本實(shí)用新型屬于水處理加藥裝置技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種帶有自助清洗功能的加藥裝置。

背景技術(shù)：

現(xiàn)有市場(chǎng)上已有的水處理加藥裝置，大都并無(wú)配備裝置自助清洗流程，即使配備也是是根據(jù)加入藥液的持續(xù)時(shí)間、連續(xù)加藥計(jì)量來(lái)提醒裝置人工清洗，或者控制程序自動(dòng)清理裝置內(nèi)部衛(wèi)生。上述的方式均并不能根據(jù)裝置內(nèi)部具體的結(jié)垢程度直觀的控制清洗時(shí)間和清洗水量，間接控制并不精確。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型的目的在于解決上述的技術(shù)問(wèn)題而提供一種帶有自助清洗功能的加藥裝置。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案：

一種帶有自助清洗功能的加藥裝置，包括分別配備有第一加藥泵與第二加藥泵的第一儲(chǔ)藥罐與第二儲(chǔ)藥罐，所述第一儲(chǔ)藥罐內(nèi)設(shè)有第一液位計(jì)、第一結(jié)垢測(cè)量探頭，所述第一儲(chǔ)藥罐具有第一清洗水入口、第一清洗水排出口，所述第二儲(chǔ)藥罐內(nèi)設(shè)有第二液位計(jì)、第二結(jié)垢測(cè)量探頭，所述第二儲(chǔ)藥罐具有第二清洗水入口、第二清洗水排出口；所述第一儲(chǔ)藥罐與第二儲(chǔ)藥罐通過(guò)第一外排管與第二外排管相連通，所述第一外排管與第二外排管并行設(shè)置，且所述第一外排管與第二外排管上分別安裝第一外排泵與第二外排泵。

所述第一清洗水入口、第一清洗水排出口分別設(shè)有第一清洗閥，第一排水閥；所述第二清洗水入口、第二清洗水排出口分別設(shè)有第二清洗閥，第二排水閥。

所述第一清洗閥，第一排水閥，第二清洗閥，第二排水閥采用電磁閥。

本實(shí)用新型通過(guò)檢測(cè)加藥裝置使用前后裝置內(nèi)部壁厚差異，判斷結(jié)垢程度，更直觀的判定裝置內(nèi)部真實(shí)的污染程度，自助控制清洗流程。

附圖說(shuō)明

圖1是本實(shí)用新型的帶有自助清洗功能的加藥裝置的原理示意圖。

具體實(shí)施方式

下面，結(jié)合實(shí)例對(duì)本實(shí)用新型的實(shí)質(zhì)性特點(diǎn)和優(yōu)勢(shì)作進(jìn)一步的說(shuō)明，但本實(shí)用新型并不局限于所列的實(shí)施例。

如圖1所示，一種帶有自助清洗功能的加藥裝置，包括：

分別配備有第一加藥泵4與第二加藥泵9的第一儲(chǔ)藥罐14與第二儲(chǔ)藥罐10，所述第一儲(chǔ)藥罐內(nèi)設(shè)有第一液位計(jì)1、第一結(jié)垢測(cè)量探頭2，所述第一儲(chǔ)藥罐具有第一清洗水入口、第一清洗水排出口，所述第二儲(chǔ)藥罐內(nèi)設(shè)有第二液位計(jì)6、第二結(jié)垢測(cè)量探頭7，所述第二儲(chǔ)藥罐具有第二清洗水入口、第二清洗水排出口；所述第一儲(chǔ)藥罐與第二儲(chǔ)藥罐通過(guò)第一外排管與第二外排管相連通，所述第一外排管與第二外排管并行設(shè)置，且所述第一外排管與第二外排管上分別安裝第一外排泵12與第二外排泵13。

其中，所述第一清洗水入口、第一清洗水排出口分別設(shè)有第一清洗閥3，第一排水閥15；所述第二清洗水入口、第二清洗水排出口分別設(shè)有第二清洗閥8，第二排水閥11。

所述第一清洗閥，第一排水閥，第二清洗閥，第二排水閥采用電磁閥。

具體的，所述第一加藥泵與第二加藥泵、第一液位計(jì)、第一結(jié)垢測(cè)量探頭以及二液位計(jì)、第二結(jié)垢測(cè)量探頭，第一清洗閥，第一排水閥，第二清洗閥，第二排水閥分別連接到電控箱5。

