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一種拋光機(jī)的上拋光盤的制作方法

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一種拋光機(jī)的上拋光盤的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及研磨機(jī)或拋光機(jī)的結(jié)構(gòu),具體涉及一種拋光機(jī)的上拋光盤。
【背景技術(shù)】
[0002]用于藍(lán)寶石襯底材料拋光機(jī)的下拋光盤,由于在拋光過(guò)程中會(huì)產(chǎn)生大量的熱,溫度的變化必然會(huì)導(dǎo)致拋光盤發(fā)生形變,進(jìn)而影響加工質(zhì)量,因此必須嚴(yán)格控制拋光盤的溫度。近年來(lái)藍(lán)寶石襯底晶片的尺寸趨向大直徑化,對(duì)藍(lán)寶石晶片的質(zhì)量要求也越來(lái)越嚴(yán),對(duì)于用來(lái)進(jìn)行藍(lán)寶石晶片拋光加工的拋光設(shè)備,必須嚴(yán)格控制拋盤的形變。
[0003]此前生產(chǎn)的單面拋光機(jī)的拋盤采用整體式結(jié)構(gòu),沒(méi)有進(jìn)行專門溫度控制的裝置,拋光加工過(guò)程中所產(chǎn)生的熱量主要靠拋光液帶走,屬于被動(dòng)式冷卻,拋盤溫度的變化不可控。而藍(lán)寶石襯底材料的應(yīng)用行業(yè)對(duì)藍(lán)寶石片的品質(zhì)要求比較高,對(duì)上下拋光盤進(jìn)行精密溫度控制是必需的,因此必須采用新的下盤結(jié)構(gòu),以便對(duì)拋盤進(jìn)行冷卻,達(dá)到溫度精確控制的目的。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004]本實(shí)用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)存在的以上問(wèn)題,提供一種拋光機(jī)的上拋光盤。
[0005]為實(shí)現(xiàn)上述目的,達(dá)到上述技術(shù)效果,本實(shí)用新型通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn):
[0006]一種拋光機(jī)的上拋光盤,包括上盤工作盤,所述上盤工作盤的上方設(shè)有上盤冷水盤,在所述上盤工作盤的和所述上盤冷水盤之間設(shè)有分水盤,所述分水盤將所述上盤工作盤和所述上盤冷水盤分割形成上下兩層連通的整體式圓面空腔,在所述上盤冷水盤上設(shè)有進(jìn)水口和出水口,分別與所述整體式圓面空腔連通。
[0007]進(jìn)一步的,所述整體式圓面空腔的下層為進(jìn)水區(qū),上層為出水區(qū),所述進(jìn)水口和所述出水口均為螺紋孔,所述整體式圓面空腔的中間位置為密封圈槽。
[0008]進(jìn)一步的,所述分水盤上設(shè)有通水孔,與所述進(jìn)水口相通用于向下層空腔進(jìn)水。
[0009]進(jìn)一步的,所述上盤工作盤與上盤冷水盤之間外圈設(shè)有外圈密封圈,內(nèi)圈設(shè)有內(nèi)圈密封圈。
[0010]優(yōu)選的,所述上盤冷水盤與上盤工作盤上均設(shè)有破真空的進(jìn)氣口。
[0011]進(jìn)一步的,所述上盤冷水盤與分水盤由第一連接螺釘連接。
[0012]進(jìn)一步的,所述上盤冷水盤與上盤工作盤由第二連接螺釘連接。
[0013]本實(shí)用新型的有益效果是:
[0014]本實(shí)用新型通過(guò)特殊的而又簡(jiǎn)單的分水盤結(jié)構(gòu)將上盤工作盤和冷水盤分割成兩層聯(lián)通的冷卻空腔,且空腔為整體式的圓面使得冷卻水與工作盤接觸面積最大化,水路設(shè)計(jì)由低位向上升漲,進(jìn)而保證了冷卻水充分的充滿腔體后從出水口流出,確保了冷卻水能對(duì)拋盤進(jìn)行充分冷卻,及時(shí)帶走因加工而產(chǎn)生的熱量,對(duì)拋盤起到了強(qiáng)制冷卻的作用,較傳統(tǒng)的被動(dòng)式冷卻更可靠。結(jié)合精密的測(cè)溫系統(tǒng)及冷卻水流量調(diào)節(jié)系統(tǒng),實(shí)現(xiàn)了拋盤溫度的精密控制。同時(shí)分水盤此結(jié)構(gòu)加工工藝性較好,制造成本低。
