本發(fā)明屬于制備疏水的SiO2增透膜技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及用一種十二烷基三乙氧基硅烷制備SiO2增透膜的方法。
背景技術(shù):
根據(jù)菲涅爾反射原理,光透過兩種不同折射率的物質(zhì)必會(huì)引起反射。反射會(huì)降低光學(xué)元件對(duì)光的利用率,進(jìn)而降低效能。在光學(xué)元件上鍍上增透膜可以有效地減少光的反射,提高光的利用率。溶膠-凝膠法制備的SiO2增透膜是目前研究的熱點(diǎn),它因具有高的透過性、高的激光損傷閾值和結(jié)構(gòu)可控等優(yōu)點(diǎn),在高能激光系統(tǒng)和太陽能系統(tǒng)等光學(xué)領(lǐng)域應(yīng)用有幾十年的歷史了。但是溶膠-凝膠法制備的SiO2增透膜是由SiO2粒子隨機(jī)堆積而成的,粒子之間和粒子內(nèi)部存在著大量的孔隙,加上SiO2粒子表面豐富的羥基,這種極性多孔的結(jié)構(gòu)導(dǎo)致增透膜容易從環(huán)境中吸收增塑劑等極性污染物,最終引起增透膜光學(xué)性能的下降。有機(jī)-無機(jī)雜化法是一種簡易快速的改善增透膜疏水性的方法。目前,采用十二烷基三乙氧基硅烷作為改性劑的研究未見報(bào)道。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本發(fā)明的目的旨在提供一種用十二烷基三乙氧基硅烷制備疏水SiO2增透膜的方法,提高增透膜的疏水性進(jìn)而提高其光學(xué)穩(wěn)定性,解決了現(xiàn)有技術(shù)中溶膠-凝膠法制備的SiO2增透膜中由于SiO2粒子上面含有大量的親水基團(tuán)羥基容易吸收環(huán)境中的水分和增塑劑等極性污染物,最終導(dǎo)致增透膜光學(xué)性能下降的問題。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明的技術(shù)方案是:
一種疏水SiO2增透膜的制備方法的具體步驟如下:
(1)雜化溶膠的制備:將正硅酸乙酯、十二烷基三乙氧基硅烷、無水乙醇和氨水按質(zhì)量比11.0-15.6:1-8:130-200:3.6-6.6混合加入到密閉的玻璃容器中,先在25-50℃攪拌0.5-12 h,然后在20-40℃陳化3-30天。
(2)在環(huán)境相對(duì)濕度20%以下,采用浸漬-提拉法以一定的提拉速度在清洗干凈的基片上鍍膜,所得的膜層即為疏水的SiO2增透膜。
一種如所述的方法制得的疏水SiO2增透膜,鍍膜的提拉速度為50-200 mm/min。
所述十二烷基三乙氧基硅烷為正十二烷基三乙氧基硅烷。
本發(fā)明的顯著優(yōu)點(diǎn):傳統(tǒng)的溶膠-凝膠法SiO2增透膜主要是采用正硅酸乙酯為硅源,堿催化條件下制備的多孔薄膜,其是由球狀的SiO2粒子在光伏玻璃上隨機(jī)堆積而成的,SiO2粒子內(nèi)部和粒子之間存在著大量的孔隙,因此有較低的折射率,但是水解的SiO2粒子上面含有大量的親水基團(tuán)羥基,這種極性多孔的結(jié)構(gòu)導(dǎo)致增透膜容易從環(huán)境中吸收增塑劑等極性污染物以及環(huán)境中的水分,最終導(dǎo)致增透膜光學(xué)性能下降。本發(fā)明采用有機(jī)-無機(jī)雜化法來提高SiO2增透膜疏水性,用疏水改性劑改性制備疏水SiO2增透膜,其過程簡單高效,能有提高SiO2增透膜疏水性和光學(xué)穩(wěn)定性。
附圖說明
圖1為實(shí)施例SiO2增透膜的接觸角。
具體實(shí)施方式
本發(fā)明用下列實(shí)施例來進(jìn)一步說明本發(fā)明,但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不限于下列實(shí)施例。
對(duì)比例1
(1)雜化溶膠的制備:將正硅酸乙酯、十二烷基三乙氧基硅烷、無水乙醇和氨水按質(zhì)量比15.6:0:130:3.6混合加入到密閉的玻璃容器中,先在30℃攪拌2 h,然后在25℃陳化6天。
(2)在環(huán)境濕度20%,采用浸漬-提拉法以一定的提拉速度在清洗干凈的基片上鍍膜,所得的膜層即為疏水的SiO2增透膜,鍍膜的提拉速度為50 mm/min。
實(shí)施例1
(1)雜化溶膠的制備:將正硅酸乙酯、十二烷基三乙氧基硅烷、無水乙醇和氨水按質(zhì)量比14.2:1.88:130:3.6混合加入到密閉的玻璃容器中,先在25℃攪拌12 h,然后在20℃陳化30天。
(2)在環(huán)境濕度20%,采用浸漬-提拉法以一定的提拉速度在清洗干凈的基片上鍍膜,所得的膜層即為疏水的SiO2增透膜,鍍膜的提拉速度為100 mm/min。
實(shí)施例2
(1)雜化溶膠的制備:將正硅酸乙酯、十二烷基三乙氧基硅烷、無水乙醇和氨水按質(zhì)量比13:3.45:130:3.6混合加入到密閉的玻璃容器中,先在30℃攪拌2 h,然后在25℃陳化6天。
(2)在環(huán)境濕度20%,采用浸漬-提拉法以一定的提拉速度在清洗干凈的基片上鍍膜,所得的膜層即為疏水的SiO2增透膜,鍍膜的提拉速度為150 mm/min。
實(shí)施例3
(1)雜化溶膠的制備:將正硅酸乙酯、十二烷基三乙氧基硅烷、無水乙醇和氨水按質(zhì)量比11.12:5.92:130:3.6混合加入到密閉的玻璃容器中,先在50℃攪拌0.5 h,然后在40℃陳化3天。
(2)在環(huán)境濕度20%,采用浸漬-提拉法以一定的提拉速度在清洗干凈的基片上鍍膜,所得的膜層即為疏水的SiO2增透膜,鍍膜的提拉速度為200 mm/min。
表1 實(shí)施例SiO2增透膜的中心波長、最大透過率
從表1可以看出,隨著十二烷基三乙氧基硅烷含量的增加,薄膜的透過率并沒有增加,當(dāng)含量為1.88時(shí),仍有起到增透的作用。
從圖1可以發(fā)現(xiàn),未改性增透膜的接觸角為73°。而采用十二烷基三乙氧基硅烷與正硅酸乙酯雜化后SiO2增透膜疏水性顯著地提高。
結(jié)合上面的透過率和接觸角分析,如果是應(yīng)用在對(duì)疏水性要求較高的場所,可以考慮適當(dāng)?shù)卦黾邮榛已趸柰榈暮?。而如果是?yīng)用在對(duì)透過率要求較高的場所,十二烷基三乙氧基硅烷加入的量應(yīng)適當(dāng)減少。
以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例,凡依本發(fā)明申請(qǐng)專利范圍所做的均等變化與修飾,皆應(yīng)屬本發(fā)明的涵蓋范圍。