本發(fā)明涉及蒸鍍技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種蒸鍍系統(tǒng)和蒸鍍系統(tǒng)的蒸鍍方法。

背景技術(shù)：

相關(guān)技術(shù)中，蒸鍍系統(tǒng)的子蒸鍍腔位于傳送裝置的兩側(cè)，并通過(guò)機(jī)械手做旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)在子蒸鍍腔之間、子蒸鍍腔與傳送腔室之間傳遞工件，整個(gè)蒸鍍系統(tǒng)中的機(jī)械手?jǐn)?shù)量多，占用空間大且操作復(fù)雜，同時(shí)蒸鍍系統(tǒng)的空間利用率不高，空間浪費(fèi)現(xiàn)象嚴(yán)重、布局不合理。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明旨在至少解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問(wèn)題之一。為此，本發(fā)明提出一種蒸鍍系統(tǒng)，所述蒸鍍系統(tǒng)的布局合理、操作簡(jiǎn)單。

本發(fā)明的另一個(gè)目的在于提出了一種蒸鍍系統(tǒng)的蒸鍍方法。

根據(jù)本發(fā)明第一方面實(shí)施例的蒸鍍系統(tǒng)，包括：至少一條蒸鍍線，每條所述蒸鍍線包括蒸鍍腔室，所述蒸鍍腔室包括多個(gè)子蒸鍍腔，多個(gè)所述子蒸鍍腔依次相連，所述蒸鍍腔室的一端形成有蒸鍍線入口、另一端形成有蒸鍍線出口，所述子蒸鍍腔內(nèi)設(shè)有蒸發(fā)源組件；第一傳送軌道，所述第一傳送軌道穿設(shè)在所述蒸鍍線入口和所述蒸鍍線出口之間，所述第一傳送軌道位于所述蒸發(fā)源組件的上方；托盤(pán)，所述托盤(pán)包括用于放置工件的托架，所述托盤(pán)可移動(dòng)地設(shè)在所述第一傳送軌道上以在所述蒸鍍線入口和所述蒸鍍線出口之間傳送所述工件使所述蒸發(fā)源組件對(duì)所述工件進(jìn)行蒸鍍。

根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的蒸鍍系統(tǒng)，通過(guò)使得蒸鍍腔室的多個(gè)子蒸鍍腔依次相連，并在蒸鍍系統(tǒng)中設(shè)置第一傳送軌道和托盤(pán)，使得托盤(pán)在第一傳送軌道上移動(dòng)以在各子蒸鍍腔傳遞工件，省去了相關(guān)技術(shù)中設(shè)置在各子蒸鍍腔之間用于傳遞工件的機(jī)械手和機(jī)械手在各子蒸鍍腔之間的傳遞工序，簡(jiǎn)化了操作步驟，降低了工件在傳遞過(guò)程中破碎的風(fēng)險(xiǎn)，減小了工件與正常蒸鍍位置之間的偏差，降低了對(duì)位工序的難度，同時(shí)優(yōu)化了蒸鍍線的布局，提高了空間利用率，使得蒸鍍線的結(jié)構(gòu)更加緊湊、布局更加合理，減小了蒸鍍系統(tǒng)的整體占用空間和成本。

根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例，所述蒸鍍系統(tǒng)還包括：第二傳送軌道，所述第二傳送軌道設(shè)在所述蒸鍍腔室外，所述第二傳送軌道與所述第一傳送軌道圍成環(huán)形軌道以使所述托盤(pán)在所述蒸鍍線入口和所述蒸鍍線出口之間循環(huán)移動(dòng)。

根據(jù)本發(fā)明的一些具體實(shí)施例，所述蒸鍍線為多條，所述第二傳送軌道連接在相鄰的兩條所述蒸鍍線之間，所述第二傳送軌道的一端與相鄰的兩條所述蒸鍍線中的其中一條所述蒸鍍線的所述蒸鍍線出口相連、另一端與相鄰的兩條所述蒸鍍線中的另一條所述蒸鍍線的所述蒸鍍線入口相連以在多條所述蒸鍍線之間形成所述環(huán)形軌道。

根據(jù)本發(fā)明的另一些具體實(shí)施例，所述第二傳送軌道連接在每條所述蒸鍍線的所述蒸鍍線出口和所述蒸鍍線入口之間以在每條所述蒸鍍線之間形成所述環(huán)形軌道。

可選地，所述環(huán)形軌道形成為多邊形軌道。

根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例，多條所述蒸鍍線的所述第一傳送軌道和所述第二傳送軌道圍成方形的所述環(huán)形軌道。

具體地，所述蒸鍍線為兩條，兩條所述蒸鍍線的所述蒸鍍腔室相互平行，且兩條所述蒸鍍線中的所述工件的移動(dòng)方向相反。

可選地，所述第一傳送軌道和所述第二傳送軌道均為滾珠絲杠導(dǎo)軌。

根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例，所述蒸鍍線還包括：入口過(guò)渡腔，所述入口過(guò)渡腔位于所述蒸鍍線入口的上游，所述入口過(guò)渡腔和所述蒸鍍線入口之間設(shè)有至少一個(gè)第一對(duì)位機(jī)構(gòu)，所述第一對(duì)位機(jī)構(gòu)被構(gòu)造成對(duì)所述工件進(jìn)行預(yù)對(duì)位。

