本發(fā)明涉及金屬表面處理技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種電解拋光方法。

背景技術(shù)：

電解拋光是一種對金屬工件表面進(jìn)行精加工的方法，該方法是將金屬工件放在裝有電解拋光液的電解拋光槽中，對電解拋光液通電進(jìn)行電解。隨著電解的進(jìn)行，在金屬工件表面形成粘度較大的液膜，金屬工件凹凸不平的表面上液膜厚度分布不均勻，凸起部分表面上的液膜薄，而其余部分表面上的液膜厚，故陽極表面各處電阻不相同。金屬工件凸起部分電阻小，電流密度較大，使凸起部分比凹下部分溶解快。因此，粗糙不平的金屬工件表面變得平滑光亮，達(dá)到拋光的效果。

公開號為cn104451854a的中國發(fā)明專利申請公開了一種不銹鋼拋光工藝，其主要采用化學(xué)拋光與等離子電漿拋光方法對不銹鋼基體進(jìn)行非機(jī)械式拋光。但是，該現(xiàn)有技術(shù)在對不銹鋼基體進(jìn)行拋光時(shí)，混合酸液與不銹鋼基體之間會(huì)存在氣泡，從而導(dǎo)致拋光效果不佳。

同時(shí)，其他現(xiàn)有技術(shù)中的有關(guān)對不銹鋼基體進(jìn)行電解拋光時(shí)，由于電解液(其通常由幾種無機(jī)酸混合而成)存在較大的粘度，因此在電解拋光時(shí)電解液無法徹底浸潤不銹鋼基體，從而導(dǎo)致電解液與不銹鋼基體之間存在氣泡，尤其是對于不銹鋼制成的杯體的內(nèi)部而言更為嚴(yán)重。一旦在杯體的內(nèi)壁面存在氣泡，在電解拋光完成后就會(huì)形成“白斑”，因此，現(xiàn)有技術(shù)中的電解拋光存在較為嚴(yán)重的工藝瑕疵。

有鑒于此，有必要對現(xiàn)有技術(shù)中的電解拋光方法予以改進(jìn)，以解決上述問題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于電解拋光方法，用以防止電解液與工件的不銹鋼基體表面形成氣泡，并提高采用電解液對具有不銹鋼基體的工件進(jìn)行電解拋光時(shí)的拋光效果。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了一種電解拋光方法，用于對工件的內(nèi)壁面進(jìn)行電解拋光，通過陽極與陰極夾持呈倒置的工件的兩端，電解棒垂直向上延伸入工件的內(nèi)部，電解棒或者工件的口部自回流管或者電解槽中汲取電解液并噴入工件內(nèi)部，以將電解液充滿工件的內(nèi)部腔體，所述工件的內(nèi)部腔體的電解液的壓力大于或者等于所述電解槽或者回流管中的電解液的壓力。

作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所述工件的內(nèi)部腔體的電解液壓力與所述電解槽或者回流管中的電解液的壓力所形成的壓力差為0.01～0.05mpa。

作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所述工件的內(nèi)部腔體的電解液壓力與所述電解槽或者回流管中的電解液的壓力所形成的壓力差為0.02mpa。

作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所述電解液包括硫酸與磷酸，所述硫酸與磷酸的體積比為4:6。

作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所述電解液由磷酸、磷酸與鉻酸組成，所述磷酸、磷酸與鉻酸的體積比為4:6:0.035。

作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，還包括對工件執(zhí)行超聲波清洗。

作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所述電解拋光的電解時(shí)間為2～8分鐘，電流為30～60a，電壓為5～12vdc。

作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所述工件的內(nèi)部腔體的電解液的壓力大于所述電解槽或者回流管中的電解液的壓力，且隨著電解拋光的推進(jìn)，所述工件的內(nèi)部腔體的電解液的壓力與所述電解槽或者回流管中的電解液的壓力所形成的壓力差形成脈沖式交替。

作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，電解棒或者工件的口部自回流管或者電解槽中汲取電解液，并以垂直向上和/或水平橫向噴入的方式將電解液充滿所述工件的內(nèi)部腔體。

作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所述電解棒自回流管中汲取電解液并沿垂直向上與水平橫向共同噴入工件的內(nèi)部腔體。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果是：通過本發(fā)明所示出的一種電解拋光方法，有效的防止了電解液與工件的不銹鋼基體表面形成氣泡，從而提高了采用電解液對具有不銹鋼基體的工件進(jìn)行電解拋光時(shí)的拋光效果。

