本發(fā)明涉及硅片生產(chǎn)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種硅片矯正設(shè)備。

背景技術(shù)：

光伏切割工序，切割完畢的硅片需逐片進(jìn)行插花籃或經(jīng)分選機(jī)檢測(cè)，一般這兩個(gè)工序均在輸送皮帶上進(jìn)行，并且都涉及到硅片的位置矯正問(wèn)題。傳統(tǒng)矯正設(shè)備均為通過(guò)與硅片兩側(cè)接觸使得硅片位置變化，由于硅片本身比較脆，且易碎，很容易既能夠硅片夾傷，導(dǎo)致硅片報(bào)廢，增加生產(chǎn)成本。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題是：為了解決傳統(tǒng)矯正設(shè)備均為通過(guò)與硅片兩側(cè)接觸使得硅片位置變化，由于硅片本身比較脆，且易碎，很容易既能夠硅片夾傷，導(dǎo)致硅片報(bào)廢，增加生產(chǎn)成本的問(wèn)題，現(xiàn)提供了一種硅片矯正設(shè)備。

本發(fā)明解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是：一種硅片矯正設(shè)備，包括檢測(cè)裝置、機(jī)架和控制單元，所述機(jī)架上轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置有輥軸，所述機(jī)架上設(shè)有用于驅(qū)動(dòng)輥軸轉(zhuǎn)的電機(jī)，所述機(jī)架上轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置有基板，所述機(jī)架上設(shè)有用于驅(qū)動(dòng)基板轉(zhuǎn)動(dòng)的第一驅(qū)動(dòng)裝置，所述基板上開(kāi)設(shè)有凹槽，所述輥軸位于所述凹槽內(nèi)，所述基板位于輥軸軸線方向的一端滑動(dòng)設(shè)置有限位板，所述機(jī)架上設(shè)有用于驅(qū)動(dòng)限位板滑動(dòng)的第二驅(qū)動(dòng)裝置，所述基板上設(shè)有隔板，所述隔板位于所述輥軸的輸出端，所述基座上設(shè)有用于帶動(dòng)隔板上升或者下降的第三驅(qū)動(dòng)裝置，所述檢測(cè)裝置位于所述機(jī)架遠(yuǎn)離隔板的一端且位于機(jī)架上方，所述第一驅(qū)動(dòng)裝置、第二驅(qū)動(dòng)裝置、第三驅(qū)動(dòng)裝置和檢測(cè)裝置均與控制單元信號(hào)連接。通過(guò)機(jī)架一側(cè)的檢測(cè)裝置，對(duì)硅片的位置形態(tài)進(jìn)行檢測(cè)，將檢測(cè)到的信號(hào)發(fā)送至控制單元，控制單元根據(jù)信號(hào)處理，當(dāng)硅片不需矯正時(shí)，直接通過(guò)輥軸輸送走，當(dāng)硅片需要矯正時(shí)，第三驅(qū)動(dòng)裝置帶動(dòng)隔板上升并阻隔硅片通過(guò)，同時(shí)第一驅(qū)動(dòng)裝置帶動(dòng)基板轉(zhuǎn)動(dòng)，同時(shí)第二驅(qū)動(dòng)裝置帶動(dòng)限位板向硅片滑動(dòng)，在基板的轉(zhuǎn)動(dòng)過(guò)程中，硅片在自身重力作用下向限位板方向滑動(dòng)，使得硅片的一側(cè)向限位板靠齊，同時(shí)限位板滑帶動(dòng)硅片到輸送位置，然后控制單元控制第一驅(qū)動(dòng)裝置和第二驅(qū)動(dòng)裝置恢復(fù)原有狀態(tài)，并使得基板恢復(fù)水平狀態(tài)，同時(shí)隔板收縮，使得硅片與輥軸接觸直接輸出，最后第三驅(qū)動(dòng)裝置帶動(dòng)限位板滑動(dòng)恢復(fù)原有狀態(tài)，等待下一片硅片的檢測(cè)。

