1.一種硅片矯正設(shè)備，其特征在于：包括檢測(cè)裝置(1)、機(jī)架(2)和控制單元(3)，所述機(jī)架(2)上轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置有輥軸(4)，所述機(jī)架(2)上設(shè)有用于驅(qū)動(dòng)輥軸(4)轉(zhuǎn)的電機(jī)(5)，所述機(jī)架(2)上轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置有基板(6)，所述機(jī)架(2)上設(shè)有用于驅(qū)動(dòng)基板(6)轉(zhuǎn)動(dòng)的第一驅(qū)動(dòng)裝置(7)，所述基板(6)上開設(shè)有凹槽(8)，所述輥軸(4)位于所述凹槽(8)內(nèi)，所述基板(6)位于輥軸(4)軸線方向的一端滑動(dòng)設(shè)置有限位板(9)，所述機(jī)架(2)上設(shè)有用于驅(qū)動(dòng)限位板(9)滑動(dòng)的第二驅(qū)動(dòng)裝置(13)，所述基板(6)上設(shè)有隔板(10)，所述隔板(10)位于所述輥軸(4)的輸出端，所述基座上設(shè)有用于帶動(dòng)隔板(10)上升或者下降的第三驅(qū)動(dòng)裝置(11)，所述檢測(cè)裝置(1)位于所述機(jī)架(2)遠(yuǎn)離隔板(10)的一端且位于機(jī)架(2)上方，所述第一驅(qū)動(dòng)裝置(7)、第二驅(qū)動(dòng)裝置(13)、第三驅(qū)動(dòng)裝置(11)和檢測(cè)裝置(1)均與控制單元(3)信號(hào)連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片矯正設(shè)備，其特征在于：所述限位板(9)靠近輥軸(4)的一側(cè)設(shè)有緩沖橡膠墊(12)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片矯正設(shè)備，其特征在于：所述隔板(10)靠近輥軸(4)的一側(cè)設(shè)有緩沖橡膠墊(12)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片矯正設(shè)備，其特征在于：所述第一驅(qū)動(dòng)裝置(7)、第二驅(qū)動(dòng)裝置(13)和第三驅(qū)動(dòng)裝置(11)均為氣缸。