過排出口 313吸入包括內(nèi)部空間部的負壓空間310a的空氣，從而在負壓空間310a形成負壓。
[0055]吸入部311的內(nèi)部空間部從基板G分離，并且其內(nèi)部空間部的下面朝向基板G開放，所以從內(nèi)部空間連接的負壓空間310a不會形成全真空。另外，負壓空間310a的負壓用于把從狹縫噴嘴110排出的藥液向涂布進行方向拽拉，所以重要的是在沿著垂直于涂布進行方向X的一字型布置的狹縫噴嘴110的噴出口 I1b的前方維持負壓。
[0056]因此，優(yōu)選地，吸入部311的內(nèi)部空間部具有與基板G平行且沿涂布進行方向延伸的較寬的平板形狀，從而在基板G上的較寬的面形成負壓空間310a。優(yōu)選地，吸入部311的排出口 313布置于狹縫噴嘴110的噴出口 IlOb的相反側(cè)，即吸入部311的內(nèi)部空間部的前方上偵U，從而對于一字型狹縫噴嘴110的噴出口 IlOb提供均勻的負壓。并且，將形成吸入部311的隔壁設(shè)計為具有相當?shù)膶挾?，這可以最大程度地減少由基板G之間的空間引起的負壓的損失。
[0057]另外，優(yōu)選地，以基板G的上表面為基準，吸入部311的下表面的高度考慮作為狹縫噴嘴110的噴出口 IlOb和基板G之間的高度的涂布間隙(Gap)而布置，并且可以定為大約20?300μπι左右，優(yōu)選為50?150μπι。
[0058]吸入部311的下表面沒必要與基板G平行，并且可以設(shè)計成從狹縫噴嘴110向最遠的前方越來越低的傾斜的形狀，從而使內(nèi)部空間部具有向狹縫噴嘴110的噴出口 IlOb傾斜的形狀。并且，吸入部311的內(nèi)部空間部的高度和下表面的面積優(yōu)選為在不影響用于清洗狹縫噴嘴110的肋11 Oa的清洗機構(gòu)的移動范圍的范圍內(nèi)設(shè)計成最大。
[0059]當吸入栗315啟動而開始吸入吸入部311的內(nèi)部空間部的空氣時，在負壓空間310a形成負壓。負壓空間310a形成于狹縫噴嘴110的噴出口 IlOb的前方，所以為了涂布而從狹縫噴嘴110的噴出口 IlOb排出的藥液受到形成于負壓空間310a的負壓的張力，從而以半月形狀突出。
[0060]另外，優(yōu)選為在狹縫噴嘴肋IlOa的末端部形成負壓抵抗部110c。負壓抵抗部IlOc用于防止從狹縫噴嘴110的噴出口 IlOb排出的藥液因負壓空間310a形成的負壓，被吸入到負壓模塊310的內(nèi)部空間部。所需要的負壓抵抗部IlOc的寬度d可根據(jù)負壓的強度而不同，但是寬度小于大約Imm以下的時，與負壓的大小無關(guān)地，藥液都會被吸入負壓模塊310，所以負壓抵抗部I 1c的寬度優(yōu)選為大約Imm以上。
[0061]〈另一實施例〉
[0062]如上文所述，如圖6至圖8所示，負壓模塊610可以直接支撐于橋梁123而不是直接支撐于狹縫噴嘴110，由此定位于狹縫噴嘴110的肋11 Oa的前方。
[0063]圖7中的負壓模塊包括:與橋梁123連接的主體部710、貫通主體部710而形成并且末端朝向負壓空間開放的吸入管道711，并且吸入管道711與外部的吸入栗315連接。
[0064]圖8中的負壓模塊包括:與橋梁123連接的主體部810、貫通主體部810而形成并且末端以朝向噴出口 IlOb傾斜的狀態(tài)開放的吸入管道811，并且吸入管道811與外部的吸入栗315連接。
[0065]與現(xiàn)有技術(shù)相比，負壓模塊310可以使涂布工作在更快的涂布速度下進行并在更低的藥液的粘度狀態(tài)下進行。所以相比現(xiàn)有技術(shù)，自然可以進行更有效的薄膜涂布。
