技術(shù)特征：

1.一種由水滑石前體焙燒還原的方法控制暴露的非貴金屬合金高指數(shù)晶面的催化劑的方法，其特征在于，包括以下步驟：

制備水滑石前體為[M²⁺_(1-x)M³⁺_x(OH)₂]^x+[A^n-]_x/n·mH₂O，水滑石層板二價陽離子選擇Zn²⁺或Mg²⁺，三價陽離子選擇Al³⁺，進(jìn)入層板間的金屬活性中心離子為Co²⁺和Ga³⁺，其中進(jìn)入水滑石層板金屬活性中心離子Co²⁺和Ga³⁺的總摩爾數(shù)與水滑石層板中二價陽離子和三價陽離子之和摩爾比為(0～10)：1，且不為0，水滑前驅(qū)所有二價金屬陽離子與水滑石前體所有三價金屬陽離子摩爾比為(2～5)：1，將水滑石前體在H₂氣氛中還原，還原溫度控制在400℃～850℃，還原時間控制在5min～6h，升溫速率控制在2-10℃/min，即可得到暴露CoGa合金高指數(shù)晶面(221)的催化劑。

2.按照權(quán)利要求1的方法，其特征在于，還原溫度控制在800℃。

3.按照權(quán)利要求1的方法，其特征在于，水滑石前體的陰離子為碳酸根。

4.按照權(quán)利要求1的方法，其特征在于，制備水滑石層板的沉淀劑為氫氧化鈉、尿素。

5.按照權(quán)利要求1的方法，其特征在于，制備水滑石層板的沉淀劑為氫氧化鈉。

6.按照權(quán)利要求1的方法，其特征在于，升溫速率5℃/min。

7.按照權(quán)利要求1的方法，其特征在于，Co²⁺和Ga³⁺的摩爾比為1:(1-0.2)。

8.按照權(quán)利要求1的方法，其特征在于，在800℃、升溫速率控制在5℃/min、還原時間為4小時得到CoGa合金晶面全部(221)。

9.按照權(quán)利要求1-8任一項方法制備得到的暴露的非貴金屬合金高指數(shù)晶面的催化劑。