附圖說明

圖1為倒置式電解拋光裝置在執(zhí)行電解拋光處理時(shí)的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為倒置式電解拋光裝置在執(zhí)行電解拋光處理時(shí)在變形例中的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為倒置式電解拋光裝置在執(zhí)行電解拋光處理時(shí)在另一種變形例中的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為本發(fā)明一種電解拋光設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5為圖4所示出的電解拋光設(shè)備的側(cè)視圖；

圖6為工件框的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖7為圖6所示出的工件框中的上定位板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖8為電解棒中置入排氣管的示意圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖所示的各實(shí)施方式對本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)說明，但應(yīng)當(dāng)說明的是，這些實(shí)施方式并非對本發(fā)明的限制，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員根據(jù)這些實(shí)施方式所作的功能、方法、或者結(jié)構(gòu)上的等效變換或替代，均屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。

實(shí)施例一：

參圖1、圖4及圖5所示，一種電解拋光方法，用于對工件3的內(nèi)壁面進(jìn)行電解拋光，通過陽極1與陰極9活動(dòng)或者固定夾持呈倒置的工件3的兩端并至少將陰極9整體浸潤在電解槽80所貯存的電解液中，電解棒2垂直向上延伸入工件3的內(nèi)部，電解棒2自電解槽80中汲取電解液81并沿垂直方向噴入工件3的內(nèi)部腔體31，以將電解液81充滿工件3的內(nèi)部腔體31。電解液通過環(huán)形通孔110返回至回流管9中進(jìn)行匯集并流入儲(chǔ)液桶82中。所述工件3的內(nèi)部腔體31的電解液的壓力大于或者等于所述回流管9中的電解液81的壓力。

具體的，工件3的內(nèi)部腔體31的電解液的壓力與所述回流管9中的電解液81的壓力所形成的壓力差為0.01～0.05mpa，優(yōu)選的，該工件3的內(nèi)部腔體31的電解液的壓力與所述回流管9中的電解液的壓力所形成的壓力差為0.02mpa。

在本實(shí)施例中，電解液包括硫酸與磷酸，所述硫酸與磷酸的體積比為4:6，并具體用于對金屬牌號為sus304的不銹鋼基材進(jìn)行電解拋光。同時(shí)，為了對金屬牌號為sus314的不銹鋼基材進(jìn)行電解拋光，該電解液由磷酸、磷酸與鉻酸組成，所述磷酸、磷酸與鉻酸的體積比為4:6:0.035。

在本實(shí)施例中，硫酸、磷酸及鉻酸的質(zhì)量濃度為75％。電解拋光的電解時(shí)間為2～8分鐘，電流為30～60a，電壓為5～12vdc。最優(yōu)選的，該工件3的內(nèi)部腔體31的電解液的壓力大于所述回流管9中的電解液的壓力，且隨著電解拋光的推進(jìn)，所述工件3的內(nèi)部腔體31的電解液的壓力與所述回流管9中的電解液的壓力所形成的壓力差形成脈沖式交替，即在電解液垂直向上注入工件3的內(nèi)部腔體31的初始階段需要形成上述壓力差，以充分趕走工件3的內(nèi)部腔體31及其工件3的內(nèi)壁面上所粘附的氣泡，以提高電解拋光的效果，并隨著電解拋光過程的推進(jìn)，階段性的形成上述壓力差。

參圖1、圖4及圖5所示，在本實(shí)施方式中，采用工件3倒置式的姿態(tài)通過電解棒2延伸入工件3的內(nèi)部腔體31中，并注入電解液81。電解液81參圖1中箭頭所示出的方向并采用自下而上的方式流經(jīng)電解棒2所形成的呈柱狀的通道20，并從頂部的開口處22呈噴射狀流出電解棒2，并最終充滿工件3的內(nèi)部腔體31。

