本發(fā)明屬于涂布裝置技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種涂布機(jī)勻膠機(jī)構(gòu)。

背景技術(shù)：

涂布機(jī)用于不干膠或者雙面膠等的涂布生產(chǎn)。將成卷的基材上涂上一層特定功能的膠、涂料或油墨等，并烘干后收卷?，F(xiàn)在有的涂布機(jī)在涂布之后，基材上膠水往往因其自身的粘度或者均勻度的限制，使得基材上的膠層均勻性不好。

因此，現(xiàn)有的涂布機(jī)的涂膠工位之后，設(shè)置有勻膠輥，對(duì)基材的膠層進(jìn)行勻膠作業(yè)。現(xiàn)有的勻膠輥通過擺臂設(shè)置在機(jī)架上， 作業(yè)時(shí)，僅僅是根據(jù)基材的牽引進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)，或是通過定速電機(jī)帶動(dòng)，在設(shè)備高速運(yùn)轉(zhuǎn)過程中，勻膠輥的擺臂震動(dòng)嚴(yán)重，無法保證產(chǎn)品的加工質(zhì)量，擺臂的主軸一側(cè)既起到支撐作用，同時(shí)又起到動(dòng)力傳動(dòng)的作用，震動(dòng)現(xiàn)象無法消除，達(dá)不到很好的勻膠效果。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明所要解決的問題在于，克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種勻膠效果良好的涂布機(jī)勻膠機(jī)構(gòu)。

本發(fā)明解決其技術(shù)問題是采取以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的：

一種涂布機(jī)勻膠機(jī)構(gòu)，包括機(jī)架和勻膠輥，所述的機(jī)架兩側(cè)對(duì)稱設(shè)有高度調(diào)節(jié)孔，調(diào)節(jié)孔中設(shè)有滑動(dòng)支撐座，所述的勻膠輥兩端通過轉(zhuǎn)動(dòng)軸水平設(shè)置在滑動(dòng)支撐座中，勻膠輥一端與一個(gè)變頻直驅(qū)電機(jī)相連，所述的滑動(dòng)支撐座下方的機(jī)架上設(shè)有高度調(diào)節(jié)輥，高度調(diào)節(jié)輥兩端設(shè)有渦輪座，滑動(dòng)支撐座通過兩根連桿與其下方的高度調(diào)節(jié)輥相連，連桿上與高度調(diào)節(jié)輥兩端的渦輪座相齒合。

本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有顯著的優(yōu)點(diǎn)和有益效果：通過變頻直驅(qū)電機(jī)直接驅(qū)動(dòng)勻膠輥轉(zhuǎn)動(dòng)，不但使勻膠輥轉(zhuǎn)速可控，與基材運(yùn)動(dòng)速度相適應(yīng)，提高了勻膠效果，同時(shí)降低了能耗；另外，勻膠輥高度可以調(diào)節(jié)，可以根據(jù)基材的張緊程度，使勻膠輥始終貼緊基材，從而保障其勻膠效果。

附圖說明

圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖；

其中1、機(jī)架，2、勻膠輥，3、滑動(dòng)支撐座，4、直驅(qū)電機(jī)，5、高度調(diào)節(jié)輥，6、連桿，7、手輪。

具體實(shí)施方式

以下結(jié)合附圖及較佳實(shí)施例，對(duì)依據(jù)本發(fā)明提供的具體實(shí)施方式、結(jié)構(gòu)、特征及其功效，詳細(xì)說明如后。

如圖1所示的一種涂布機(jī)勻膠機(jī)構(gòu)，包括機(jī)架1和勻膠輥2，所述的機(jī)架兩側(cè)對(duì)稱設(shè)有高度調(diào)節(jié)孔，調(diào)節(jié)孔中設(shè)有滑動(dòng)支撐座3，所述的勻膠輥2兩端通過轉(zhuǎn)動(dòng)軸水平設(shè)置在滑動(dòng)支撐座中，勻膠輥一端與一個(gè)變頻直驅(qū)電機(jī)4相連，所述的滑動(dòng)支撐座下方的機(jī)架上設(shè)有高度調(diào)節(jié)輥5，高度調(diào)節(jié)輥5兩端設(shè)有渦輪座，滑動(dòng)支撐座3通過兩根連桿6與其下方的高度調(diào)節(jié)輥相連，連桿上與高度調(diào)節(jié)輥兩端的渦輪座相齒合；所述的高度調(diào)節(jié)輥5一端設(shè)有手輪7；所述的調(diào)節(jié)孔與滑動(dòng)支撐座相連處設(shè)有膠墊；所述的勻膠輥下方的機(jī)架上設(shè)有廢液槽。

以上對(duì)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例進(jìn)行了詳細(xì)說明，但所述內(nèi)容僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例，不能被認(rèn)為用于限定本發(fā)明的實(shí)施范圍。凡依本發(fā)明申請(qǐng)范圍所作的均等變化與改進(jìn)等，均應(yīng)仍歸屬于本發(fā)明的專利涵蓋范圍之內(nèi)。