本實(shí)用新型涉及硅片制造技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及硅片噴砂機(jī)用硅片輸送裝置。

背景技術(shù)：

目前國內(nèi)市場的金剛線多晶硅片表面過于光滑，不能直接用于制作太陽能電池片，而我公司經(jīng)過自主研發(fā)，通過對(duì)硅片的噴砂處理解決了這一世界性技術(shù)難題，但由于產(chǎn)能要求高，再加上金剛線多晶硅片的材料脆性及厚度超薄導(dǎo)致其易碎的特性，因此在輸送硅片時(shí)對(duì)硅片的方式固定提出了更高的要求，而目前國內(nèi)市場并沒有適合該硅片噴砂機(jī)的硅片輸送設(shè)備。

因此，針對(duì)以上不足，亟需提供一種與硅片噴砂機(jī)配套使用，且硅片固定速度快，并能減少碎片率的硅片輸送裝置。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

(一)要解決的技術(shù)問題

本實(shí)用新型的目的是供一種與硅片噴砂機(jī)配套使用的硅片輸送裝置，以滿足硅片噴砂機(jī)的產(chǎn)能要求，并減少硅片輸送過程中的破碎率。

(二)技術(shù)方案

為了解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型提供了一種硅片噴砂機(jī)用硅片輸送裝置，設(shè)置于噴槍模組下方，包括輸送架、真空載臺(tái)和傳動(dòng)裝置，所述真空載臺(tái)可移動(dòng)地放置于所述輸送架上，其中，所述真空載臺(tái)包括載臺(tái)體和固定盤，所述載臺(tái)體內(nèi)設(shè)有真空腔室，所述固定盤上設(shè)有硅片固定區(qū)域，所述固定盤蓋設(shè)于所述真空腔室上，所述硅片固定區(qū)域具有與所述真空腔室連通的用于固定硅片的多個(gè)通氣孔；所述輸送架具有上硅片端和下硅片端；所述傳動(dòng)裝置沿所述輸送架的長度方向設(shè)置，用于推動(dòng)所述真空載臺(tái)由所述輸送架的上硅片端移動(dòng)至下硅片端。

優(yōu)選的，所述傳動(dòng)裝置包括兩個(gè)傳動(dòng)單元，兩個(gè)所述傳動(dòng)單元分別設(shè)置于所述輸送架的兩側(cè)，其中，每個(gè)所述傳動(dòng)單元均包括主動(dòng)鏈輪、從動(dòng)鏈輪和鏈條，所述主動(dòng)鏈輪設(shè)置在所述下硅片端，所述從動(dòng)鏈輪設(shè)置于所述上硅片端，所述鏈條與所述主動(dòng)鏈輪和從動(dòng)鏈輪連接，且所述鏈條上設(shè)有卡塊；

其中，兩個(gè)所述傳動(dòng)單元的主動(dòng)鏈輪之間及從動(dòng)鏈輪之間均通過連接軸連接。

優(yōu)選的，所述輸送架包括兩根平行設(shè)置的輸送導(dǎo)軌，每根所述輸送導(dǎo)軌設(shè)有凹槽，在所述凹槽內(nèi)設(shè)有多個(gè)可轉(zhuǎn)動(dòng)滾輪，且所述滾輪的上表面不低于所述輸送導(dǎo)軌的上表面。

優(yōu)選的，還包括真空吸管，所述真空吸管的一端與真空泵連接，另一端與所述真空腔室可拆卸地連接，用于保持所述真空腔室內(nèi)的真空狀態(tài)，且所述真空吸管與所述真空腔室連接的一端隨所述真空載臺(tái)移動(dòng)。

優(yōu)選的，所述傳動(dòng)裝置沿所述輸送架的長度方向間隔地設(shè)有多個(gè)所述卡塊。

優(yōu)選的，包括多根真空吸管和與所述真空吸管數(shù)量相同的無桿氣缸，每個(gè)所述無桿氣缸均包括氣缸導(dǎo)軌和套設(shè)于所述氣缸導(dǎo)軌上的滑塊，每根所述真空吸管均相對(duì)應(yīng)地穿設(shè)固定于一個(gè)滑塊上，隨所述滑塊移動(dòng)。

