一種光學(xué)塑料基板鍍膜裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及一種鍍膜裝置，特別是涉及一種用于蒸鍍光學(xué)塑料基板的鍍膜裝置?！颈尘凹夹g(shù)】
[0002] 光學(xué)塑料是指用作光學(xué)介質(zhì)材料的塑料。主要用在光學(xué)儀器中，用于制造光學(xué)基 板、透鏡、隱形眼鏡、有機(jī)光導(dǎo)纖維等。已獲得應(yīng)用的光學(xué)塑料主要有PMMA、PET、PC、PS等。 未來塑料基板可取代玻璃基板成為次世代顯示器材料，因?yàn)樗芰匣鍝碛休^玻璃基板之 輕、薄、耐沖擊、可卷曲等優(yōu)勢(shì)，可應(yīng)用于許多可攜式及穿戴式顯示裝置，以提高使用壽命并 增加使用范圍。目前塑料基板鍍膜在光電產(chǎn)業(yè)作為性能優(yōu)異的透明材料可應(yīng)用于觸控式面 板屏幕、液晶顯不面板（IXDpanel)、有機(jī)發(fā)光二極管（0LED)、電子書（e-book)、偏光板、光 儲(chǔ)存、各種燈具、照明器材、光導(dǎo)纖維等領(lǐng)域。
[0003] 在大氣環(huán)境下，塑料基材比玻璃基板容易吸附水氣，因此在鍍膜過程中會(huì)因真空 環(huán)境及受熱的關(guān)系而有釋氣的現(xiàn)象。釋氣會(huì)造成鍍膜時(shí)成膜不穩(wěn)定，使得鍍膜制程參數(shù)不 易控制，而且也會(huì)影響成膜的牢固度。目前，一般常規(guī)使用真空蒸鍍法進(jìn)行成膜都會(huì)使用 IAD輔助低溫真空蒸鍍工藝來提高膜層與基板間的結(jié)合率，這樣的工藝生產(chǎn)設(shè)備成本較高， 生產(chǎn)效率也不是很高。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004] 本發(fā)明的目的是提供一種光學(xué)塑料基板鍍膜裝置，解決塑料基板蒸鍍后膜層牢固 度較差，易起泡剝離的問題。
[0005] 本發(fā)明的技術(shù)方案是這樣的：一種光學(xué)塑料基板鍍膜裝置，包括置于真空爐內(nèi)的 鍍膜傘具、蒸發(fā)源和導(dǎo)電棒，所述鍍膜傘具設(shè)有側(cè)板和傘面，所述側(cè)板和傘面用于放置待鍍 膜基板，所述蒸發(fā)源設(shè)置在鍍膜傘具內(nèi)，所述導(dǎo)電棒設(shè)置在基板與蒸發(fā)源之間，所述導(dǎo)電棒 與基板表面夾角為0~5°，所述導(dǎo)電棒與基板距離20~40cm，所述導(dǎo)電棒連接1. 2~ 1. 5kV電源。
[0006] 優(yōu)選的，所述側(cè)板與水平面夾角為70~85°，所述基板設(shè)置在側(cè)板上，所述導(dǎo)電 棒與基板距離25~40cm。
[0007] 優(yōu)選的，所述傘面與水平面夾角為10~25°，所述基板設(shè)置在傘面上，所述導(dǎo)電 棒與基板距離20~30cm。
[0008] 優(yōu)選的，所述導(dǎo)電棒長(zhǎng)度為0. 6~1. 0m，直徑10cm。
[0009] 優(yōu)選的，所述導(dǎo)電棒為無氧銅材料。
[0010] 本發(fā)明所提供的技術(shù)方案的優(yōu)點(diǎn)在于，可以采用低于80°C的加熱溫度進(jìn)行鍍膜， 生產(chǎn)效率高能耗低；在蒸鍍前，導(dǎo)電棒接通高壓電，產(chǎn)生放電效應(yīng)，通過釋放出的高能粒子 對(duì)塑料基板表面進(jìn)行轟擊處理，通過調(diào)整放電時(shí)間可以控制膜層與基板的牢固度；無論是 采用放置于側(cè)板的傾斜式蒸鍍還是采用放置于傘面的垂直式蒸鍍都能不使用IAD工藝而 得到良好牢固度。
【附圖說明】
[0011] 圖1為塑料基板置于側(cè)板鍍膜時(shí)結(jié)構(gòu)示意圖。
[0012] 圖2為塑料基板置于傘面鍍膜時(shí)結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0013] 下面結(jié)合實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說明，但不作為對(duì)本發(fā)明的限定。
