1.一種蒸鍍系統(tǒng)，其特征在于，包括：
承載臺(tái)，具有一用于承載基板的承載面；
固定結(jié)構(gòu)，設(shè)置于所述承載臺(tái)上，用于將基板固定于所述承載面上；
取放結(jié)構(gòu)，設(shè)置于所述承載臺(tái)上與所述承載面相對(duì)的第一連接面上，能夠與機(jī)器人手臂配合以實(shí)現(xiàn)所述承載臺(tái)的翻轉(zhuǎn)或運(yùn)輸。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍系統(tǒng)，其特征在于，基板與所述承載臺(tái)連接的第二連接面上設(shè)有金屬層，所述承載臺(tái)內(nèi)設(shè)中空腔體，所述固定結(jié)構(gòu)包括：
磁力吸附部，設(shè)于所述中空腔體內(nèi)；
移動(dòng)控制部，用于控制所述磁力吸附部在第一狀態(tài)和第二狀態(tài)間轉(zhuǎn)換；
其中，所述第一狀態(tài)為，所述磁力吸附部在所述移動(dòng)控制部的控制下向靠近基板的方向移動(dòng)至預(yù)設(shè)位置以將基板吸附于所述承載面上；
所述第二狀態(tài)為，所述磁力吸附部在所述移動(dòng)控制部的控制下向遠(yuǎn)離所述承載面的方向移動(dòng)以使得基板脫離所述磁力吸附部的磁力吸附。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的蒸鍍系統(tǒng)，其特征在于，所述磁力吸附部為可移動(dòng)的設(shè)置于所述中空腔體內(nèi)的磁力吸附板。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的蒸鍍系統(tǒng)，其特征在于，所述移動(dòng)控制部包括：
驅(qū)動(dòng)單元，包括一驅(qū)動(dòng)電機(jī)；
傳動(dòng)單元，一端與所述磁力吸附部連接，另一端穿過(guò)所述第一連接面與所述驅(qū)動(dòng)單元傳動(dòng)連接。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的蒸鍍系統(tǒng)，其特征在于，所述承載面上設(shè)有多個(gè)與所述中空腔體連通的通孔，所述承載臺(tái)上與所述承載面相鄰或相對(duì)的面上設(shè)有與所述中空腔體連通的通孔。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍系統(tǒng)，其特征在于，所述承載臺(tái)包括與所述承載面相鄰的側(cè)面，基板上至少相對(duì)的兩個(gè)側(cè)邊的邊緣設(shè)有卡接孔，所述固定結(jié)構(gòu)包括：
至少兩個(gè)卡接部，對(duì)稱設(shè)置于所述側(cè)面上，能夠卡接于所述卡接孔以將基板固定于所述承載面上。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的蒸鍍系統(tǒng)，其特征在于，所述卡接部包括設(shè)置于所述承載臺(tái)上對(duì)應(yīng)的側(cè)面的卡子，所述卡子的一端樞接于所述承載臺(tái)上對(duì)應(yīng)的側(cè)面，所述卡子的另一端為自由端。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的蒸鍍系統(tǒng)，其特征在于，所述卡接部還包括緩沖部，在所述卡子與所述卡接孔配合將基板固定于所述承載面上時(shí)，所述緩沖部設(shè)置于所述卡子與基板之間。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-8任一項(xiàng)所述的蒸鍍系統(tǒng)，其特征在于，所述承載面為與基板的形狀相同的平面結(jié)構(gòu)，在承載基板時(shí)，所述承載面的中心與基板的中心重合。
10.根據(jù)權(quán)利要求1-8任一項(xiàng)所述的蒸鍍系統(tǒng)，其特征在于，所述取放結(jié)構(gòu)包括：
兩個(gè)插接部，相對(duì)于所述第一連接面的中心對(duì)稱設(shè)置于所述第一連接面上。