彩膜基板、其制作方法、oled顯示面板及顯示裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤指一種彩膜基板、其制作方法、OLED顯示面板及顯示
目.ο
【背景技術(shù)】
[0002]目前，有機電致發(fā)光顯示面板(Organic Light — Emitting Display，OLED)具有更薄更輕、主動發(fā)光(不需要背光源)、無視角問題、高清晰、高亮度、響應(yīng)快速、能耗低、使用溫度范圍廣、抗震能力強、成本低和可實現(xiàn)柔軟顯示等優(yōu)點。
[0003]頂發(fā)射型有機電致發(fā)光顯示面板通常由彩膜基板和具有TFT驅(qū)動結(jié)構(gòu)的陣列基板進行對盒而成；其中，陣列基板包括頂發(fā)射型有機電致發(fā)光器件的下半部分，該頂發(fā)射型有機電致發(fā)光器件的發(fā)光方式可以為采用RGB發(fā)光材料發(fā)光，也可以采用白色有機發(fā)光二極管發(fā)光；彩膜基板包括黑矩陣結(jié)構(gòu)，至少三種顏色不同的濾光片的彩色濾光層結(jié)構(gòu)，以及起支撐作用的阻隔墊結(jié)構(gòu)，各濾光片分別單獨設(shè)置在對應(yīng)的亞像素單元所在區(qū)域，這樣光源在通過不同顏色的濾光片時，就可以在對應(yīng)的亞像素單元所在區(qū)域分別形成不同顏色的光。由于阻隔墊的材料一般為高彈性恢復(fù)率和高外壓形變承受能力的材料，例如負性亞克力類光阻材料，而負性亞克力類光阻材料是透明材料，所以在頂發(fā)射有機電致發(fā)光型顯示中，彩膜基板上相鄰亞像素單元之間的光會有串?dāng)_，發(fā)生光混色，影響了有機電致發(fā)光顯示面板的顯示效果。
[0004]因此，如何防止相鄰亞像素單元之間的光串?dāng)_，進而提高顯示效果，是本領(lǐng)域技術(shù)人員亟需解決的技術(shù)問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]有鑒于此，本發(fā)明實施例提供一種彩膜基板、其制作方法、OLED顯示面板及顯示裝置，可以防止相鄰亞像素單元之間的光串?dāng)_，避免混色，提高光的取出效率和顯示對比度，從而提尚顯不效果。
[0006]因此，本發(fā)明實施例提供了一種彩膜基板，包括:包括:襯底基板，以及依次層疊設(shè)置在所述襯底基板上的黑矩陣層和阻隔墊層，所述阻隔墊層包括同層設(shè)置的多個阻隔墊；其中，
[0007]各所述阻隔墊的圖形在所述襯底基板上的正投影位于所述黑矩陣層的圖形所在區(qū)域內(nèi)；
[0008]各所述阻隔墊的表面具有輔助功能層，所述輔助功能層用于將照射到所述阻隔墊表面的光線進行吸收或反射。
[0009]在一種可能的實現(xiàn)方式中，在本發(fā)明實施例提供的上述彩膜基板中，所述輔助功能層為由不透明金屬氧化物材料形成的光吸收層，所述光吸收層覆蓋所述阻隔墊。
[0010]在一種可能的實現(xiàn)方式中，在本發(fā)明實施例提供的上述彩膜基板中，所述輔助功能層為由金屬材料形成的光反射層，所述光反射層覆蓋所述阻隔墊。[0011 ] 在一種可能的實現(xiàn)方式中，在本發(fā)明實施例提供的上述彩膜基板中，所述輔助功能層包括在所述阻隔墊的表面依次層疊設(shè)置的由金屬材料形成的光反射層，以及由不透明金屬氧化物材料形成的光吸收層，所述光反射層覆蓋所述阻隔墊，所述光吸收層包覆于所述阻隔墊的外側(cè)。
[0012]在一種可能的實現(xiàn)方式中，在本發(fā)明實施例提供的上述彩膜基板中，所述阻隔墊的材料為透明的負性亞克力類樹脂材料或聚酰亞胺類樹脂材料。
[0013]本發(fā)明實施例還提供了一種本發(fā)明實施例提供的上述彩膜基板的制作方法，包括:
[0014]在襯底基板上依次形成黑矩陣層和阻隔墊的圖形；各所述阻隔墊的圖形在所述襯底基板上的正投影位于所述黑矩陣層的圖形所在區(qū)域內(nèi)；