優(yōu)選的，所述上硅片端設(shè)置有上料架，所述下硅片端設(shè)置有下料架，且所述下料架高于所述輸送架。

優(yōu)選的，在所述上硅片端設(shè)有用于檢測所述卡塊的光電開關(guān)；

在每根無桿氣缸上均設(shè)置一個(gè)用于控制滑塊移動(dòng)的行程開關(guān)；

在所述上料架上設(shè)置有用于推動(dòng)所述真空載臺(tái)的的上料氣缸，當(dāng)所述光電開關(guān)檢測到所述卡塊時(shí)，所述上料氣缸推動(dòng)所述真空載臺(tái)移動(dòng)，所述卡塊轉(zhuǎn)動(dòng)到所述真空載臺(tái)后側(cè)，推動(dòng)所述真空載臺(tái)向所述下硅片端移動(dòng)，同時(shí)復(fù)位相對(duì)應(yīng)的行程開關(guān)，控制所述無桿氣缸與所述真空載臺(tái)同步移動(dòng)。

優(yōu)選的，所述固定盤上間隔地設(shè)置有多個(gè)硅片固定區(qū)域，每個(gè)所述硅片固定區(qū)域?qū)?yīng)固定一塊硅片，且在每個(gè)所述硅片固定區(qū)域的邊角部均設(shè)有定位塊。

優(yōu)選的，所述載臺(tái)體底部設(shè)有與所述輸送架相配合的限位塊，用于防止所述真空載臺(tái)在移動(dòng)過程發(fā)生傾斜或者橫向移位。

(三)有益效果

本實(shí)用新型的上述技術(shù)方案具有如下優(yōu)點(diǎn)：本實(shí)用新型提供硅片噴砂機(jī)用硅片輸送裝置，包括輸送架、真空載臺(tái)和傳動(dòng)裝置，所述真空載臺(tái)可移動(dòng)地放置于所述輸送架上，其中，所述真空載臺(tái)包括載臺(tái)體和固定盤，所述載臺(tái)體內(nèi)設(shè)有真空腔室，所述固定盤上設(shè)有硅片固定區(qū)域，所述固定盤蓋設(shè)于所述真空腔室上，所述硅片固定區(qū)域具有與所述真空腔室連通的用于固定硅片的多個(gè)通氣孔；所述輸送架具有上硅片端和下硅片端；所述傳動(dòng)裝置沿所述輸送架的長度方向設(shè)置，用于推動(dòng)所述真空載臺(tái)由所述輸送架的上硅片端移動(dòng)至下硅片端，該輸送裝置利用真空載臺(tái)固定硅片，無需對(duì)硅片做其它緊固夾持操作，提高了固定硅片的速度，進(jìn)而提高硅片的輸送效率，同時(shí)也降低了固定硅片過程中出現(xiàn)硅片擦痕和破碎的幾率。

附圖說明

圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例一輸送裝置結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是本實(shí)用新型實(shí)施例一真空載臺(tái)結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3是本實(shí)用新型實(shí)施例一具有擋板的輸送裝置結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4是本實(shí)用新型實(shí)施例二輸送裝置的局部結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5是本實(shí)用新型實(shí)施例二真空載臺(tái)結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中：1：噴砂機(jī)架體；2：噴槍模組；3：輸送架；31：輸送導(dǎo)軌；311：滾輪；4：真空載臺(tái)；41：載臺(tái)體；411：抽氣孔；42：固定盤；421：硅片固定區(qū)域；43：限位塊；5：傳動(dòng)單元；51：主動(dòng)鏈輪；52：從動(dòng)鏈輪；53：鏈條；54：卡塊；6：真空吸管。7：無桿氣缸；71：氣缸導(dǎo)軌；72：滑塊；8：上料架；9：上料氣缸；10：下料架；11：光電開關(guān)；12：擋板；121：長孔；13：定位塊；14：連接板；15：主動(dòng)輪；16：皮帶；17：從動(dòng)輪。