進(jìn)一步地，所述蒸鍍線還包括：掩膜板，所述掩膜板設(shè)在所述工件和所述蒸發(fā)源組件之間；至少一個(gè)所述子蒸鍍腔內(nèi)設(shè)有第二對(duì)位機(jī)構(gòu)，所述第二對(duì)位機(jī)構(gòu)被構(gòu)造成對(duì)所述工件進(jìn)行對(duì)位以使所述工件的待蒸鍍區(qū)對(duì)準(zhǔn)所述掩膜板的圖案。

具體地，所述第二對(duì)位機(jī)構(gòu)包括：對(duì)位板，所述對(duì)位板位于所述第一傳送軌道的上方，所述對(duì)位板的上設(shè)有向下延伸的對(duì)位部；控制器，所述控制器與所述對(duì)位板相連，所述控制器被構(gòu)造成控制所述對(duì)位板移動(dòng)以使所述對(duì)位部對(duì)所述工件進(jìn)行對(duì)位；和

彈性調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)，所述彈性調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)設(shè)在所述托盤(pán)的底部。

具體地，所述托盤(pán)還包括側(cè)邊，所述側(cè)邊連接在所述托架的外邊緣，所述工件的上表面低于所述側(cè)邊的上端面。

根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例，所述對(duì)位部為兩個(gè)，兩個(gè)所述對(duì)位部間隔設(shè)置，且在從上到下的方向上，兩個(gè)所述對(duì)位部彼此相對(duì)的一側(cè)表面分別朝向遠(yuǎn)離彼此的方向傾斜延伸。

根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例，所述蒸鍍線還包括：多個(gè)掩膜板室，每個(gè)所述掩膜板室內(nèi)設(shè)有多個(gè)掩膜板，多個(gè)所述掩膜板室與多個(gè)所述子蒸鍍腔一一對(duì)應(yīng)，所述掩膜板室和與其對(duì)應(yīng)的所述子蒸鍍腔之間設(shè)有連通通道，所述掩膜板在所述連通通道內(nèi)可移動(dòng)以對(duì)所述子蒸鍍腔內(nèi)的所述掩膜板進(jìn)行更換；

更換裝置，所述更換裝置在所述掩膜板室和與其對(duì)應(yīng)的所述子蒸鍍腔之間可移動(dòng)，所述更換裝置被構(gòu)造成將所述子蒸鍍腔內(nèi)的所述掩膜板取出并將所述掩膜板室內(nèi)的所述掩膜板運(yùn)輸?shù)剿鲎诱翦兦粌?nèi)以更換所述子蒸鍍腔內(nèi)的所述掩膜板。

具體地，所述更換裝置包括推拉桿，所述推拉桿在所述掩膜板室和與其對(duì)應(yīng)的所述子蒸鍍腔之間可移動(dòng)，所述掩膜板的鄰近所述推拉桿的側(cè)壁上設(shè)有配合孔，所述推拉桿適于伸入所述配合孔內(nèi)以在所述推拉桿移動(dòng)時(shí)帶動(dòng)所述掩膜板移動(dòng)。

根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例，至少一個(gè)所述子蒸鍍腔內(nèi)的所述蒸發(fā)源組件包括多個(gè)蒸發(fā)源，多個(gè)所述蒸發(fā)源中的至少一個(gè)為備用蒸發(fā)源。

具體地，相鄰的兩個(gè)所述子蒸鍍腔之間設(shè)有閘門，所述閘門在打開(kāi)狀態(tài)和關(guān)閉狀態(tài)之間可切換，所述閘門處于所述打開(kāi)狀態(tài)下所述托盤(pán)從兩個(gè)所述子蒸鍍腔中的其中一個(gè)內(nèi)移動(dòng)至兩個(gè)所述子蒸鍍腔中的另一個(gè)內(nèi)。

可選地，至少一條所述蒸鍍線的多個(gè)所述子蒸鍍腔呈一字形排列，或者呈折線形排列，或者呈蜂窩狀環(huán)形排列。

根據(jù)本發(fā)明第二方面實(shí)施例的蒸鍍系統(tǒng)的蒸鍍方法，包括以下步驟：將所述工件放置在所述蒸鍍線入口處的所述托盤(pán)上；所述工件隨所述托盤(pán)進(jìn)入所述蒸鍍腔室并在多個(gè)所述子蒸鍍腔之間依次移動(dòng)以對(duì)所述工件進(jìn)行蒸鍍；蒸鍍后的所述工件隨所述托盤(pán)移動(dòng)至所述蒸鍍線出口外；將蒸鍍后的所述工件從所述托盤(pán)中取出，并將所述工件送至下一個(gè)工序。

根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例，所述工件隨所述托盤(pán)進(jìn)入所述蒸鍍腔室前，還包括以下步驟：對(duì)所述工件進(jìn)行預(yù)對(duì)位。

進(jìn)一步地，所述工件進(jìn)入所述子蒸鍍腔內(nèi)后、對(duì)所述工件進(jìn)行蒸鍍前，還包括以下步驟：對(duì)所述工件進(jìn)行精對(duì)位。

根據(jù)本發(fā)明的一些具體實(shí)施例，將蒸鍍后的所述工件從所述托盤(pán)中取出后，還包括以下步驟：所述托盤(pán)從所述蒸鍍線出口處移動(dòng)至所述蒸鍍線入口處。