[0066]以上，對本實用新型的優(yōu)選的實施例進行了圖示并說明，但是本實用新型不限于上述的特定的實施例，并且在不脫離權(quán)利要求書中要求的本實用新型的宗旨的情況下，在本實用新型的領(lǐng)域中具有一般知識的人可以實現(xiàn)多種變形實施，并且這些變形實施不應(yīng)脫離本實用新型的技術(shù)思想或前景。
【主權(quán)項】
1.一種基板涂布裝置，其特征在于，包括: 狹縫形狀的狹縫噴嘴，排出待涂布到基板上的藥液；以及 負壓模塊，以涂布進行方向為基準，位于所述狹縫噴嘴的肋的前方，并且在所述狹縫噴嘴的噴出口前方形成負壓空間， 所述肋形成有所述噴出口，通過所述噴出口排出藥液。2.如權(quán)利要求1所述的基板涂布裝置，其特征在于，所述負壓模塊包括: 吸入部，形成向所述負壓空間開放的內(nèi)部空間部;及 吸入栗，連接于形成在所述吸入部的排出口，通過吸入所述內(nèi)部空間部的空氣，在所述負壓空間形成負壓。3.如權(quán)利要求2所述的基板涂布裝置，其特征在于， 所述吸入部的內(nèi)部空間部為與所述基板平行地布置的平板形狀。4.如權(quán)利要求2所述的基板涂布裝置，其特征在于， 所述吸入部的內(nèi)部空間部向所述噴出口傾斜地開放。5.如權(quán)利要求2所述的基板涂布裝置，其特征在于， 所述吸入部的下表面形成于所述狹縫噴嘴和基板之間的涂布間隙的高度以下。6.如權(quán)利要求5所述的基板涂布裝置，其特征在于， 所述吸入部的開放的下表面位于距離所述基板20?300μπι的高度處。7.如權(quán)利要求2所述的基板涂布裝置，其特征在于， 所述吸入部的排出口形成于所述內(nèi)部空間部的前方上側(cè)，以給所述噴出口前方提供均勻的負壓。8.如權(quán)利要求1所述的基板涂布裝置，其特征在于， 在所述狹縫噴嘴的肋的端部形成有平的負壓抵抗部，用于防止從所述狹縫噴嘴的噴出口排出的藥液因由所述負壓模塊引起的負壓而被吸入到所述負壓模塊。9.如權(quán)利要求8所述的基板涂布裝置，其特征在于， 所述負壓抵抗部具有Imm以上的寬度。10.如權(quán)利要求1所述的基板涂布裝置，其特征在于， 所述負壓模塊固定于所述狹縫噴嘴的側(cè)面。11.如權(quán)利要求1所述的基板涂布裝置，其特征在于，還包括: 移送模塊，用于支撐并移送所述狹縫噴嘴，并且所述移送模塊具有: 一對吊架，分別形成于支撐所述基板的基板平臺的兩側(cè);及 橋梁，橫穿所述基板平臺而布置，并且各個端部分別連接于所述吊架，以支撐所述狹縫噴嘴， 所述負壓模塊被所述橋梁所支撐而布置于所述狹縫噴嘴的前方。12.如權(quán)利要求11所述的基板涂布裝置，其特征在于，所述移送模塊還包括: 一對導軌，分別布置于所述基板平臺的兩側(cè)，并引導所述吊架的移動；以及 吊架驅(qū)動部，利用磁懸浮方式使所述吊架沿著所述導軌往復運動。13.如權(quán)利要求11所述的基板涂布裝置，其特征在于，所述負壓模塊包括: 主體部，連接于所述橋梁； 吸入管道，貫通所述主體部而形成，并且末端向負壓空間開放；以及吸入栗，通過所述吸入管道吸入空氣，從而在所述負壓空間形成負壓。14.如權(quán)利要求13所述的基板涂布裝置，其特征在于，所述吸入管道以末端向著所述噴出口傾斜的狀態(tài)開放。
【文檔編號】B05C5/00GK205518423SQ201521034371
【公開日】2016年8月31日
【申請日】2015年12月14日
【發(fā)明人】璧靛悍, 趙康一
【申請人】K.C.科技股份有限公司