在進(jìn)行電解拋光時(shí)，工件3位于陽極1與陰極8之間。陽極1可被電極升降機(jī)構(gòu)40整體的作上升與下降運(yùn)動(dòng)，從而使得工件3的兩端端部分別被陽極1與陰極8所夾持。需要說明的是，在本申請中，所述工件3是具有杯狀或者碗狀并具有不銹鋼內(nèi)壁面的物品，并需要通過在陽極1、陰極8、電解棒2與電解液81的協(xié)同作用，以完成對工件3的內(nèi)壁面所具有的不銹鋼內(nèi)壁面的電解拋光處理。當(dāng)陽極1與陰極8同時(shí)被電解液所浸潤時(shí)，可同時(shí)對工件3的內(nèi)壁面與外壁面作電解拋光處理。

在本實(shí)施方式中，該倒置式電解拋光裝置，包括：電解槽80，在電解槽中垂直設(shè)置的若干電解棒2，被電解槽80中循環(huán)流動(dòng)的電解液81所浸潤的陽極1和陰極8，以及，回流管9。電解棒2內(nèi)部中空且兩端端部分別延伸入工件3和回流管9中，工件3位于陽極1與陰極8之間，工件3通過其口部32與回流管9連通，所述工件3的口部32向下布置，并通過環(huán)形通孔110與回流管9相連通。具體的，該電解棒2呈直線形，當(dāng)然該電解棒2也可被配置為螺旋形或者其他形狀，以大致充滿工件3的內(nèi)部腔體31，以進(jìn)一步提高電解液充滿工件3的內(nèi)部腔體31的注入效果，防止內(nèi)部腔體31及工件3的內(nèi)壁面粘附氣泡，從而提高了對工件3的內(nèi)壁面的電解拋光效果。

回流管9呈板狀，并可同時(shí)與多個(gè)呈倒置式的工件3貼合連接并同時(shí)連通多個(gè)環(huán)形通孔110，以為多個(gè)工件3輸送或者反流電解液。在電解拋光過程中，陽極1、工件3、陰極8、回流管9被整體的置于電解槽80的電解液81中。同時(shí)，將5～12vdc的直流電接入陽極1與陰極8，并以電解液81為介質(zhì)對工件3的內(nèi)壁面和/或外壁面進(jìn)行電解拋光。整個(gè)電解拋光的電解時(shí)間為120～480秒，電解拋光中的電流為30～60a。

在本實(shí)施方式中，為了避免工件3的內(nèi)部腔體31出現(xiàn)氣泡，工件3的內(nèi)部腔體31中的電解液的壓力大于所述電解槽80中的電解液的壓力，亦即，工件3的內(nèi)部所充滿的電解液的壓力大于工件3外部的電解液的壓力。具體的，為了形成上述電解液的壓力差，工件3的口部32與回流管9之間設(shè)置密封圈11。該密封圈11可優(yōu)選采用具有彈性且耐酸腐蝕性能良好的橡膠或者硅膠制成，當(dāng)然還密封圈11也可采用聚四氟乙烯制成，用于將工件3的口部32與回流管9之間阻擋電解液從口部32處橫向流出并進(jìn)入到電解槽80中。口部32的底緣321在陽極1與陰極8的共同夾持下，使得口部32的底緣321與密封圈11的上表面實(shí)現(xiàn)可靠的壓緊與隔離。

具體的，參圖1所示，密封圈11套設(shè)在電解棒2的外側(cè)，并與電解棒2之間形成環(huán)形通孔110，以通過該環(huán)形通孔110將工件3的內(nèi)部腔體31與回流管9建立電解液的流通通道。同時(shí)，在回流管9與儲(chǔ)液桶82之間設(shè)置循環(huán)泵83，以通過循環(huán)泵83提供電解液81循環(huán)的動(dòng)力，循環(huán)泵83通過管道831連接回流管9，同時(shí)通過管道821連接儲(chǔ)液桶82。從環(huán)形通孔110流出的電解液81進(jìn)入回流管9中，并依次通過管道831、循環(huán)泵83、管道821流入儲(chǔ)液桶82中，并重新沿著延伸入電解槽80中的電解棒2的底部所形成的開口，重新沿電解棒2垂直向上噴射并注入工件3的內(nèi)部腔體31中。需要說明的是，上述電解液81的流經(jīng)路徑/方向也可為逆向的，并按照上述的流經(jīng)路線作逆向循環(huán)。在本實(shí)施方式中，循環(huán)泵83選用型號為40cq-20的磁力泵。