具體實(shí)施方式

為使本實(shí)用新型實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例是本實(shí)用新型的一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。

實(shí)施例一

如圖1所示，本實(shí)用新型實(shí)施例提供的硅片噴砂機(jī)用硅片輸送裝置，設(shè)置于噴槍模組2的下方，其包括輸送架3、放置在輸送架3上的真空載臺(tái)4和推動(dòng)真空載臺(tái)4沿輸送架3移動(dòng)的傳動(dòng)裝置，其中，輸送架3包括兩根平行設(shè)置的輸送導(dǎo)軌31，真空載臺(tái)4放置在兩根輸送導(dǎo)軌31上，傳動(dòng)裝置沿兩根輸送導(dǎo)軌31的長度方向設(shè)置，且該傳動(dòng)裝置上設(shè)置有卡塊54，該卡塊54高于輸送導(dǎo)軌311的上表面(與真空載臺(tái)底部接觸的平面)，推動(dòng)真空載臺(tái)4沿輸送導(dǎo)軌31向下硅片端移動(dòng)，利用兩根平行間隔設(shè)置輸送導(dǎo)軌，不但結(jié)構(gòu)簡單，輸送方便，而且可以在兩根輸送導(dǎo)軌下方設(shè)置砂漿回收裝置或者砂漿攪拌裝置，將噴射出的多余砂漿直接回收或者重新利用。

需要說明的是，輸送架3的上硅片端是將硅片放置到輸送架上時(shí)的一端，與上硅片端相對(duì)的輸送架3的另一端為輸送架3的下硅片端，即噴砂處理后將硅片取下的一端。

如圖2所示，真空載臺(tái)4包括載臺(tái)體31和固定盤42，在載臺(tái)體41內(nèi)設(shè)有真空腔室，在固定盤42上設(shè)有硅片固定區(qū)域421，每個(gè)硅片固定區(qū)域421包括多個(gè)通氣孔，使用時(shí)，固定盤42蓋設(shè)于載臺(tái)體41上，將真空腔室內(nèi)的空氣抽出，并保持真空狀態(tài)，通氣孔與真空腔室連通，將硅片放置于硅片固定區(qū)域421，在氣壓的作用下，硅片固定于固定盤42上，無需對(duì)硅片做其它緊固夾持操作，提高了固定硅片的速度，進(jìn)而提高硅片的輸送效率，同時(shí)也降低了固定硅片過程中出現(xiàn)硅片擦痕和破碎的幾率。

具體的，如圖2所示，載臺(tái)體41的一側(cè)設(shè)有與真空腔室連通的抽氣孔411，將真空腔室抽真空后，用氣塞密封，硅片即被固定，在取硅片時(shí)，先拔掉氣塞，待真空腔室與外界氣壓逐漸平衡，硅片即可取下。