根據(jù)本發(fā)明第二方面實(shí)施例的蒸鍍系統(tǒng)的蒸鍍方法，通過(guò)托盤(pán)帶著工件在第一傳送軌道上移動(dòng)以使工件在各子蒸鍍腔之間傳遞，省去了相關(guān)技術(shù)中設(shè)置在各子蒸鍍腔之間用于傳遞工件的機(jī)械手和機(jī)械手在各子蒸鍍腔之間的傳遞工序，簡(jiǎn)化了操作步驟，降低了工件在傳遞過(guò)程中破碎的風(fēng)險(xiǎn)，減小了工件與正常蒸鍍位置之間的偏差，降低了對(duì)位工序的難度，同時(shí)優(yōu)化了蒸鍍線的布局，提高了空間利用率，使得蒸鍍線的結(jié)構(gòu)更加緊湊、布局更加合理，減小了蒸鍍系統(tǒng)的整體占用空間和成本。

本發(fā)明的附加方面和優(yōu)點(diǎn)將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過(guò)本發(fā)明的實(shí)踐了解到。

附圖說(shuō)明

本發(fā)明的上述和/或附加的方面和優(yōu)點(diǎn)從結(jié)合下面附圖對(duì)實(shí)施例的描述中將變得明顯和容易理解，其中：

圖1是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的蒸鍍系統(tǒng)的產(chǎn)線布局示意圖；

圖2是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的蒸鍍腔室的局部側(cè)視圖；

圖3是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的蒸鍍腔室的局部俯視圖；

圖4是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的掩膜板室和子蒸鍍腔的示意圖；

圖5是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的掩膜板室的另一個(gè)示意圖；

圖6是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的掩膜板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖7是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的蒸鍍系統(tǒng)的蒸鍍方法的托盤(pán)傳遞流程圖。

附圖標(biāo)記：

蒸鍍系統(tǒng)1000，

蒸鍍線100，蒸鍍線入口101，蒸鍍線出口102，

子蒸鍍腔11，閘門111，

第一傳送軌道2，子軌道21，

托盤(pán)3，子托架31，側(cè)邊32，

工件4，

蒸發(fā)源組件5，蒸發(fā)源51，機(jī)械臂52，

入口過(guò)渡腔61，出口過(guò)渡腔62，第一機(jī)械手63，第二機(jī)械手64，封裝工序65，檢測(cè)工序66，

第一對(duì)位機(jī)構(gòu)71，對(duì)位板721，對(duì)位部7211，圖像采集器722，彈性調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)723，

掩膜板81，配合孔811，支架82，

掩膜板室91，推拉桿92，擱架93，支撐導(dǎo)軌931，滾輪9311。

具體實(shí)施方式

下面詳細(xì)描述本發(fā)明的實(shí)施例，所述實(shí)施例的示例在附圖中示出，其中自始至終相同或類似的標(biāo)號(hào)表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過(guò)參考附圖描述的實(shí)施例是示例性的，僅用于解釋本發(fā)明，而不能理解為對(duì)本發(fā)明的限制。

在本發(fā)明的描述中，需要理解的是，術(shù)語(yǔ)“中心”、“縱向”、“橫向”、“長(zhǎng)度”、“寬度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“頂”、“底”“內(nèi)”、“外”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本發(fā)明和簡(jiǎn)化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對(duì)本發(fā)明的限制。此外，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隱含地包括一個(gè)或者更多個(gè)該特征。

在本發(fā)明的描述中，需要說(shuō)明的是，除非另有明確的規(guī)定和限定，術(shù)語(yǔ)“安裝”、“相連”、“連接”應(yīng)做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或一體地連接；可以是機(jī)械連接，也可以是電連接；可以是直接相連，也可以通過(guò)中間媒介間接相連，可以是兩個(gè)元件內(nèi)部的連通。對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以具體情況理解上述術(shù)語(yǔ)在本發(fā)明中的具體含義。

下面參考圖1-圖7描述根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的蒸鍍系統(tǒng)1000。其中，蒸鍍系統(tǒng)1000可以為真空蒸鍍系統(tǒng)1000。真空蒸鍍技術(shù)是oled(organiclight-emittingdiode，簡(jiǎn)稱oled，中文名稱為有機(jī)電激發(fā)光二極管)顯示屏生產(chǎn)技術(shù)中的重要工序，主要是在真空環(huán)境中，將小分子材料及金屬材料(例如mg、ag等)加熱并鍍到工件4上。

如圖1所示，根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的蒸鍍系統(tǒng)1000，包括：至少一條蒸鍍線100，第一傳送軌道2和托盤(pán)3。其中，蒸鍍線100可以為一條或者多條。在本發(fā)明的描述中，除非另有說(shuō)明，“多個(gè)”的含義是兩個(gè)或兩個(gè)以上。

具體地，每條蒸鍍線100包括蒸鍍腔室，蒸鍍腔室包括多個(gè)子蒸鍍腔11，多個(gè)子蒸鍍腔11依次相連。每個(gè)子蒸鍍腔11內(nèi)均為真空環(huán)境。如圖1所示，相鄰的兩個(gè)子蒸鍍腔11的側(cè)壁可以彼此相連，或者相鄰的兩個(gè)子蒸鍍腔11可以共用一個(gè)側(cè)壁。由此，可以減小各子蒸鍍腔11之間的間隙，使得蒸鍍系統(tǒng)1000的結(jié)構(gòu)更加緊湊，提高了空間利用率，減小了蒸鍍腔室的整體占用空間，使得蒸鍍線100的布局更加合理。