在本實(shí)施方式中，電解棒2在向上輸送并從頂部開口處22噴射電解液時(shí)，工件3的內(nèi)壁面的氣泡可沿著環(huán)形通孔110被電解液81帶入至回流管9中，并可通過在回流管9中所設(shè)置的氣泡隔離裝置(例如：氣泡去除器)將多余的空氣或者氣泡從回流管9中排出。

同時(shí)，在本實(shí)施方式中，該回流管9的底部還設(shè)有法蘭圈5，嵌套在法蘭圈5上的鎖緊螺母7，以及嵌套在鎖緊螺母7與法蘭圈5之間的密封套6。鎖緊螺母7的底部設(shè)置所述陰極8。

實(shí)施例二：

參圖3、圖4及圖5所示，本實(shí)施例與實(shí)施例一的主要區(qū)別在于，在本實(shí)施方式中，電解棒2的側(cè)壁上開設(shè)若干噴射孔21。同時(shí)，本實(shí)施例中的電解棒2既可呈直線形，也可呈螺旋形，并在電解棒2的側(cè)壁上開設(shè)若干噴射孔21。

在本實(shí)施例中，開設(shè)的噴射孔21的作用為：電解液81在電解棒2所形成的呈柱狀的通道20向上流動(dòng)時(shí)，可將部分電解液81實(shí)現(xiàn)橫向的水平噴射，將電解液以水平橫向噴入的方式向工件3的內(nèi)壁面進(jìn)行噴射、沖洗，從而將電解液充滿所述工件3的內(nèi)部腔體31，以將水平環(huán)狀噴射的電解液81將附著在工件3的內(nèi)壁面上所殘留的氣泡剝離并從環(huán)狀通孔110處帶離工件3的內(nèi)部腔體31，以在工件3進(jìn)行電解拋光時(shí)避免工件3的內(nèi)壁面上存在氣泡，從而進(jìn)一步提高了該倒置式電解拋光裝置對工件3的內(nèi)壁面(不銹鋼基材)進(jìn)行電解拋光的效果，能夠更好防止工件3的內(nèi)壁面出現(xiàn)“白斑”這種瑕疵。

參圖8所示，為了進(jìn)一步排出氣泡，在本實(shí)施例中，可在電解棒2中置入一個(gè)排氣管19，所述排氣管19內(nèi)部中空，且兩端端部分別凸伸出電解棒2的兩端端部，以在工件3的內(nèi)部腔體31與電解槽80建立空氣排出通道。

本實(shí)施例所示出的一種倒置式電解拋光裝置與實(shí)施例一中相同部分的技術(shù)方案請參實(shí)施例一所述，在此不再贅述。

實(shí)施例三：

參圖2、圖4及圖5所示，本實(shí)施例與實(shí)施例一、實(shí)施例二的主要區(qū)別在于，在本實(shí)施方式中，工件3的口部32與回流管9之間設(shè)置呈圓盤狀的支架4，沿所述支架4的縱向開設(shè)若干第一通孔42，所述第一通孔42用于建立工件3的內(nèi)部腔體31與回流管9之間的循環(huán)通路。

具體的，參圖2所示，在本實(shí)施例中，支架4呈圓盤形，并在支架4的頂部形成一個(gè)在俯視角度上呈圓形的凹陷部41，并通過凹陷部41收容并卡持工件的口部32，口部32的底緣321與凹陷部41的底部所形成圓環(huán)底面實(shí)現(xiàn)可靠的壓緊與隔離。

回流管9中的電解液81沿圖2中箭頭的流向，依次通過環(huán)形通孔110、第一通孔42并向上匯聚后，從電解棒2頂部的開口處22向電解棒2內(nèi)部匯聚，并最終向下流入電解槽80中。電解槽80中的電解液81在循環(huán)泵83的驅(qū)動(dòng)下，重新輸送至回流管9中，并往復(fù)的執(zhí)行上述循環(huán)過程，并在陽極1與陰極8、電解棒2及電解液81的共同作用下，對工件3的內(nèi)壁面實(shí)現(xiàn)電解拋光處理。

同時(shí)，工件3的內(nèi)部腔體31中的電解液的壓力大于所述電解槽80中的電解液的壓力，亦即，工件3的內(nèi)部所充滿的電解液的壓力大于工件3外部的電解液的壓力。具體的，工件3的內(nèi)部所充滿的電解液的壓力與工件3外部的電解液的壓力所形成壓力差為0.03mpa。