優(yōu)選的，每個(gè)硅片固定區(qū)域421處通氣孔根據(jù)硅片的大小和位置，均勻分布，從而使硅片受力均勻，防止硅片局部變形。

如圖1和圖3所示，傳動(dòng)裝置沿輸送架的長度方向設(shè)置，并勻速轉(zhuǎn)動(dòng)，在本實(shí)施例中，傳動(dòng)裝置包括兩個(gè)傳動(dòng)單元5，兩個(gè)傳動(dòng)單元5分別設(shè)置于述兩根輸送導(dǎo)軌31的外側(cè)，其中，每個(gè)傳動(dòng)單元5均包括主動(dòng)鏈輪51、從動(dòng)鏈輪52和鏈條53，主動(dòng)鏈輪51設(shè)置在輸送架3的下硅片端，從動(dòng)鏈輪52設(shè)置在輸送架3的上硅片端，兩個(gè)傳動(dòng)單元5的主動(dòng)鏈輪51通過接軸連接，兩個(gè)傳動(dòng)單元5的從動(dòng)鏈輪52也通過連接軸連接，使兩個(gè)傳動(dòng)單元5能夠同步傳動(dòng)，鏈條53與主動(dòng)鏈輪51和從動(dòng)鏈輪52相配合，使從動(dòng)鏈輪52隨著主動(dòng)鏈輪51同步轉(zhuǎn)動(dòng)，卡塊54設(shè)置于鏈條53的外表面，當(dāng)卡塊54轉(zhuǎn)動(dòng)到鏈條53的上側(cè)時(shí)高于輸送導(dǎo)軌31的上表面，兩個(gè)傳動(dòng)單元5中，鏈條53上的卡塊54位置相同，即在推動(dòng)真空載臺(tái)4時(shí)，兩個(gè)鏈條53上的卡塊54分別緊貼真空載臺(tái)4的兩側(cè)，此時(shí)真空載臺(tái)4的下表面與輸送軌道31的上表面接觸，對(duì)真空載臺(tái)4起到支撐作用，隨著鏈條53的轉(zhuǎn)動(dòng)，兩個(gè)鏈條53上的卡塊54均貼緊真空載臺(tái)4，推動(dòng)真空載臺(tái)4由輸送架3的上硅片端經(jīng)噴砂區(qū)域(噴槍模組2的下側(cè))后向下硅片端移動(dòng)。

為了減少真空載臺(tái)4與輸送導(dǎo)軌31之間的摩擦，從而進(jìn)一步提高硅片的輸送效率，優(yōu)選的，如圖1和圖3所示，在輸送導(dǎo)軌31的上側(cè)開設(shè)凹槽，在該凹槽內(nèi)設(shè)置多個(gè)可轉(zhuǎn)動(dòng)滾輪311，且滾輪311的上表面不低于輸送導(dǎo)軌31的上表面，傳動(dòng)裝置帶動(dòng)真空載臺(tái)4向下硅片端移動(dòng)過程中，真空載臺(tái)4與多個(gè)滾輪311的上表面接觸，真空載臺(tái)4向下硅片端的運(yùn)動(dòng)趨勢，使與真空載臺(tái)4相接觸的滾輪311在原位置發(fā)生轉(zhuǎn)動(dòng)，利用滾輪311的弧面減少與真空載臺(tái)4的接觸面積，利用滾輪311滾動(dòng)給真空載臺(tái)向下硅片端移動(dòng)的力，減少真空載臺(tái)4與輸送導(dǎo)軌31之間的摩擦力，進(jìn)一步提高硅片的輸送效率。

進(jìn)一步的，為了防止真空載臺(tái)4在移動(dòng)過程發(fā)生傾斜或者橫向移位，優(yōu)選的，如圖2所示，在載臺(tái)體41的下側(cè)與兩根輸送導(dǎo)軌31相對(duì)應(yīng)的位置分別設(shè)置兩個(gè)限位塊43，兩個(gè)限位塊43與載臺(tái)體41的底部組成限位槽，每個(gè)限位槽卡住一根輸送導(dǎo)軌31，使真空載臺(tái)4只能沿輸送導(dǎo)軌31的長度方向移動(dòng)，避免了真空載臺(tái)4在移動(dòng)過程發(fā)生傾斜或者橫向移位。

為了使真空腔室保持真空狀態(tài)，從而使硅片固定的更牢固，優(yōu)選的，如圖1所示，設(shè)置真空吸管6，且真空吸管的一端均與真空泵(圖中未示出)連接，另一端通過抽氣孔411與真空腔室連通，用于保持真空腔室內(nèi)的真空狀態(tài)，其中，真空泵采用固定位置安裝，真空吸管6有足夠的長度，使其與真空腔室連接的一端可以隨真空載臺(tái)4移動(dòng)至輸送架3的下硅片端。