可選地，子蒸鍍腔11可以形成為多邊體形狀，例如，在圖1的示例中，子蒸鍍腔11形成為長(zhǎng)方體形狀。當(dāng)然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以理解，子蒸鍍腔11還可以形成為五邊體、六邊體等。

蒸鍍腔室的一端形成有蒸鍍線入口101，蒸鍍腔室的另一端形成有蒸鍍線出口102，子蒸鍍腔11內(nèi)設(shè)有蒸發(fā)源組件5。蒸發(fā)源組件5可以在子蒸鍍腔11內(nèi)移動(dòng)(例如，在水平方向上移動(dòng))以對(duì)工件4進(jìn)行蒸鍍。其中，每個(gè)子蒸鍍腔11內(nèi)的蒸發(fā)源組件5可以分別對(duì)工件4蒸鍍一層功能層薄膜(例如，電子注入層、發(fā)光層等)。

第一傳送軌道2穿設(shè)在蒸鍍線入口101和蒸鍍線出口102之間，第一傳送軌道2位于蒸發(fā)源組件5的上方。托盤(pán)3包括用于放置工件4的托架，托盤(pán)3可移動(dòng)地設(shè)在第一傳送軌道2上以在蒸鍍線入口101和蒸鍍線出口102之間傳送工件4使蒸發(fā)源組件5對(duì)工件4進(jìn)行蒸鍍。由此，可以通過(guò)托盤(pán)3帶著工件4在第一傳送軌道2上移動(dòng)以使工件4在各子蒸鍍腔11之間傳遞，省去了相關(guān)技術(shù)中設(shè)置在各子蒸鍍腔11之間用于傳遞工件4的機(jī)械手和機(jī)械手在各子蒸鍍腔11之間的傳遞工序，簡(jiǎn)化了操作步驟，降低了工件4在傳遞過(guò)程中破碎的風(fēng)險(xiǎn)，減小了工件4與正常蒸鍍位置之間的偏差，降低了對(duì)位工序的難度，且節(jié)省了機(jī)械手的占用空間，極大地減小了蒸鍍系統(tǒng)1000的整體占用空間和蒸鍍系統(tǒng)1000的成本。

具體地，參照?qǐng)D2和圖3，第一傳送軌道2可以包括兩個(gè)彼此平行的子軌道21。在本發(fā)明的一些實(shí)施例中，托架可以包括多個(gè)子托架31，且多個(gè)子托架31圍成一個(gè)框架，框架的形狀可以與工件4輪廓形狀相適配。例如，在圖3的示例中，工件4可以大體形成為長(zhǎng)方形，托架包括四個(gè)子托架31，四個(gè)子托架31圍成一個(gè)長(zhǎng)方形的框架，工件4的四個(gè)角分別支撐在對(duì)應(yīng)的子托架31上。由此，可以將工件4穩(wěn)定地支撐在框架上，且可以使得工件4的待蒸鍍區(qū)裸露出來(lái)，方便蒸鍍。

在本發(fā)明的另一些實(shí)施例中，托架還可以形成為一個(gè)整體的框架結(jié)構(gòu)，例如，托架可以形成為長(zhǎng)方形的框架等。由此，同樣可以將工件4穩(wěn)定地支撐在托架上，且可以使得工件4的待蒸鍍區(qū)裸露出來(lái)以方便蒸鍍。

例如，在蒸鍍過(guò)程中，可以在蒸鍍線入口101處將工件4放置在空托盤(pán)3的托架上，使托盤(pán)3帶動(dòng)工件4在第一傳送軌道2上移動(dòng)，將工件4從蒸鍍線入口101傳送至蒸鍍線出口102，使得各子蒸鍍腔11內(nèi)的蒸發(fā)源組件5依次對(duì)工件4進(jìn)行蒸鍍，完成蒸鍍過(guò)程，然后在蒸鍍線出口102處將工件4從托盤(pán)3上取出進(jìn)入下一個(gè)工序。其中，下一個(gè)工序可以為封裝工序65或者檢測(cè)工序66。

具體地，可以在蒸鍍線入口101處設(shè)置第一機(jī)械手63，在蒸鍍線出口102處設(shè)置第二機(jī)械手64，第一機(jī)械手63可以將待蒸鍍的工件4放置在空的托盤(pán)3上，第二機(jī)械手64可以將蒸鍍后的工件4從托盤(pán)3中取出以將蒸鍍后的工件4送入下一個(gè)工序。

根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的蒸鍍系統(tǒng)1000，通過(guò)使得蒸鍍腔室的多個(gè)子蒸鍍腔11依次相連，并在蒸鍍系統(tǒng)1000中設(shè)置第一傳送軌道2和托盤(pán)3，使得托盤(pán)3在第一傳送軌道2上移動(dòng)以在各子蒸鍍腔11傳遞工件4，省去了相關(guān)技術(shù)中設(shè)置在各子蒸鍍腔11之間用于傳遞工件4的機(jī)械手和機(jī)械手在各子蒸鍍腔11之間的傳遞工序，簡(jiǎn)化了操作步驟，降低了工件4在傳遞過(guò)程中破碎的風(fēng)險(xiǎn)，減小了工件4與正常蒸鍍位置之間的偏差，降低了對(duì)位工序的難度，同時(shí)優(yōu)化了蒸鍍線100的布局，提高了空間利用率，使得蒸鍍線100的結(jié)構(gòu)更加緊湊、布局更加合理，減小了蒸鍍系統(tǒng)1000的整體占用空間和成本。

