1.一種用十二烷基三乙氧基硅烷制備疏水SiO2增透膜的方法,其特征在于,用十二烷基三乙氧基硅烷與正硅酸乙酯雜化來制備疏水的SiO2增透膜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用十二烷基三乙氧基硅烷制備疏水SiO2增透膜的方法,其特征在于,具體步驟如下:
(1)雜化溶膠的制備:將正硅酸乙酯、十二烷基三乙氧基硅烷、無水乙醇和氨水按質(zhì)量比11.0-15.6:1-8:130-200:3.6-6.6混合加入到密閉的玻璃容器中,先在25-50℃攪拌0.5-12 h,然后在20-40℃陳化3-30天;
(2)在環(huán)境相對(duì)濕度為20%以下,采用浸漬-提拉法在清洗干凈的基片上鍍膜,所得的膜層即為疏水的SiO2增透膜。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用十二烷基三乙氧基硅烷制備疏水SiO2增透膜的方法,其特征在于,正硅酸乙酯:十二烷基三乙氧基硅烷:無水乙醇:氨水質(zhì)量比為13: 3.45:130:3.6。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用十二烷基三乙氧基硅烷制備疏水SiO2增透膜的方法,其特征在于,攪拌的溫度為30℃,時(shí)間為2 h。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用十二烷基三乙氧基硅烷制備疏水SiO2增透膜的方法,其特征在于,混合溶膠的恒溫陳化時(shí)間為6天。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用十二烷基三乙氧基硅烷制備疏水SiO2增透膜的方法,其特征在于,混合溶膠的陳化溫度為25℃。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用十二烷基三乙氧基硅烷之別疏水的SiO2增透膜的方法,其特征在于,鍍膜的環(huán)境相對(duì)濕度為20%。
8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用十二烷基三乙氧基硅烷制備疏水的SiO2增透膜的方法,其特征在于,鍍膜的提拉速度為50-200 mm/min。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一所述的用十二烷基三乙氧基硅烷制備疏水的SiO2增透膜的方法,其特征在于,所述十二烷基三乙氧基硅烷為正十二烷基三乙氧基硅烷。