當(dāng)真空載臺(tái)4運(yùn)動(dòng)至下硅片端后，拔掉真空吸管6，將真空載臺(tái)4取走，待真空腔室內(nèi)的氣壓逐漸與外界平衡后，將噴砂處理后的硅片從真空載臺(tái)4上取下，而為了實(shí)現(xiàn)真空吸管6的循環(huán)使用，即將拔掉的真空吸管6自動(dòng)回位至上硅片端，且能夠盡量減少人工操作，優(yōu)選的，如圖1和圖3所示，在輸送架3的一側(cè)設(shè)置無桿氣缸7，該無桿氣缸7包括氣缸導(dǎo)軌71和套設(shè)于氣缸導(dǎo)軌71上的滑塊72，在滑塊72上設(shè)置有用于固定真空吸管6的固定扣(圖中未示出)，在本實(shí)施例中，該固定扣為固定在滑塊72上的圓環(huán)，真空吸管6從圓環(huán)內(nèi)穿過，當(dāng)真空載臺(tái)4移動(dòng)時(shí)，滑塊72帶動(dòng)真空吸管6與真空載臺(tái)4同步移動(dòng)，當(dāng)真空載臺(tái)4移動(dòng)至下硅片端后，拔掉真空吸管6，滑塊72帶動(dòng)該真空吸管6向回運(yùn)動(dòng)至上硅片端，以待下次使用。

進(jìn)一步的，為了提高硅片的輸送效率，如圖1和圖3所示，在鏈條53上設(shè)置多個(gè)卡塊53，真空載臺(tái)4放置于兩個(gè)相鄰的卡塊54之間，其中，兩個(gè)卡塊54之間的距離不能小于真空載臺(tái)4的寬度，即必需要有足夠的空間放置真空載臺(tái)4。在輸送裝置工作時(shí)，每當(dāng)前一個(gè)放置的真空載臺(tái)4在向下硅片端運(yùn)動(dòng)一段距離后，就再次向輸送導(dǎo)軌31上放置一個(gè)真空載臺(tái)4，相鄰的兩個(gè)真空載臺(tái)4要保持合適的距離，并依次經(jīng)過噴砂區(qū)域，兩個(gè)相鄰的真空載臺(tái)4之間的距離根據(jù)噴砂的速度、真空載臺(tái)的移動(dòng)速度及噴砂處理的效果進(jìn)行調(diào)整，在能夠保證噴砂效果的前提下，盡可能的縮小兩個(gè)相鄰真空載臺(tái)4的間距，使硅片在噴砂區(qū)域有足夠的時(shí)間和空間完成噴砂。

如圖1所示，為了使每個(gè)真空載臺(tái)在運(yùn)送硅片時(shí)均能更好的保持真空狀態(tài)，設(shè)置多根真空吸管6，同時(shí)相對(duì)應(yīng)的設(shè)置多個(gè)平行間隔排布無桿氣缸7，其中，每個(gè)無桿氣缸7的滑塊72上均固定一根真空吸管6，每個(gè)真空吸管6的其中一端與真空泵連接，另一端與任意一個(gè)真空載臺(tái)4連接，即真空吸管6和真空載臺(tái)4均循環(huán)使用，兩者之間隨機(jī)配對(duì)，使在輸送導(dǎo)軌31上相間隔的放置多個(gè)真空載臺(tái)4均能保持真空狀態(tài)，多個(gè)真空載臺(tái)4在持續(xù)保持真空狀態(tài)的情況下依次通過噴砂區(qū)域，在達(dá)到很好的硅片固定效果的同時(shí)，進(jìn)一步提高硅片的輸送效率。