本實(shí)施例所示出的一種倒置式電解拋光裝置與實(shí)施例一或者實(shí)施例二中相同部分的技術(shù)方案請參實(shí)施例一或者實(shí)施例二所述，在此不再贅述。

實(shí)施例四：

參圖3、圖4及圖5所示，本實(shí)施例與實(shí)施例一、實(shí)施例二或者實(shí)施例三的主要區(qū)別在于，在本實(shí)施方式中，沿所述支架4的橫向開設(shè)若干第二通孔43，電解槽80通過所述第二通孔43與電解槽80建立循環(huán)通路。

被循環(huán)泵83所重新泵入回流管9后，沿圖3中的箭頭所示出的方向從電解棒2底部的開口處流入電解棒2所形成的呈柱狀的通道20，并從頂部的開口處22呈噴射狀流出電解棒2，并最終充滿工件3的內(nèi)部腔體31。結(jié)合實(shí)施例三所述，在本實(shí)施例中，電解棒2內(nèi)部向上流動(dòng)的電解液81自頂部的開口處22充滿工件3的內(nèi)部腔體31后，電解液81分別從若干第二通孔43橫向流出支架4，并與電解槽80建立循環(huán)通路，從而使得電解液81在上述路徑中循環(huán)流動(dòng)。

具體的，工件3的內(nèi)部腔體31所充滿的電解液所形成的壓力與工件3外部的電解液(即電解槽80中的電解液)的壓力所形成壓力差為0.04mpa。

本實(shí)施例所示出的一種倒置式電解拋光裝置與實(shí)施例一、實(shí)施例二或者實(shí)施例三中相同部分的技術(shù)方案請參實(shí)施例一、實(shí)施例二或者實(shí)施例三所述，在此不再贅述。

實(shí)施例五：

參圖4至圖7所示的一種電解拋光設(shè)備100，并通過該該電解拋光設(shè)備100完整的實(shí)現(xiàn)本發(fā)明所揭示的一種電解拋光方法。該電解拋光設(shè)備100包括：機(jī)架111，設(shè)置在機(jī)架111頂部作水平線性運(yùn)動(dòng)的提升平移機(jī)構(gòu)50及電極升降機(jī)構(gòu)40，與機(jī)架111固定連接并呈直線形布置的電解槽80，所述電解槽80中垂直設(shè)置若干電解棒2，與電解槽80連通的儲(chǔ)液桶82，通過管道分別連接電解槽80與儲(chǔ)液通82的循環(huán)泵83。

提升平移機(jī)構(gòu)50的底部通過提升架91連接鉤取工件框92并整體的驅(qū)動(dòng)工件框92作垂直運(yùn)動(dòng)與平移運(yùn)動(dòng)，所述工件框92中通過定位板限制工件3并帶動(dòng)工件3呈倒置狀對應(yīng)罩住電解棒2，所述電解棒2內(nèi)部中空且兩端端部分別延伸入工件3和回流管9中，所述工件3位于陽極1與陰極8之間，所述工件3通過其口部32與回流管9連通，所述工件3的口部32向下布置。所述電極升降機(jī)構(gòu)40的底部設(shè)有若干陽極1。電解槽80中循環(huán)流動(dòng)的電解液81浸潤所述陽極1、工件3和陰極8。

在執(zhí)行電解拋光處理中，所述工件3的內(nèi)部腔體31中的電解液的壓力大于所述電解槽80中的電解液的壓力。具體的，該工件3的內(nèi)部腔體31中的電解液的壓力與所述電解槽80中的電解液的壓力所形成的壓力差為0.01mpa。

參圖6與圖7所示，定位板由上定位板93與下定位板94組成，且彼此具有相同的結(jié)構(gòu)。上定位板93及下定位板94固定焊接在工件框92的吊耳921上。多個(gè)工件30呈倒置狀收容被上定位板93的多個(gè)定位孔931所限定，并通過工件框92同時(shí)收容多個(gè)工件3。工件3的口部32向下凸伸出下定位板94的下表面。

機(jī)架111的內(nèi)部設(shè)置有多個(gè)工位，并可在不同的工位中執(zhí)行除油、純水清洗、電解拋光、酸清洗、蒸汽清洗及烘干等操作，以最終完成對工件3的內(nèi)壁面完成電解拋光處理。

