一種鍍膜光學(xué)元件擦拭固定裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及光學(xué)鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，特別是一種鍍膜光學(xué)元件擦拭固定裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著軍事和民用技術(shù)的迅速發(fā)展，在光學(xué)鍍膜領(lǐng)域，光學(xué)元件的需求尺寸越來越大，特別是大尺寸的平板元件使用越來越多，這就給光學(xué)元件的表面清潔帶來極大的困難。一般小尺寸的光學(xué)元件都采用手持擦拭的方式進行，一手托持，一手擦拭。但光學(xué)元件直徑超過120_時，用單手托持就不太合適，目前常用的方法是采取一手扶持一手擦拭的方式，但在反復(fù)擦拭和檢查過程中很容易造成邊緣二次玷污，影響光學(xué)元件擦拭清潔的效率。同時大尺寸光學(xué)元件質(zhì)量較重，容易手滑造成光學(xué)元件損壞。
【實用新型內(nèi)容】
[0003]為了解決上述問題，本實用新型的目的是提供一種鍍膜光學(xué)元件擦拭固定裝置，其可以在擦拭清潔光學(xué)元件表面時供大尺寸平面光學(xué)元件托放固定，有助于快速、安全、有效的清潔光學(xué)元件。
[0004]為實現(xiàn)上述目的，本實用新型采取以下技術(shù)方案:
[0005]一種鍍膜光學(xué)元件擦拭固定裝置，它包括上部用于托放光學(xué)元件的托盤及設(shè)于該托盤下部的支座；該托盤上表面周緣具有環(huán)形的第一凸緣，該第一凸緣上具有環(huán)形的第二凸緣，該托盤上表面、該第一凸緣上表面與該第二凸緣的上表面形成臺階狀；該支座內(nèi)部具有負壓腔室，頂部為帶若干氣孔的平面；該支座具有抽氣閥門及進氣閥門，均與該負壓腔室連通。
[0006]進一步的，所述支座頂部的平面與所述托盤的下表面之間設(shè)有密封圈，所述氣孔位于所述密封圈內(nèi)部。
[0007]進一步的，所述支座頂部的平面設(shè)有下凹的環(huán)槽，形狀與所述密封圈對應(yīng)，所述密封圈設(shè)于該環(huán)槽中。
[0008]優(yōu)選的，所述密封圈為氟橡膠密封圈。
[0009]進一步的，所述第二凸緣的高度小于所述光學(xué)元件的厚度。
[0010]進一步的，所述托盤為圓形或方形。
[0011]本實用新型的有益效果是:本實用新型在光學(xué)元件的擦拭清潔過程中，可以實現(xiàn)非人工托持，可以有效提高擦拭清潔效率，并且能夠保護其光學(xué)表面。
【附圖說明】
[0012]圖1是本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0013]圖2是本實用新型的支座的俯視圖。
【具體實施方式】
[0014]以下將以具體實施實例結(jié)合附圖來說明本實用新型的結(jié)構(gòu)和所能達到的技術(shù)效果，但所選用的實例僅用于說明解釋，并非限制本實用新型的范圍。
[0015]如圖1和圖2所示，本實用新型提供一種鍍膜光學(xué)元件擦拭固定裝置，它包括托盤I及設(shè)于該托盤I下部的支座2。該托盤I尺寸按照所需擦拭的光學(xué)元件尺寸進行制作，可以為圓形或方形，其上表面周緣具有環(huán)形的第一凸緣11，該第一凸緣11上具有環(huán)形的第二凸緣12，該托盤I上表面、該第一凸緣11上表面與該第二凸緣12的上表面形成臺階狀，而該第一凸緣11與該托盤I上表面之間形成凹坑。該第一凸緣11上表面即用于托放光學(xué)元件3，該第二凸緣12用于阻擋光學(xué)元件3滑動。該第一凸緣11上表面的寬度需根據(jù)凹坑尺寸確定，而凹坑尺寸需要根據(jù)光學(xué)元件3鍍膜后所要求的通光孔徑設(shè)計。另外，該第二凸緣12的高度最好小于該光學(xué)元件3的厚度，使得光學(xué)元件3放置到托盤I上后，要保證光學(xué)元件3上表面高于該第二凸緣12上表面，使得光學(xué)元件3待清潔的一面可以得到完全徹底地清洗擦拭。
[0016]如圖1、圖2所示，該支座2內(nèi)部具有負壓腔室21，頂部為帶若干氣孔22的平面。該支座2具有抽氣閥門4及進氣閥門5，均與該負壓腔室21連通。抽氣設(shè)備和該抽氣閥門4連接后使得該負壓腔室21內(nèi)呈負壓，進而吸緊上部的托盤I。為了更好地吸緊該托盤1，該支座2頂部的平面與該托盤I的下表面之間設(shè)有密封圈6，該氣孔22位于該密封圈6內(nèi)部。通過密封圈6的密封作用，負壓腔室21和托盤I之間可以形成密閉的真空腔體。而該支座2頂部的平面設(shè)有下凹的環(huán)槽23，形狀與該密封圈6對應(yīng)，該密封圈6設(shè)于該環(huán)槽23中。優(yōu)選的，該密封圈6為氟橡膠密封圈。進氣閥門5可以實現(xiàn)鍍膜光學(xué)元件3擦拭完畢后進氣消除負壓，取下托盤I和其上的待鍍膜光學(xué)元件3。