具體的，所述電控箱內(nèi)設(shè)有PLC控制系統(tǒng)，用于根據(jù)設(shè)定的程序，根據(jù)儲(chǔ)藥罐內(nèi)的液位情況以及結(jié)垢情況，以控制開(kāi)啟外排泵以及清洗閥、排水閥的開(kāi)啟與停止。

所述PLC控制系統(tǒng)采用采用西門(mén)子S7-300系列PLC控制器。

所述第一結(jié)垢測(cè)量探頭以及第二結(jié)垢測(cè)量探頭采用超聲波測(cè)厚探頭，該探頭采用超聲波測(cè)厚技術(shù)，是根據(jù)超聲波脈沖反射原理可以進(jìn)行厚度測(cè)量，當(dāng)探頭發(fā)射的超聲波脈沖經(jīng)過(guò)水、油等介質(zhì)到達(dá)被測(cè)物體表面，超聲波的一部分能量會(huì)被反射回探頭，產(chǎn)生第一次回波，探頭發(fā)射的超聲波的另一部分能量通過(guò)被測(cè)物體到達(dá)材料另一表面時(shí)，超聲波會(huì)再次被反射回來(lái)形成第二次回波，通過(guò)精確測(cè)量超聲波在材料中的傳播時(shí)間可以確定被測(cè)材料的厚度，因此利用該探頭可以檢測(cè)出儲(chǔ)藥罐的壁厚，通過(guò)比較初始狀態(tài)下儲(chǔ)藥罐壁厚值與結(jié)垢后的壁厚值，從而可實(shí)現(xiàn)判斷結(jié)垢情況與結(jié)垢的厚度。

所述第一結(jié)垢測(cè)量探頭2與第二結(jié)垢測(cè)量探頭7主要用于測(cè)量第一儲(chǔ)藥罐14與第二儲(chǔ)藥罐10的罐底的結(jié)垢的厚度。

如可以采用北京時(shí)代之峰科技有限公司生產(chǎn)的超聲波測(cè)厚探頭來(lái)實(shí)現(xiàn)測(cè)量以及超聲波測(cè)厚儀，具體實(shí)現(xiàn)時(shí)，通過(guò)超聲波測(cè)厚儀連接PLC控制器將測(cè)厚信號(hào)輸入到PLC控制器由PLC控制器根據(jù)測(cè)量信號(hào)情況進(jìn)行控制泵以及閥的開(kāi)啟或關(guān)閉。

本裝置由兩個(gè)儲(chǔ)藥罐串聯(lián)而成，兩個(gè)儲(chǔ)藥罐交替使用，每個(gè)儲(chǔ)藥罐通過(guò)實(shí)時(shí)液位與加藥泵聯(lián)動(dòng)，實(shí)現(xiàn)對(duì)水處裝置裝置中進(jìn)行日常加藥。當(dāng)一個(gè)儲(chǔ)藥罐內(nèi)結(jié)垢達(dá)到一定程度時(shí)，將該儲(chǔ)藥罐內(nèi)部的藥液排空到另一儲(chǔ)藥罐，當(dāng)一個(gè)儲(chǔ)藥罐內(nèi)藥劑液位降至低端后，藥劑外排停止，之后引入清洗水進(jìn)行清洗，將清潔水射入儲(chǔ)藥罐側(cè)壁進(jìn)行清洗，當(dāng)一個(gè)儲(chǔ)藥罐內(nèi)結(jié)垢厚度歸零時(shí)，清洗狀態(tài)停止，清洗廢液通過(guò)排水閥的打開(kāi)后將清洗后的廢水排放。

當(dāng)一個(gè)儲(chǔ)藥罐在進(jìn)行清洗流程前，由于其內(nèi)部藥劑已由外排泵注入另一個(gè)儲(chǔ)藥罐內(nèi)，當(dāng)一個(gè)儲(chǔ)藥罐在清洗時(shí)由另一個(gè)儲(chǔ)藥罐實(shí)現(xiàn)加藥功能，保證整套裝置的加藥不受單個(gè)儲(chǔ)藥罐的清洗所影響。

整套加藥裝置保證藥劑持續(xù)注入的同時(shí)，實(shí)現(xiàn)了更為智能的自動(dòng)清洗功能，由裝置儲(chǔ)藥罐內(nèi)壁的結(jié)垢厚度作為清洗與否的判別依據(jù)，更為直接高效。

以上所述僅是本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在不脫離本實(shí)用新型原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和潤(rùn)飾，這些改進(jìn)和潤(rùn)飾也應(yīng)視為本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。