同時(shí)，可在機(jī)架111的內(nèi)部的一個(gè)或者多個(gè)工位中設(shè)置超聲波發(fā)生器，以通過超聲波增強(qiáng)電解液的電解拋光效果，以提高電解拋光的效率，并對電解棒2表面的附著物進(jìn)行超聲波清洗，避免對電解棒2的表面沉積附著物。

在本實(shí)施例中，該提升平移機(jī)構(gòu)50在機(jī)架111頂部所設(shè)置的軌道103中沿水平方向線性運(yùn)動(dòng)，并電機(jī)501、輸出齒輪、同步齒輪軸511及與同步齒輪軸511嚙合的齒輪導(dǎo)軌512的共同配合下，通過提升平移機(jī)構(gòu)50底部所設(shè)置的爪部414抓取工件框92的吊耳921，以實(shí)現(xiàn)沿垂直方向上的線性運(yùn)動(dòng)，以實(shí)現(xiàn)同時(shí)帶動(dòng)驅(qū)動(dòng)多個(gè)工件3與回流管9的上表面進(jìn)行扣合密封，并通過電解棒2噴射的電解液充滿工件3的內(nèi)部腔體31，從而完成電解拋光操作。

同時(shí)，該所述電極升降機(jī)構(gòu)40包括電機(jī)411、電機(jī)411的輸出齒輪，同步齒輪軸，以及與同步齒輪軸嚙合的齒輪導(dǎo)軌401，以實(shí)現(xiàn)至少同時(shí)驅(qū)動(dòng)兩個(gè)或者兩個(gè)以上的陽極發(fā)生裝置413，陽極發(fā)生裝置413的底部連接多個(gè)陽極1。陽極1在電機(jī)411的驅(qū)動(dòng)下，同時(shí)驅(qū)動(dòng)多個(gè)陽極1垂直向下運(yùn)動(dòng)，并形成了如圖1至圖3中的圖例，整個(gè)電解拋光的電解時(shí)間為120～480秒，電解拋光的電流為30～60a。

同時(shí)，在機(jī)架111的兩端端部分別設(shè)置有進(jìn)料臺101與出料臺102。同時(shí)收容多個(gè)工件3的工件框92可沿圖4中箭頭的方向，在提升平移機(jī)構(gòu)50及電極升降機(jī)構(gòu)40的協(xié)同作用下，順序的執(zhí)行除油、純水清洗、電解拋光、酸清洗、蒸汽清洗及烘干等操作，以最終完成對工件3的內(nèi)壁面完成電解拋光處理。

在本實(shí)施例中，該電解拋光設(shè)備100中的至少一個(gè)工位配置有如實(shí)施例一至實(shí)施例四中任一個(gè)實(shí)施例所揭示的倒置式電解拋光裝置，其具體的技術(shù)方案請參實(shí)施例一至實(shí)施例四所述，在此不再贅述。

上文所列出的一系列的詳細(xì)說明僅僅是針對本發(fā)明的可行性實(shí)施方式的具體說明，它們并非用以限制本發(fā)明的保護(hù)范圍，凡未脫離本發(fā)明技藝精神所作的等效實(shí)施方式或變更均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。

對于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言，顯然本發(fā)明不限于上述示范性實(shí)施例的細(xì)節(jié)，而且在不背離本發(fā)明的精神或基本特征的情況下，能夠以其他的具體形式實(shí)現(xiàn)本發(fā)明。因此，無論從哪一點(diǎn)來看，均應(yīng)將實(shí)施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本發(fā)明的范圍由所附權(quán)利要求而不是上述說明限定，因此旨在將落在權(quán)利要求的等同要件的含義和范圍內(nèi)的所有變化囊括在本發(fā)明內(nèi)。不應(yīng)將權(quán)利要求中的任何附圖標(biāo)記視為限制所涉及的權(quán)利要求。

此外，應(yīng)當(dāng)理解，雖然本說明書按照實(shí)施方式加以描述，但并非每個(gè)實(shí)施方式僅包含一個(gè)獨(dú)立的技術(shù)方案，說明書的這種敘述方式僅僅是為清楚起見，本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)將說明書作為一個(gè)整體，各實(shí)施例中的技術(shù)方案也可以經(jīng)適當(dāng)組合，形成本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解的其他實(shí)施方式。