[0015]上述說(shuō)明僅是本實(shí)用新型技術(shù)方案的概述,為了能夠更清楚了解本實(shí)用新型的技術(shù)手段,并可依照說(shuō)明書的內(nèi)容予以實(shí)施,以下以本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例并配合附圖詳細(xì)說(shuō)明如后。本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】由以下實(shí)施例及其附圖詳細(xì)給出。
【附圖說(shuō)明】
[0016]此處所說(shuō)明的附圖用來(lái)提供對(duì)本實(shí)用新型的進(jìn)一步理解,構(gòu)成本申請(qǐng)的一部分,本實(shí)用新型的示意性實(shí)施例及其說(shuō)明用于解釋本實(shí)用新型,并不構(gòu)成對(duì)本實(shí)用新型的不當(dāng)限定。在附圖中:
[0017]圖1是本實(shí)用新型拋光機(jī)的上拋光盤的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0018]圖2是本實(shí)用新型拋光機(jī)的上拋光盤A-A剖視圖;
[0019]圖3是本實(shí)用新型拋光機(jī)的上拋光盤的B-B剖視圖。
[0020]圖中標(biāo)號(hào)說(shuō)明:
[0021]1、上盤冷水盤,2、上盤冷水盤,3、分水盤,4、密封圈,5、進(jìn)水口,6、內(nèi)圈密封圈,7、出水口,8、進(jìn)氣口,9、第一連接螺釘,10、整體式圓面空腔,11、第二連接螺釘,12、密封圈槽,
13、通水孔。
【具體實(shí)施方式】
[0022]下面將參考附圖并結(jié)合實(shí)施例,來(lái)詳述本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)特點(diǎn)及技術(shù)實(shí)施過(guò)程:
[0023]如圖1-3所示,一種拋光機(jī)的上拋光盤,包括上盤冷水盤2,所述上盤工作盤2的上方設(shè)有上盤冷水盤1,在所述上盤工作盤2的和所述上盤冷水盤I之間設(shè)有分水盤3,所述分水盤3將所述上盤工作盤2和所述上盤冷水盤I分割形成上下兩層連通的整體式圓面空腔10,在所述上盤冷水盤I上設(shè)有進(jìn)水口 5和出水口 7,分別與所述整體式圓面空腔10連通。
[0024]進(jìn)一步的,所述整體式圓面空腔10的下層為進(jìn)水區(qū),上層為出水區(qū),所述進(jìn)水口 5和所述出水口 7均為螺紋孔,所述整體式圓面空腔10的中間位置為密封圈槽12。
[0025]進(jìn)一步的,所述分水盤3上設(shè)有通水孔13,與所述進(jìn)水口 5相通用于向下層空腔進(jìn)水。
[0026]進(jìn)一步的,所述上盤工作盤2與上盤冷水盤I之間外圈設(shè)有外圈密封圈4,內(nèi)圈設(shè)有內(nèi)圈密封圈6。
[0027]優(yōu)選的,所述上盤冷水盤I與上盤工作盤2上均設(shè)有破真空的進(jìn)氣口 8。
[0028]進(jìn)一步的,所述上盤冷水盤I與分水盤3由第一連接螺釘9連接。
[0029]進(jìn)一步的,所述上盤冷水盤I與上盤工作盤2由第二連接螺釘11連接。
[0030]本實(shí)用新型的原理:
[0031]上拋光盤采用復(fù)合結(jié)構(gòu),用分水盤3將分割為與工作盤2和冷水盤I形成的兩層腔體,上層為冷水盤1,下層為工作盤2,兩盤間采用螺釘連接,兩盤結(jié)合面內(nèi)外側(cè)均裝有密封圈,用于防止泄露。同時(shí)由于工作盤2和冷水盤I有破真空用的通氣孔,其中形成的上下兩層空腔為整體式的圓面使得冷卻水與工作盤2接觸面積最大化,冷卻水的入口和出口分別位于空腔體10的中心附近,由于分水盤3是圓餅狀的特性確保冷卻水從分水盤3圓周邊緣向中心流過(guò),使得通路較長(zhǎng),水路設(shè)計(jì)是由低位向上升漲進(jìn)而水路不走捷徑,冷卻水必須完全充滿腔體后才能從回水口流出,確保拋盤能得到充分的冷卻。