根據(jù)本發(fā)明的一些具體實(shí)施例，至少一條蒸鍍線100的多個(gè)子蒸鍍腔11呈一字形排列或者呈折線形排列。

具體而言，蒸鍍系統(tǒng)1000中至少一條蒸鍍線100的多個(gè)子蒸鍍腔11呈一字形排列，例如，參照?qǐng)D2和圖3，每個(gè)子蒸鍍腔11均形成為長(zhǎng)方體形狀，多個(gè)子蒸鍍腔11的側(cè)壁依次相連并呈一字形排列。此時(shí)，第一傳送軌道2形成為直線狀。或者蒸鍍系統(tǒng)1000的至少一條蒸鍍線100的多個(gè)子蒸鍍腔11可以呈折線形排列，例如，多個(gè)子蒸鍍腔11可以大體呈l形、z形排列。此時(shí)，第一傳送軌道2可以包括多個(gè)依次相連的直線段。

由此，可以減小相鄰兩個(gè)子蒸鍍腔11之間的間隙，使得蒸鍍腔室的結(jié)構(gòu)更加緊湊，提高了空間利用率。同時(shí)，可以使得托盤(pán)3在第一傳送軌道2上始終做直線運(yùn)動(dòng)，從而可以在各子蒸鍍腔11之間直線傳遞工件4，有效地避免了工件4與托盤(pán)3之間產(chǎn)生相對(duì)滑動(dòng)，減小了工件4與正常蒸鍍位置之間的偏差，降低了對(duì)位工序的難度，有利于減少對(duì)位機(jī)構(gòu)的數(shù)量，從而減小了對(duì)位機(jī)構(gòu)的占用空間，進(jìn)一步地簡(jiǎn)化了蒸鍍系統(tǒng)1000的結(jié)構(gòu)，降低了蒸鍍系統(tǒng)1000的成本，且有效地避免了對(duì)位過(guò)程中對(duì)工件4造成損害使工件4發(fā)生破碎的現(xiàn)象，提高了產(chǎn)品合格率。同時(shí)，減小了因工件4與托盤(pán)3發(fā)生相對(duì)滑動(dòng)而產(chǎn)生的靜電，避免了因靜電導(dǎo)致的各種異?，F(xiàn)象(例如工件4破碎、損傷掩膜板81等)，保證了生產(chǎn)安全。

此外，在蒸鍍過(guò)程中，為了保持蒸發(fā)源組件5的速率穩(wěn)定，在整個(gè)蒸鍍過(guò)程中，無(wú)論是否在對(duì)工件4進(jìn)行蒸鍍，蒸發(fā)源組件5始終處于蒸發(fā)狀態(tài)，也就是說(shuō)，蒸發(fā)源組件5在這個(gè)蒸鍍過(guò)程中處于連續(xù)工作狀態(tài)。因此，本申請(qǐng)中的蒸鍍系統(tǒng)1000相對(duì)于相關(guān)技術(shù)中通過(guò)限制工件4移動(dòng)速率來(lái)減小工件4滑動(dòng)、保證安全生產(chǎn)的技術(shù)方案，減小了工件4的平均作業(yè)時(shí)間，從而減小了單個(gè)工件4對(duì)昂貴的蒸發(fā)源材料的消耗，降低了材料成本。

在本發(fā)明中的另一些具體實(shí)施例中，至少一條蒸鍍線100的多個(gè)子蒸鍍腔11還可以呈蜂窩狀環(huán)形排列。具體而言，蒸鍍系統(tǒng)1000的至少一條蒸鍍線100的多個(gè)子蒸鍍腔11呈蜂窩狀環(huán)形排列。例如，每個(gè)子蒸鍍腔11可以形成為六邊體形狀，多個(gè)子蒸鍍腔11的側(cè)壁依次相連形成為環(huán)形結(jié)構(gòu)。此時(shí)，第一傳送軌道2可以包括多個(gè)依次相連直線段。由此，同樣可以減小相鄰兩個(gè)子蒸鍍腔11之間的間隙，提高空間利用率且可以保證托盤(pán)3在各子蒸鍍腔11內(nèi)的運(yùn)動(dòng)軌跡大體為直線。

當(dāng)然，可以理解的是，至少一個(gè)蒸鍍線100的多個(gè)子蒸鍍腔11還可以呈方形排列等。其具體排列方式可以根據(jù)實(shí)際情況調(diào)整涉及，本發(fā)明對(duì)此不作具體限定。

根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例，蒸鍍系統(tǒng)1000還包括第二傳送軌道(圖未示出)，第二傳送軌道設(shè)在蒸鍍腔室外，第二傳送軌道與第一傳送軌道2圍成環(huán)形軌道以使托盤(pán)3在蒸鍍線入口101和蒸鍍線出口102之間循環(huán)移動(dòng)。由此，可以通過(guò)環(huán)形軌道實(shí)現(xiàn)托盤(pán)3在蒸鍍線入口101和蒸鍍線出口102之間循環(huán)移動(dòng)，由此，可以循環(huán)利用托盤(pán)3，提高了蒸鍍線100的自動(dòng)化和生產(chǎn)效率。