如圖1所示，為了方便真空吸管6與真空載臺(tái)4連接安裝，在上硅片端設(shè)置上料架8，具體的，輸送導(dǎo)軌31的上硅片端的端部與上料架8的連接，從動(dòng)鏈輪52安裝在距離上硅片端的端部有一定距離的位置，使最靠近上硅片端端部的卡塊54距離上硅片端的端部還有一段距離(至少留有可以放置真空載臺(tái)的距離)，將放有硅片的真空載臺(tái)4放置到輸送導(dǎo)軌31上，此時(shí)真空載臺(tái)4位于卡54塊的前側(cè)，傳動(dòng)裝置不會(huì)影響到真空載臺(tái)4，將真空吸管6與真空腔室連通，然后將連接有真空吸管6的真空載臺(tái)4放置到其中一個(gè)卡塊54后側(cè)，卡塊54推動(dòng)真空載臺(tái)4向下硅片端運(yùn)動(dòng)。

如圖1所示，在下硅片端設(shè)置下料架10，且該下料架10高于輸送導(dǎo)軌31的上表面，該下料架10靠近主動(dòng)鏈輪51，鏈條53發(fā)生轉(zhuǎn)向時(shí)，真空載臺(tái)4移動(dòng)到此處，被下料架10阻擋，防止真空載臺(tái)4在鏈條53轉(zhuǎn)向時(shí)掉落，并對(duì)真空載臺(tái)4起到一定減速的作用，方便真空載臺(tái)4的取出，將取出的真空載臺(tái)4放置在下料架10上，拔掉真空吸管6，該真空吸管6隨滑塊72做復(fù)位運(yùn)動(dòng)，回到上硅片端，以待下次使用，真空載臺(tái)4則放置到指定位置，隨著真空腔室內(nèi)的氣壓逐漸恢復(fù)時(shí)，將硅片取下，然后真空載臺(tái)4送到上硅片端，以待下次使用。

優(yōu)選的，如圖3所示，在無桿氣缸7和輸送架3之間設(shè)置擋板12，優(yōu)選的，擋板12為U型或者L型，該擋板12與噴砂機(jī)架體1連接形成腔室，無桿氣缸7均位于該腔室內(nèi)，該擋板12上開設(shè)有長孔121，該長孔121沿輸送導(dǎo)軌31的長度方向設(shè)置，使真空吸管6在隨真空載臺(tái)4移動(dòng)時(shí)，能夠沿長孔121移動(dòng)，每根真空吸管6均對(duì)應(yīng)一個(gè)長孔121，真空吸管6的一端從一個(gè)長孔121伸出與真空載臺(tái)4連接，并沿長孔121隨真空載臺(tái)4移動(dòng)，避免在移動(dòng)過程中真空吸管6之間或者真空吸管6與其它零位件之間發(fā)生纏繞。

為了使上料平穩(wěn)連續(xù)，并減少人工操作，提高工作效率，優(yōu)選的，在上硅片端設(shè)置光電開關(guān)11和行程開關(guān)(圖中未示出)，該光電開關(guān)11能夠檢測到上硅片端的位于鏈條下側(cè)轉(zhuǎn)向處附近區(qū)域的卡塊54，行程開關(guān)設(shè)置在無桿氣缸7上，且每個(gè)無桿氣缸7均對(duì)應(yīng)一個(gè)行程開關(guān)，當(dāng)滑塊72從下硅片端返回至上硅片端時(shí)，滑塊72與行程開關(guān)接觸，行程開關(guān)斷開，該滑塊72靜止在此處，以待下次使用。

如圖1所示，在上料架8上設(shè)置一個(gè)上料氣缸9，當(dāng)光電開關(guān)10檢測到卡塊54時(shí)，上料氣缸9開始工作，將真空載臺(tái)4向前推動(dòng)，此時(shí)剛才所檢測到的卡塊54轉(zhuǎn)動(dòng)到真空載臺(tái)4的前側(cè)，并與真空載臺(tái)4接觸，在這段時(shí)間內(nèi)，人工或自動(dòng)控制相對(duì)應(yīng)有行程開關(guān)復(fù)位，使與當(dāng)前真空載臺(tái)4相對(duì)的無桿氣缸7工作，滑塊72帶動(dòng)真空吸管6沿氣缸導(dǎo)軌71與真空載臺(tái)4同步移動(dòng)至下硅片端。