[0032]以上所述僅為本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例而已,并不用于限制本實(shí)用新型,對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來(lái)說(shuō),本實(shí)用新型可以有各種更改和變化。凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi),所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等,均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種拋光機(jī)的上拋光盤,其特征在于,包括上盤工作盤(2),所述上盤工作盤(2)的上方設(shè)有上盤冷水盤(I),在所述上盤工作盤(2 )的和所述上盤冷水盤(I)之間設(shè)有分水盤(3 ),所述分水盤(3 )將所述上盤工作盤(2 )和所述上盤冷水盤(I)分割形成上下兩層連通的整體式圓面空腔(10),在所述上盤冷水盤(I)上設(shè)有進(jìn)水口(5)和出水口(7),分別與所述整體式圓面空腔(10)連通。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光機(jī)的上拋光盤,其特征在于,所述整體式圓面空腔(10)的下層為進(jìn)水區(qū),上層為出水區(qū),所述進(jìn)水口(5)和所述出水口(7)均為螺紋孔,所述整體式圓面空腔(10)的中間位置為密封圈槽(12)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光機(jī)的上拋光盤,其特征在于,所述分水盤(3)上設(shè)有通水孔(13),與所述進(jìn)水口(5)相通用于向下層空腔進(jìn)水。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光機(jī)的上拋光盤,其特征在于,所述上盤工作盤(2)與上盤冷水盤(I)之間外圈設(shè)有外圈密封圈(4),內(nèi)圈設(shè)有內(nèi)圈密封圈(6)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光機(jī)的上拋光盤,其特征在于,所述上盤冷水盤(I)與上盤工作盤(2)上均設(shè)有破真空的進(jìn)氣口(8)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光機(jī)的上拋光盤,其特征在于,所述上盤冷水盤(I)與分水盤(3)由第一連接螺釘(9)連接。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光機(jī)的上拋光盤,其特征在于,所述上盤冷水盤(I)與上盤工作盤(2 )由第二連接螺釘(11)連接。
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種拋光機(jī)的上拋光盤,包括上盤工作盤,所述上盤工作盤的上方設(shè)有上盤冷水盤,在所述上盤工作盤的和所述上盤冷水盤之間設(shè)有分水盤,所述分水盤將所述上盤工作盤和所述上盤冷水盤分割形成上下兩層連通的整體式圓面空腔,在所述上盤冷水盤上設(shè)有進(jìn)水口和出水口,分別與所述整體式圓面空腔連通。本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)特殊而又簡(jiǎn)單,使得冷卻水與工作盤接觸面積最大化,保證了冷卻水充分的充滿腔體后從出水口流出,確保了冷卻水能對(duì)拋盤進(jìn)行充分冷卻,及時(shí)帶走因加工而產(chǎn)生的熱量,對(duì)拋盤起到了強(qiáng)制冷卻的作用,較傳統(tǒng)的被動(dòng)式冷卻更可靠;結(jié)合精密的測(cè)溫系統(tǒng)及冷卻水流量調(diào)節(jié)系統(tǒng),實(shí)現(xiàn)了拋盤溫度的精密控制;加工工藝性較好,制造成本低。
【IPC分類】B24B37-16
【公開號(hào)】CN204565866
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520177510
【發(fā)明人】金萬(wàn)斌, 李方俊, 陳麗春
【申請(qǐng)人】蘇州赫瑞特電子專用設(shè)備科技有限公司
【公開日】2015年8月19日
【申請(qǐng)日】2015年3月27日
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