為了防止硅片與限位板發(fā)生碰撞而導(dǎo)致硅片損傷的問(wèn)題，進(jìn)一步地，所述限位板靠近輥軸的一側(cè)設(shè)有緩沖橡膠墊。通過(guò)在限位板與硅片接觸的一側(cè)面設(shè)置緩沖橡膠墊，使得硅片直接作用與緩沖橡膠墊上，得到緩沖減震效果，防止硅片損壞。

為了防止硅片與隔板發(fā)生碰撞而導(dǎo)致硅片損傷的問(wèn)題，進(jìn)一步地，所述隔板靠近輥軸的一側(cè)設(shè)有緩沖橡膠墊。通過(guò)在隔板與硅片接觸的一側(cè)面設(shè)置緩沖橡膠墊，使得硅片直接作用與緩沖橡膠墊上，得到緩沖減震效果，防止硅片損壞。

為了便于維護(hù)，優(yōu)選地，所述第一驅(qū)動(dòng)裝置、第二驅(qū)動(dòng)裝置和第三驅(qū)動(dòng)裝置均為氣缸。由于第一驅(qū)動(dòng)裝置、第二驅(qū)動(dòng)裝置和第三驅(qū)動(dòng)裝置均為氣缸，氣缸結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，易于安裝和維護(hù)，適應(yīng)性強(qiáng)。

本發(fā)明的有益效果是：本發(fā)明硅片矯正設(shè)備在使用時(shí)，通過(guò)轉(zhuǎn)動(dòng)基板，由隔壁阻隔硅片的輸送，使得硅片在自身重量作用下與限位板接觸并矯正，再將基板轉(zhuǎn)動(dòng)恢復(fù)原有狀態(tài)將硅片輸出即可，矯正效率高，避免了傳統(tǒng)矯正設(shè)備均為通過(guò)與硅片兩側(cè)接觸使得硅片位置變化，由于硅片本身比較脆，且易碎，很容易既能夠硅片夾傷，導(dǎo)致硅片報(bào)廢，增加生產(chǎn)成本的問(wèn)題。

附圖說(shuō)明

下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)一步說(shuō)明。

圖1是本發(fā)明硅片矯正設(shè)備的主視圖；

圖2是本發(fā)明硅片矯正設(shè)備的俯視圖；

圖3是圖1中A-A剖視圖。

圖中：1、檢測(cè)裝置，2、機(jī)架，3、控制單元，4、輥軸，5、電機(jī)，6、基板，7、第一驅(qū)動(dòng)裝置，8、凹槽，9、限位板，10、隔板，11、第三驅(qū)動(dòng)裝置，12、緩沖橡膠墊，13、第二驅(qū)動(dòng)裝置。

具體實(shí)施方式

現(xiàn)在結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步詳細(xì)的說(shuō)明。這些附圖均為簡(jiǎn)化的示意圖，僅以示意方式說(shuō)明本發(fā)明的基本結(jié)構(gòu)，因此其僅顯示與本發(fā)明有關(guān)的構(gòu)成。

