1.一種鈦硅分子篩，掃描電鏡下呈片狀，片狀的厚度為10～2000納米，鈦硅分子篩的孔徑為0.30~0.6納米。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鈦硅分子篩，其特征在于片狀鈦硅分子篩晶粒的長(zhǎng)度為100~5000納米，寬度為50~4000納米，厚度為10～1000納米，鈦硅分子篩的孔徑為0.35~0.55納米。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鈦硅分子篩，其特征在于鈦硅分子篩為ETS-4、ETS-10、TS-1、TS-2中的一種。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鈦硅分子篩，其特征在于以鈦硅分子篩重量百分比計(jì)，鈦含量為0.1~20wt%。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的鈦硅分子篩，其特征在于以鈦硅分子篩重量百分比計(jì)，鈦含量為0.5~15wt%。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的鈦硅分子篩，其特征在于以鈦硅分子篩重量百分比計(jì)，鈦含量為5~10wt%，鈦硅分子篩的孔徑為0.35~0.40納米。
7.權(quán)利要求1所述的鈦硅分子篩的制備方法，硅源、鈦源、模板劑M和蒸餾水以按一定的配比制成溶液，其中溶液的摩爾配比為：SiO2∶(0.0001～0.5)TiO2∶(0～2)M∶(20～200)H2O，在80～200℃晶化溫度下，水熱晶化5～200小時(shí)，得到所述的鈦硅分子篩；其中，硅源為正硅酸乙酯、硅溶膠、氣相二氧化硅、白炭黑、硅酸鈉中的至少一種，鈦源為鈦酸四乙酯、鈦酸四丁酯、鈦酸四甲酯、二氧化鈦、三氯化鈦、四氯化鈦、晶紅石、硫酸鈦、硝酸鈦中的至少一種；模板劑為四乙基氫氧化按、四乙基溴化銨、四丙基溴化銨、四丙基溴化銨、十六烷及三甲基溴化銨、三乙胺、正丁胺、乙二胺或乙胺中的至少一種。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述鈦硅分子篩的制備方法，其特征在于溶液的摩爾配比為：SiO2∶(0.01～0.2)TiO2∶(0.01～1)M∶(40～100)H2O，合成溶液中還含有鈉離子，以合成溶液中氧化硅的摩爾數(shù)計(jì)，Na/Si摩爾比為0.1~2。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述鈦硅分子篩的制備方法，其特征在于合成溶液中還含有羧酸鹽、磺酸鹽、碳酸鹽、碳酸氫鹽、磷酸鹽、磷酸氫鹽或檸檬酸鹽中的至少一種陰離子表面活性劑；以氧化硅重量百分比計(jì)，其用量為0.1～20%。
10. 根據(jù)權(quán)利要求9所述鈦硅分子篩的制備方法，其特征在于陰離子表面活性劑選自草酸銨、乙酸銨、烷基苯磺酸鈉、碳酸氫銨、磷酸氫銨、磷酸氫二鈉檸檬酸銨中的至少一種，以氧化硅重量百分比計(jì)，其用量為0.5～5%。