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一種低輻射鍍膜玻璃的制作方法

文檔序號:12101699閱讀:359來源:國知局
一種低輻射鍍膜玻璃的制作方法與工藝

本發(fā)明涉及一種玻璃產(chǎn)品,具體涉及一種低輻射鍍膜玻璃。



背景技術:

鍍膜玻璃(Reflective glass)也稱反射玻璃。鍍膜玻璃是在玻璃表面涂鍍一層或多層金屬、合金或金屬化合物薄膜,以改變玻璃的光學性能來滿足某種特定要求。鍍膜玻璃按產(chǎn)品的不同特性,可分為熱反射玻璃、低輻射玻璃(Low-E)、導電膜玻璃等。應提倡國家的節(jié)能環(huán)保及減排的要求,低輻射玻璃的使用最為普遍。

低輻射玻璃也稱Low-E玻璃,它是采用真空磁控濺射方法在玻璃表面上鍍上含有一層或兩層甚至三層銀層的膜系,來降低能量吸收或控制室內(nèi)外能量交換,保障生活、工作的舒適性,并以此達到環(huán)保節(jié)能的目的。在建筑應用中,Low-E玻璃的使用可以達到“冬暖夏涼”的效果,具有優(yōu)異的隔熱、保溫性能效果。與普通單層玻璃相比,低輻射鍍膜玻璃可以節(jié)能60%以上,可廣泛應用于建筑門窗及車窗上。應消費者的需求,目前市場上各種功能結構的低輻射鍍膜玻璃,如授權公告號為CN101585667B的中國發(fā)明專利公開了一種可烘彎低輻射鍍膜玻璃,其膜層結構自玻璃基板向外依次為:玻璃基板、過渡層、第一電介質(zhì)層、低輻射層、第二電介質(zhì)層及保護層;所述第一電介質(zhì)層為ZnSnOx/TiOy膜層結構,ZnSnOx膜層厚度為30-40nm,TiOy膜層厚度為1.5-3nm;所述第二層電介質(zhì)層為TiOy/ZnSnOx膜層結構,TiOy膜層厚度為1.5-3nm,ZnSnOx膜層厚度為30-40nm。該結構的低輻射鍍膜玻璃雖然具有較高的沉積效率和耐烘彎的特點,但其膜層的均勻性差、透光性不夠高以及低輻射層(即銀膜層)的穩(wěn)定性較差,大大影響了玻璃制品的使用壽命。此外,上述鍍膜玻璃的隔熱保溫效果較差,并不適用于高緯度的寒冷地區(qū)使用。



技術實現(xiàn)要素:

針對上述的不足,本發(fā)明所要解決的技術問題是提供一種結構簡單、使用壽命長的低輻射鍍膜玻璃,它不僅具有低輻射率、透光性高的特點,還有較好的隔熱保溫效果。

為達到上述目的,本發(fā)明通過以下技術方案實現(xiàn):

一種低輻射鍍膜玻璃,包括玻璃基片,自所述玻璃基片的表面向外依次沉積形成第一電介質(zhì)層、低輻射層、第二電介質(zhì)層及保護層,在第一電介質(zhì)層與低輻射層之間還設有穩(wěn)定電介質(zhì)層,所述穩(wěn)定電介質(zhì)層為ZnO或NiCr膜層結構,ZnO膜層厚度為7-11nm,NiCr膜層為3-9nm;所述低輻射層為AgTi膜層結構,AgTi膜層厚度為12-20nm。

上述方案中,進一步地,所述第一電介質(zhì)層可以為TiO2或SnO2膜層結構,TiO2膜層厚度為2-5nm,SnO2膜層厚度為6-10nm。

上述方案中,進一步地,所述第二電介質(zhì)層可以為ZnO膜層結構,ZnO膜層厚度為15-28nm。

上述方案中,所述保護層可以為TiO2或SnO2膜層結構,TiO2膜層厚度為8-15nm,SnO2膜層厚度為5-12nm。

上述方案中,所述玻璃基片可以為浮法玻璃,為提高鍍膜玻璃的隔熱效果,可在與低輻射層相對的表面上設有一層透明隔熱薄膜。

上述方案中,所述玻璃基片可以為中空玻璃。

本發(fā)明的有益效果為:

1、本發(fā)明通過采用的低輻射層為AgTi膜沉積而成,并在在第一電介質(zhì)層與低輻射層之間還設有穩(wěn)定電介質(zhì)層,使得制得的鍍膜玻璃不僅具有很低的輻射率和較高遮蔽系數(shù),能夠最大限度地利用太陽能;此外,還使鍍膜玻璃的內(nèi)部具有優(yōu)良、穩(wěn)定的物理特性性,使用壽命大大延長;

2、本發(fā)明采用的玻璃基片為中空玻璃或內(nèi)側面設有透明隔熱薄膜的浮法玻璃,有效地增強了鍍膜玻璃的隔熱隔音效果,適用于冬季寒冷的北方地區(qū)。

附圖說明

圖1為本低輻射鍍膜玻璃內(nèi)部的一種剖視結構示意圖。

圖2為本低輻射鍍膜玻璃內(nèi)部的另一種剖視結構示意圖。

圖中標號為:1、玻璃基片,2、第一電介質(zhì)層,3、穩(wěn)定電介質(zhì)層,4、低輻射層,5、第二電介質(zhì)層,6、保護層,7、透明隔熱薄膜。

具體實施方式

下面結合具體實施例和附圖對本發(fā)明作進一步的解釋說明,但不用以限制本發(fā)明。

實施例1

如圖1所示,一種低輻射鍍膜玻璃,包括玻璃基片1,自所述玻璃基片1的表面向外依次沉積形成第一電介質(zhì)層2、低輻射層4、第二電介質(zhì)層5及保護層6,在第一電介質(zhì)層2與低輻射層4之間還設有穩(wěn)定電介質(zhì)層3。本實施例中,所述穩(wěn)定電介質(zhì)層3為ZnO或NiCr膜層結構,其中ZnO膜層厚度為7-11nm,NiCr膜層為3-9nm。所采用的低輻射層4具體為AgTi膜層結構,AgTi膜層厚度為12-20nm。

進一步地,所述第一電介質(zhì)層2具體為TiO2或SnO2膜層結構,TiO2膜層厚度為2-5nm,SnO2膜層厚度為6-10nm。所述第二電介質(zhì)層5具體為ZnO膜層結構,ZnO膜層厚度為15-28nm。而所采用的保護層6具體為TiO2或SnO2膜層結構,TiO2膜層厚度為8-15nm,SnO2膜層厚度為5-12nm。

本實施例中,所述玻璃基片1具體為中空玻璃。充分利用中空玻璃具有良好的光學性能、保溫隔熱及放結露的特性。

實施例2

如圖2所示,與實施例1所不同的是,所述低輻射鍍膜玻璃上采用的玻璃基片1具體為浮法玻璃,并在與低輻射層4相對的表面上設有一層透明隔熱薄膜7。所述透明隔熱薄膜7可以為現(xiàn)有納米ITO薄膜。

本結構的低輻射鍍膜玻璃,可見光透射比能夠保持在80-84%之間,輻射率卻可以降至0.05-0.06,可與現(xiàn)有雙銀膜系玻璃相比,遮蔽系數(shù)較高,能夠更多地利用太陽能,非常適用于冬季寒冷的北方地區(qū)。

以上僅為說明本發(fā)明的實施方式,并不用于限制本發(fā)明,對于本領域的技術人員來說,凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi),所作的任何修改、等同替換、改進等,均應包含在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。

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