實(shí)施例

如圖1-3所示，一種硅片矯正設(shè)備，包括檢測(cè)裝置1、機(jī)架2和控制單元3，所述機(jī)架2上轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置有輥軸4，所述機(jī)架2上設(shè)有用于驅(qū)動(dòng)輥軸4轉(zhuǎn)的電機(jī)5，所述機(jī)架2上轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置有基板6，所述機(jī)架2上設(shè)有用于驅(qū)動(dòng)基板6轉(zhuǎn)動(dòng)的第一驅(qū)動(dòng)裝置7，所述基板6上開(kāi)設(shè)有凹槽8，所述輥軸4位于所述凹槽8內(nèi)，所述基板6位于輥軸4軸線方向的一端滑動(dòng)設(shè)置有限位板9，所述機(jī)架2上設(shè)有用于驅(qū)動(dòng)限位板9滑動(dòng)的第二驅(qū)動(dòng)裝置13，所述基板6上設(shè)有隔板10，所述隔板10位于所述輥軸4的輸出端，所述基座上設(shè)有用于帶動(dòng)隔板10上升或者下降的第三驅(qū)動(dòng)裝置11，所述檢測(cè)裝置1位于所述機(jī)架2遠(yuǎn)離隔板10的一端且位于機(jī)架2上方，所述第一驅(qū)動(dòng)裝置7、第二驅(qū)動(dòng)裝置13、第三驅(qū)動(dòng)裝置11和檢測(cè)裝置1均與控制單元3信號(hào)連接。所述第一驅(qū)動(dòng)裝置7、第二驅(qū)動(dòng)裝置13和第三驅(qū)動(dòng)裝置11均為氣缸。在機(jī)架2的兩端設(shè)有用于輸送硅片的輸送帶，檢測(cè)裝置1位于輸送帶的上方，檢測(cè)裝置1為掃描儀，掃描儀對(duì)硅片進(jìn)行圖形掃描，并將掃描過(guò)后的圖形發(fā)生制控制單元3處理，控制單元3根據(jù)處理后的結(jié)果來(lái)控制第一驅(qū)動(dòng)裝置7、第二驅(qū)動(dòng)裝置13和第三驅(qū)動(dòng)裝置11。

所述限位板9靠近輥軸4的一側(cè)設(shè)有緩沖橡膠墊12。緩沖橡膠墊12對(duì)硅片起到緩沖減振的作用。

所述隔板10靠近輥軸4的一側(cè)設(shè)有緩沖橡膠墊12。緩沖橡膠墊12對(duì)硅片起到緩沖減振的作用。

上述硅片矯正設(shè)備在運(yùn)用時(shí)，首先硅片由輸送帶輸入，通過(guò)檢測(cè)裝置1進(jìn)行檢測(cè)，檢測(cè)裝置1將檢測(cè)后的信號(hào)發(fā)送至控制單元3處理，當(dāng)硅片不需要矯正時(shí)，通過(guò)機(jī)架2上的輥軸4將基板6上的硅片輸送走；當(dāng)需要對(duì)硅片進(jìn)行矯正時(shí)，控制單元3控制第三驅(qū)動(dòng)裝置11處的氣缸，第三驅(qū)動(dòng)裝置11處的氣缸控制隔板10上升，并將硅片前行的通道阻隔，同時(shí)控制單元3控制第一驅(qū)動(dòng)裝置7處的氣缸，使得基板6在機(jī)架2上轉(zhuǎn)動(dòng)，基板6上的硅片跟隨轉(zhuǎn)動(dòng)，同時(shí)控制單元3控制第二驅(qū)動(dòng)裝置13處的氣缸，使得限位板9在基板6上滑動(dòng)并靠近硅片，當(dāng)基板6轉(zhuǎn)到一定角度時(shí)，硅片在自身重力作用下與限位板9的一側(cè)平齊，使得硅片自動(dòng)矯正，控制單元3控制第一驅(qū)動(dòng)裝置7和第三驅(qū)動(dòng)裝置11處的氣缸收縮，使得硅片與機(jī)架2上的輥軸4接觸，帶動(dòng)硅片輸出，最后控制單元3控制第二驅(qū)動(dòng)裝置13恢復(fù)原有狀態(tài)，帶下一片硅片進(jìn)行檢測(cè)。

上述依據(jù)本發(fā)明的理想實(shí)施例為啟示，通過(guò)上述的說(shuō)明內(nèi)容，相關(guān)工作人員完全可以在不偏離本項(xiàng)發(fā)明技術(shù)思想的范圍內(nèi)，進(jìn)行多樣的變更以及修改。本項(xiàng)發(fā)明的技術(shù)性范圍并不局限于說(shuō)明書(shū)上的內(nèi)容，必須要根據(jù)權(quán)利要求范圍來(lái)確定其技術(shù)性范圍。