例如，在本發(fā)明的一個(gè)具體實(shí)施例中，蒸鍍線100為多條，第二傳送軌道連接在相鄰的兩條蒸鍍線100之間，具體地，第二傳送軌道的一端與相鄰的兩條蒸鍍線100中的其中一條蒸鍍線100的蒸鍍線出口102相連，第二傳送軌道的另一端與相鄰的兩條蒸鍍線100中的另一條蒸鍍線100的蒸鍍線入口101相連以在多條蒸鍍線100之間形成環(huán)形軌道。

為方便描述，將相鄰兩條蒸鍍線100中的其中一條蒸鍍線100稱為“第一蒸鍍線”，將相鄰兩條蒸鍍線100中的另一條蒸鍍線100稱為“第二蒸鍍線”。具體而言，第二傳送軌道的一端與第一蒸鍍線的蒸鍍線出口102相連，第二傳送軌道的另一端與第二蒸鍍線的蒸鍍線入口101相連。由此，可以使得多條蒸鍍線100的第一傳送軌道2和第二傳送軌道共同圍成一個(gè)環(huán)形軌道，從而可以使得托盤(pán)3在整個(gè)蒸鍍系統(tǒng)1000的多條蒸鍍線100之間循環(huán)移動(dòng)，提高了托盤(pán)3的利用率，且提高了蒸鍍線100的自動(dòng)化和生產(chǎn)效率。

例如，托盤(pán)3移動(dòng)至第一蒸鍍線的蒸鍍線入口101處時(shí)，可以將待蒸鍍的工件4放置在托盤(pán)3的托架上，由托盤(pán)3帶著待蒸鍍工件4在第一蒸鍍線的各子蒸鍍腔11內(nèi)移動(dòng)，以對(duì)待蒸鍍工件4進(jìn)行蒸鍍。當(dāng)托盤(pán)3移動(dòng)至第一蒸鍍線的出口處時(shí)，可以將蒸鍍后的工件4從托盤(pán)3上取出，此時(shí)托盤(pán)3為空托盤(pán)3，托盤(pán)3可以通過(guò)第二傳送軌道向第二蒸鍍線的蒸鍍線入口101移動(dòng)。當(dāng)托盤(pán)3移動(dòng)至第二蒸鍍線的蒸鍍線入口101處時(shí)，可以將另一個(gè)待蒸鍍的工件4放置在托盤(pán)3的托架上，由托盤(pán)3帶著上述另一個(gè)待蒸鍍工件4在第二蒸鍍線的各子蒸鍍腔11內(nèi)移動(dòng)，以對(duì)待蒸鍍工件4進(jìn)行蒸鍍，當(dāng)托盤(pán)3移動(dòng)至第二蒸鍍線的出口處時(shí)，可以將蒸鍍后的工件4從托盤(pán)3上取出，使托盤(pán)3通過(guò)第二傳送軌道移動(dòng)至下一個(gè)蒸鍍線100。

根據(jù)本發(fā)明的另一些具體實(shí)施例，第二傳送軌道連接在每條蒸鍍線100的蒸鍍線出口102和蒸鍍線入口101之間以在每條蒸鍍線100之間形成環(huán)形軌道。其中，蒸鍍線100可以為一條或者多條。例如，托盤(pán)3移動(dòng)至蒸鍍線100的蒸鍍線入口101處時(shí)，可以將待蒸鍍的工件4放置在托盤(pán)3的托架上，由托盤(pán)3帶著待蒸鍍工件4在該蒸鍍線100的各子蒸鍍腔11內(nèi)移動(dòng)，以對(duì)待蒸鍍工件4進(jìn)行蒸鍍。當(dāng)托盤(pán)3移動(dòng)至該蒸鍍線100的出口處時(shí)，可以將蒸鍍后的工件4從托盤(pán)3上取出，此時(shí)托盤(pán)3為空托盤(pán)3，托盤(pán)3可以通過(guò)第二傳送軌道向該蒸鍍線100的蒸鍍線入口101移動(dòng)以循環(huán)利用托盤(pán)3。由此，同樣可以循環(huán)利用托盤(pán)3，提高了托盤(pán)3的利用率，同時(shí)提高了蒸鍍線100的自動(dòng)化和生產(chǎn)效率。

可選地，環(huán)形軌道形成為多邊形軌道。例如，環(huán)形軌道可以形成為方形、五邊形、六邊形等形狀。由此，可以使得托盤(pán)3在蒸鍍系統(tǒng)1000中的移動(dòng)軌跡呈直線或者大體呈直線，從而便于控制托盤(pán)3在第一傳送軌道2和第二傳送軌道上移動(dòng)，且進(jìn)一步地避免了工件4與托盤(pán)3之間產(chǎn)生相對(duì)滑動(dòng)，減小了工件4與正常蒸鍍位置之間的偏差，進(jìn)一步地降低了對(duì)位工序的難度，減少了對(duì)位機(jī)構(gòu)的數(shù)量，進(jìn)一步地簡(jiǎn)化了蒸鍍系統(tǒng)1000的結(jié)構(gòu)，降低了蒸鍍系統(tǒng)1000的成本，且有效地避免了對(duì)位過(guò)程中對(duì)工件4造成損害使工件4發(fā)生破碎的現(xiàn)象，提高了產(chǎn)品合格率。同時(shí)，進(jìn)一步地減小了因工件4與托盤(pán)3發(fā)生相對(duì)滑動(dòng)而產(chǎn)生的靜電，避免了因靜電導(dǎo)致的各種異?，F(xiàn)象(例如工件4破碎、損傷掩膜板81等)，保證了生產(chǎn)安全。