如圖2所示，多腔室的載臺(tái)體41為多個(gè)具有獨(dú)立的真空腔室載臺(tái)體41通過連接板14固定連接在一起，可方便調(diào)節(jié)真空載臺(tái)可攜帶硅片的數(shù)量，固定盤42上與每個(gè)真空腔室對(duì)應(yīng)的位置均設(shè)有一個(gè)由多個(gè)通氣孔組成的硅片固定區(qū)域421，當(dāng)個(gè)別真空腔室損壞時(shí)，可以局部更換，節(jié)約成本。

為了進(jìn)一步提高硅片的固定速度，如圖2所示，優(yōu)選的，在硅片固定區(qū)域421的邊角設(shè)置兩個(gè)定位塊13，兩個(gè)定位塊13沿垂直的兩個(gè)相鄰邊設(shè)置，放置硅片時(shí)，將硅片相鄰的兩個(gè)邊緊貼兩個(gè)定位塊13即可完成定位，提高硅片的放置速度。

在本實(shí)施例中，無桿氣缸7采用磁耦式無桿氣缸。

實(shí)施例二

如圖4和圖5所示，本實(shí)施例二與實(shí)施例一基本相同，相同之處不再贅述，不同之處在于：傳動(dòng)裝置設(shè)置在兩根輸送導(dǎo)軌31之間，且采用皮帶傳動(dòng)，該傳動(dòng)裝置包括主動(dòng)輪15、從動(dòng)輪17和皮帶16，該皮帶的外表面設(shè)置卡塊54，使用時(shí)，將固定有硅片的真空載臺(tái)4放置在輸送導(dǎo)軌31上，此時(shí)兩根輸送導(dǎo)軌31的上表面與真空載臺(tái)4的下表面接觸，對(duì)真空載臺(tái)4起到支撐作用，隨著皮帶的轉(zhuǎn)動(dòng)，卡塊54貼緊真空載臺(tái)，并推動(dòng)真空載臺(tái)4由上輸送架3的上硅片端經(jīng)噴砂區(qū)域進(jìn)行噴砂處理后向下硅片端運(yùn)動(dòng)。

如圖5所示，為了提高真空載臺(tái)4運(yùn)載硅片的能力，并保證對(duì)硅片固定力，載臺(tái)體41內(nèi)設(shè)置多個(gè)真空腔室，固定盤42上與每個(gè)真空腔室對(duì)應(yīng)的位置均設(shè)有一個(gè)由多個(gè)通氣孔組成的硅片固定區(qū)域421，即每個(gè)真空腔室對(duì)應(yīng)固定一塊硅片，在保證運(yùn)載能力的情況下，較小的真空腔室更易達(dá)到并維持真空狀態(tài)。

如圖5所示，在真空載臺(tái)4的下側(cè)設(shè)置設(shè)兩塊限位塊43，且兩塊限位塊43分別位于兩根輸送導(dǎo)軌31的外側(cè)，并緊貼輸送導(dǎo)軌31，即形成一個(gè)相對(duì)較大的限位槽卡住輸送導(dǎo)軌31，避免了真空載臺(tái)4在移動(dòng)過程發(fā)生傾斜或者橫向移位。

本實(shí)施例中的無桿氣缸7采用機(jī)械式無桿氣缸。

最后應(yīng)說明的是：以上實(shí)施例僅用以說明本實(shí)用新型的技術(shù)方案，而非對(duì)其限制；盡管參照前述實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行了詳細(xì)的說明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解：其依然可以對(duì)前述各實(shí)施例所記載的技術(shù)方案進(jìn)行修改，或者對(duì)其中部分技術(shù)特征進(jìn)行等同替換；而這些修改或者替換，并不使相應(yīng)技術(shù)方案的本質(zhì)脫離本實(shí)用新型各實(shí)施例技術(shù)方案的精神和范圍。