[0017]本實用新型鍍膜光學(xué)元件擦拭固定裝置在使用和操作時，首先將待擦拭鍍膜的光學(xué)元件3放置在托盤I上，然后將托盤I放置在支座2上方，放置時確認(rèn)環(huán)形密封圈6四周高度一致，保證密封效果，通過抽氣閥門4對負壓腔室21進行抽真空，用手晃動托盤I確定其吸牢后，根據(jù)既有的窗口擦拭工藝對帶鍍膜光學(xué)元件3進行清潔。清潔完畢后，關(guān)閉真空泵，一手扶穩(wěn)托盤1，一手打開進氣閥門5，待負壓腔室21壓力恢復(fù)大氣壓后，將托盤I取下并取下待鍍膜光學(xué)元件3。
[0018]本實用新型的優(yōu)點是:
[0019]1.避免了手持擦拭和檢查過程中光學(xué)元件的邊緣二次玷污。
[0020]2.減少了人工手持光學(xué)元件的時間，對于較重的大尺寸光學(xué)元件，降低了勞動強度；
[0021]3.采用真空吸附的方式，可以通過開閉閥門，快速取放托盤及光學(xué)元件；
[0022]4.手持擦拭過程中會存在光學(xué)元件受力不均，會影響光學(xué)元件的擦拭效率，而本實用新型采用平面真空吸附固定的方式，保證擦拭過程中整個面上受力均勻，提高了大尺寸光學(xué)元件的擦拭清潔效率。
[0023]需要指出的是，上述實施方式僅僅是可能的實施例，是為了清楚地理解本實用新型的原理而提出的?？梢栽诓槐畴x本實用新型原理和范圍的情況下對上述本實用新型的實施方式進行許多變化和修改。所有這些修改和變化都包括在本實用新型揭示的范圍中，并且受到所附權(quán)利要求的保護。
【主權(quán)項】
1.一種鍍膜光學(xué)元件擦拭固定裝置，其特征在于，它包括上部用于托放光學(xué)元件的托盤及設(shè)于該托盤下部的支座；該托盤上表面周緣具有環(huán)形的第一凸緣，該第一凸緣上具有環(huán)形的第二凸緣，該托盤上表面、該第一凸緣上表面與該第二凸緣的上表面形成臺階狀；該支座內(nèi)部具有負壓腔室，頂部為帶若干氣孔的平面；該支座具有抽氣閥門及進氣閥門，均與該負壓腔室連通。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍膜光學(xué)元件擦拭固定裝置，其特征在于:所述支座頂部的平面與所述托盤的下表面之間設(shè)有密封圈，所述氣孔位于所述密封圈內(nèi)部。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的鍍膜光學(xué)元件擦拭固定裝置，其特征在于:所述支座頂部的平面設(shè)有下凹的環(huán)槽，形狀與所述密封圈對應(yīng)，所述密封圈設(shè)于該環(huán)槽中。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的鍍膜光學(xué)元件擦拭固定裝置，其特征在于:所述密封圈為氟橡膠密封圈。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍膜光學(xué)元件擦拭固定裝置，其特征在于:所述第二凸緣的高度小于所述光學(xué)元件的厚度。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍膜光學(xué)元件擦拭固定裝置，其特征在于:所述托盤為圓形或方形。
【專利摘要】一種鍍膜光學(xué)元件擦拭固定裝置，它包括上部用于托放光學(xué)元件的托盤及設(shè)于該托盤下部的支座；該托盤上表面周緣具有環(huán)形的第一凸緣，該第一凸緣上具有環(huán)形的第二凸緣，該托盤上表面、該第一凸緣上表面與該第二凸緣的上表面形成臺階狀；該支座內(nèi)部具有負壓腔室，頂部為帶若干氣孔的平面；該支座具有抽氣閥門及進氣閥門，均與該負壓腔室連通。本實用新型在光學(xué)元件的擦拭清潔過程中，可以實現(xiàn)非人工托持，可以有效提高擦拭清潔效率，并且能夠保護其光學(xué)表面。
【IPC分類】B08B1-00, B08B11-02
【公開號】CN204365679
【申請?zhí)枴緾N201420806861
【發(fā)明人】劉偉, 許寧, 張曉濤
【申請人】北京國晶輝紅外光學(xué)科技有限公司
【公開日】2015年6月3日
【申請日】2014年12月17日