[0014] 請(qǐng)參見圖1，本實(shí)施方式的傾斜式光學(xué)塑料基板鍍膜裝置，包括置于真空爐內(nèi)的鍍 膜傘具、蒸發(fā)源和導(dǎo)電棒，鍍膜傘具設(shè)有側(cè)板和傘面，待鍍膜基板放置在側(cè)板上。側(cè)板與水 平夾角為70~85°，蒸發(fā)源設(shè)置在鍍膜傘具內(nèi)的下部。導(dǎo)電棒為直徑10cm，長(zhǎng)度為1.0m 的無氧銅棒材。導(dǎo)電棒分成左右兩根固定設(shè)置在塑料基板與蒸發(fā)源之間。導(dǎo)電棒與塑料基 板表面夾角為0~5°盡量處理為平行，導(dǎo)電棒與基板距離25~40cm，導(dǎo)電棒連接1. 2~ 1. 5kV電源。
[0015] 請(qǐng)參見圖2,本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施方式的垂直式光學(xué)塑料基板鍍膜裝置，包括置于 真空爐內(nèi)的鍍膜傘具、蒸發(fā)源和導(dǎo)電棒，鍍膜傘具設(shè)有側(cè)板和傘面，待鍍膜基板放置在傘面 上。傘面與水平夾角為10~25°蒸發(fā)源設(shè)置在鍍膜傘具內(nèi)的下部，導(dǎo)電棒為直徑10cm，長(zhǎng) 度為1.0m的無氧銅棒材。導(dǎo)電棒分成左右兩根固定設(shè)置在塑料基板與蒸發(fā)源之間。導(dǎo)電 棒與塑料基板表面夾角為0~5°盡量處理為平行，導(dǎo)電棒與基板距離20~30cm，導(dǎo)電棒 連接1. 2~1. 5kV電源。
[0016] 采用上述兩個(gè)實(shí)施方式以不同參數(shù)進(jìn)行鍍膜，具體的，在蒸鍍前，先將導(dǎo)電棒接通 高壓電，產(chǎn)生放電效應(yīng)，通過釋放出的高能粒子對(duì)蒸鍍基板表面進(jìn)行轟擊處理，調(diào)整放電時(shí) 間。不同實(shí)施方式不同參數(shù)取得的鍍膜果如下表所示
[0017]
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種光學(xué)塑料基板鍍膜裝置，包括置于真空爐內(nèi)的鍍膜傘具（1)和蒸發(fā)源（2)，所述 鍍膜傘具⑴設(shè)有側(cè)板（lb)和傘面（la)，所述側(cè)板（lb)和傘面（la)用于放置待鍍膜基板 (3)，所述蒸發(fā)源（2)設(shè)置在鍍膜傘具（1)內(nèi)，其特征在于，包括導(dǎo)電棒（4)，所述導(dǎo)電棒（4) 設(shè)置在基板（3)與蒸發(fā)源（2)之間，所述導(dǎo)電棒（4)與基板（3)表面夾角為0~5°，所述 導(dǎo)電棒⑷與基板（3)距離20~40cm，所述導(dǎo)電棒⑷連接1. 2~1. 5kV電源（5)。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)塑料基板鍍膜裝置，其特征在于：所述側(cè)板（lb)與水平 面夾角為70~85°，所述基板（3)設(shè)置在側(cè)板（lb)上，所述導(dǎo)電棒（4)與基板（3)距離 25 ~40cm。3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)塑料基板鍍膜裝置，其特征在于：所述傘面與水平面夾 角為10~25°，所述基板設(shè)置在傘面上，所述導(dǎo)電棒與基板距離20~30cm。4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)塑料基板鍍膜裝置，其特征在于：所述導(dǎo)電棒長(zhǎng)度為 0· 6 ~1. 0m，直徑 10cm。5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)塑料基板鍍膜裝置，其特征在于：所述導(dǎo)電棒為無氧銅 材料。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種光學(xué)塑料基板鍍膜裝置，包括置于真空爐內(nèi)的鍍膜傘具、蒸發(fā)源和導(dǎo)電棒，所述鍍膜傘具設(shè)有側(cè)板和傘面，所述側(cè)板和傘面用于放置待鍍膜基板，所述蒸發(fā)源設(shè)置在鍍膜傘具內(nèi)，所述導(dǎo)電棒設(shè)置在基板與蒸發(fā)源之間，所述導(dǎo)電棒與基板表面夾角為0～5°，所述導(dǎo)電棒與基板距離20～40cm，所述導(dǎo)電棒連接1.2～1.5kV電源。該鍍膜裝置使塑料基板鍍膜可以不使用IAD工藝得到良好的牢固度。
【IPC分類】C23C14/24
【公開號(hào)】CN105296933
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510741326
【發(fā)明人】龔裕, 范辛
【申請(qǐng)人】京浜光學(xué)制品（常熟）有限公司
【公開日】2016年2月3日
【申請(qǐng)日】2015年11月4日