[0015]在各所述阻隔墊圖形的表面形成輔助功能層的圖形；所述輔助功能層用于將照射到所述阻隔墊表面的光線進行吸收或反射。
[0016]在一種可能的實現(xiàn)方式中，本發(fā)明實施例提供的上述彩膜基板的制作方法中，在各所述阻隔墊圖形的表面形成輔助功能層的圖形，具體包括:
[0017]在形成有所述阻隔墊圖形的襯底基板上沉積一層不透明金屬氧化物材料；
[0018]對所述不透明金屬氧化物材料進行構(gòu)圖工藝形成覆蓋所述阻隔墊圖形的光吸收層的圖形。
[0019]在一種可能的實現(xiàn)方式中，本發(fā)明實施例提供的上述彩膜基板的制作方法中，在各所述阻隔墊圖形的表面形成輔助功能層的圖形，具體包括:
[0020]在形成有所述阻隔墊圖形的襯底基板上沉積一層金屬材料；
[0021]對所述金屬材料進行構(gòu)圖工藝形成覆蓋所述阻隔墊圖形的光反射層的圖形。
[0022]在一種可能的實現(xiàn)方式中，本發(fā)明實施例提供的上述彩膜基板的制作方法中，在形成覆蓋所述阻隔墊圖形的光反射層的圖形之后，還包括:
[0023]在形成有所述光反射層圖形的襯底基板上沉積一層不透明金屬氧化物材料；
[0024]對所述不透明金屬氧化物材料進行構(gòu)圖工藝形成包覆于阻隔墊外側(cè)的光吸收層的圖形。
[0025]本發(fā)明實施例還提供了一種有機電致發(fā)光顯示面板，包括:相對設(shè)置的彩膜基板和陣列基板；其中，
[0026]所述彩膜基板為本發(fā)明實施例提供的上述彩膜基板；
[0027]所述陣列基板包括RGB發(fā)光材料層或白色有機發(fā)光二極管。
[0028]本發(fā)明實施例還提供了一種顯示裝置，包括本發(fā)明實施例提供的上述有機電致發(fā)光顯不面板。
[0029]本發(fā)明實施例的有益效果包括:
[0030]本發(fā)明實施例提供的一種彩膜基板、其制作方法、OLED顯示面板及顯示裝置，包括:襯底基板，以及依次層疊設(shè)置在襯底基板上的黑矩陣層和阻隔墊層，阻隔墊層包括同層設(shè)置的多個阻隔墊；其中，各阻隔墊的圖形在襯底基板上的正投影位于黑矩陣層的圖形所在區(qū)域內(nèi)，這樣不會占用彩膜基板的開口率；各阻隔墊的表面具有輔助功能層，輔助功能層用于將照射到阻隔墊表面的光線進行吸收或反射，這樣可以防止彩膜基板上相鄰亞像素單元之間的光串?dāng)_，避免混色，進一步提高光的取出效率和顯示對比度，進而提升顯示效果。
【附圖說明】
[0031]圖1a為本發(fā)明實施例提供的彩膜基板的結(jié)構(gòu)示意圖之一；
[0032]圖1b為圖1a的俯視圖；
[0033]圖2a為本發(fā)明實施例提供的彩膜基板的結(jié)構(gòu)示意圖之二；
[0034]圖2b為圖2a的俯視圖；
[0035]圖3為本發(fā)明實施例提供的彩膜基板的制作方法流程圖；
[0036]圖4a至圖4d分別為本發(fā)明實施例提供的彩膜基板的制作方法在各步驟執(zhí)行后的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0037]圖5為本發(fā)明實施例提供的有機電致發(fā)光顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實施方式】
[0038]下面結(jié)合附圖，對本發(fā)明實施例提供的彩膜基板、其制作方法、OLED顯示面板及顯示裝置的【具體實施方式】進行詳細地說明。
[0039]其中，附圖中各膜層的厚度和形狀不反映彩膜基板的真實比例，目的只是示意說明本
【發(fā)明內(nèi)容】
。
[0040]本發(fā)明實施例提供了一種彩膜基板，如圖1a至圖2b所示，包括:襯底基板1，以及依次層疊設(shè)置在襯底基板I上的黑矩陣層2和阻隔墊層，阻隔墊層包括同層設(shè)置的多個阻隔墊3 ;其中，
[0041]各阻隔墊3的圖形在襯