根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)具體實(shí)施例，多條蒸鍍線100的第一傳送軌道2和第二傳送軌道圍成方形的環(huán)形軌道。其中，蒸鍍線100可以為兩條、三條或者四條。由此，可以使得托盤(pán)3始終保持直線運(yùn)動(dòng)，便于控制托盤(pán)3在第一傳送軌道2和第二傳送軌道上移動(dòng)。

例如，在圖1的示例中，蒸鍍線100為兩條，兩條蒸鍍線100的蒸鍍腔室相互平行，且兩條蒸鍍線100中的工件4的移動(dòng)方向相反。具體地，兩條蒸鍍線100的蒸鍍腔室形成為長(zhǎng)方體形狀，兩條蒸鍍線100在方形的環(huán)形軌道上相對(duì)設(shè)置，托盤(pán)3可以沿圖1中箭頭標(biāo)示的方向移動(dòng)。由此，可以進(jìn)化簡(jiǎn)化蒸鍍系統(tǒng)1000的布局，且可以保證生產(chǎn)效率。

可選地，第一傳送軌道2和第二傳送軌道均為滾珠絲杠導(dǎo)軌以將滾珠絲杠導(dǎo)軌的回轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)轉(zhuǎn)化為直線運(yùn)動(dòng)。由此，可以方便地實(shí)現(xiàn)托盤(pán)3在第一傳送軌道2和第二傳送軌道上的直線運(yùn)動(dòng)，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，設(shè)計(jì)巧妙。

根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例，蒸鍍線100還包括入口過(guò)渡腔61。工件4可以在入口過(guò)渡腔61內(nèi)適應(yīng)從大氣狀態(tài)向真空狀態(tài)的轉(zhuǎn)變。例如，蒸鍍開(kāi)始時(shí)，可以將工件4送入入口過(guò)渡腔61內(nèi)，然后對(duì)入口過(guò)渡腔61抽真空，使得入口過(guò)渡腔61從大氣狀態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)檎婵諣顟B(tài)，從而可以使得工件4適應(yīng)從大氣狀態(tài)向真空狀態(tài)的轉(zhuǎn)變，保證蒸鍍的順利進(jìn)行。

具體地，入口過(guò)渡腔61位于蒸鍍線入口101的上游，入口過(guò)渡腔61和蒸鍍線入口101之間設(shè)有至少一個(gè)第一對(duì)位機(jī)構(gòu)71，第一對(duì)位機(jī)構(gòu)71被構(gòu)造成對(duì)工件4進(jìn)行預(yù)對(duì)位。例如，第一對(duì)位機(jī)構(gòu)71可以將第一對(duì)位機(jī)構(gòu)71的基臺(tái)中心對(duì)準(zhǔn)工件4的中心完成預(yù)對(duì)位，或者將工件4的中心對(duì)準(zhǔn)托架的中心完成預(yù)對(duì)位，具體的對(duì)位標(biāo)準(zhǔn)可以根據(jù)實(shí)際生產(chǎn)情況調(diào)整設(shè)計(jì)。由此，可以通過(guò)第一對(duì)位機(jī)構(gòu)71初步調(diào)整工件4的位置，防止工件4與正常的蒸鍍位置偏差過(guò)大，簡(jiǎn)化了子蒸鍍腔11內(nèi)的對(duì)位工序，保證了蒸鍍效果。同時(shí)，將第一對(duì)位機(jī)構(gòu)71設(shè)置在蒸鍍線入口101和入口過(guò)渡腔61之間，減少了第一對(duì)位機(jī)構(gòu)71在子蒸鍍腔11內(nèi)的占用空間。

可選地，第一對(duì)位機(jī)構(gòu)71可以為一個(gè)或者多個(gè)。第一對(duì)位機(jī)構(gòu)71的具體數(shù)量可以根據(jù)實(shí)際情況調(diào)整設(shè)計(jì)。其中，第一對(duì)位機(jī)構(gòu)71為多個(gè)時(shí)，多個(gè)第一對(duì)位機(jī)構(gòu)71可以依次對(duì)工件4進(jìn)行預(yù)對(duì)位，或者，多個(gè)第一對(duì)位機(jī)構(gòu)71中的至少一個(gè)可以為備用對(duì)位機(jī)構(gòu)，當(dāng)多個(gè)第一對(duì)位機(jī)構(gòu)71中的其中一個(gè)損壞時(shí)，可以通過(guò)備用對(duì)位機(jī)構(gòu)對(duì)工件4進(jìn)行對(duì)位以保證生產(chǎn)的順利進(jìn)行。其中，第一對(duì)位機(jī)構(gòu)71可以是現(xiàn)有技術(shù)的任何對(duì)位設(shè)備，只要其能實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的功能即可。

這里，需要說(shuō)明的是，本申請(qǐng)中所說(shuō)的“上游”指的是，蒸鍍線100上工件4移動(dòng)方向上的上游，相應(yīng)地，本申請(qǐng)中所說(shuō)的“下游”指的是，蒸鍍線100上工件4移動(dòng)方向上的下游。

進(jìn)一步地，蒸鍍線100還包括掩膜板81(mask)，掩膜板81設(shè)在工件4和蒸發(fā)源組件5之間。參照?qǐng)D2，掩膜板81可以支撐在支架82上。掩膜板81上具有圖案，工件4的待蒸鍍區(qū)可以與掩膜板81上的圖案相對(duì)，這樣，當(dāng)工件4移動(dòng)至蒸發(fā)源組件5上方時(shí)，蒸發(fā)源組件5可以在工件4上蒸鍍出掩膜板81上的圖案。

具體地，至少一個(gè)子蒸鍍腔11內(nèi)設(shè)有第二對(duì)位機(jī)構(gòu)，第二對(duì)位機(jī)構(gòu)被構(gòu)造成對(duì)工件4進(jìn)行對(duì)位以使工件4的待蒸鍍區(qū)對(duì)準(zhǔn)掩膜板81的圖案。具體而言，可以在多個(gè)子蒸鍍腔11中的其中一部分子蒸鍍腔11內(nèi)設(shè)置第二對(duì)機(jī)構(gòu)，也可以在每個(gè)子蒸鍍腔11內(nèi)均設(shè)置第二對(duì)位機(jī)構(gòu)。優(yōu)選地，每個(gè)子蒸鍍腔11內(nèi)均設(shè)有第二對(duì)位機(jī)構(gòu)。由此，可以通過(guò)第二對(duì)位機(jī)構(gòu)對(duì)工件4進(jìn)行精對(duì)位，使得工件4的待蒸鍍區(qū)對(duì)準(zhǔn)掩膜板81上的圖案，提高了蒸鍍位置的精確性，從而可以準(zhǔn)確實(shí)現(xiàn)各層薄膜的蒸鍍，提高了產(chǎn)品的合格率。

具體地，參照?qǐng)D2，第二對(duì)位機(jī)構(gòu)包括對(duì)位板721和控制器。對(duì)位板721可以形成為方形，對(duì)位板721位于第一傳送軌道2的上方，對(duì)位板721的上設(shè)有向下延伸的對(duì)位部7211，控制器與對(duì)位板721相連，控制器被構(gòu)造成控制對(duì)位板721移動(dòng)以使對(duì)位部7211對(duì)工件4進(jìn)行對(duì)位。例如，控制器可以控制對(duì)位板721在上下、前后、左右方向上移動(dòng)，也可以控制對(duì)位板721在空間內(nèi)轉(zhuǎn)動(dòng)，以通過(guò)對(duì)位部7211對(duì)工件4進(jìn)行對(duì)位。

根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例，第二對(duì)位機(jī)構(gòu)還包括至少一個(gè)圖像采集器722，圖像采集器722與控制器相連，圖像采集器722被構(gòu)造成在第二對(duì)位機(jī)構(gòu)對(duì)位前和/或?qū)ξ缓蟛杉诱翦兦?1內(nèi)的圖像以獲取工件4和掩膜板81的相對(duì)位置，控制器根據(jù)圖像采集器722獲取的相對(duì)位置控制對(duì)位板721移動(dòng)。其中，圖像采集器722可以為一個(gè)或者多個(gè)。圖像采集器722可以設(shè)置在子蒸鍍腔11的頂壁、側(cè)壁、底壁中的至少一個(gè)上。例如，當(dāng)工件4移動(dòng)至掩膜板81的正上方時(shí)，控制器可以根據(jù)工件4和掩膜板81的相對(duì)位置控制對(duì)位板721移動(dòng)使得工件4的中心對(duì)準(zhǔn)掩膜板81的中心，進(jìn)而使得工件4的待蒸鍍區(qū)對(duì)準(zhǔn)掩膜板81的圖案以完成對(duì)位，或者使得工件4的中心對(duì)準(zhǔn)支架82的中心，進(jìn)而使得工件4的待蒸鍍區(qū)對(duì)準(zhǔn)掩膜板81的圖案以完成對(duì)位?？梢岳斫獾氖?，具體對(duì)位方法可以根據(jù)實(shí)際情況調(diào)整設(shè)計(jì)，本發(fā)明對(duì)此不作具體限定。

例如，在本發(fā)明的一些實(shí)施例中，圖像采集器722可以在對(duì)位前采集子蒸鍍腔11內(nèi)的圖像以獲取工件4和掩膜板81的相對(duì)位置，這樣，方便控制器根據(jù)工件4和掩膜板81的相對(duì)位置控制對(duì)位板721移動(dòng)，從而可以精確地調(diào)節(jié)工件4的位置且提高了對(duì)位效率。

又如，在本發(fā)明的另一些實(shí)施例中，圖像采集器722可以在對(duì)位后采集子蒸鍍腔11內(nèi)的圖像，這樣可以在對(duì)位后獲取工件4和掩膜板81的相對(duì)位置，從而可以通過(guò)圖像采集器722反饋對(duì)位情況，控制器可以根據(jù)圖像采集器722的反饋結(jié)果判斷是否對(duì)位成功，如果對(duì)位尚未成功，控制器可以根據(jù)工件4和掩膜板81的相對(duì)位置繼續(xù)調(diào)整工件4的位置直至對(duì)位成功。由此，同樣可以提高對(duì)位的精確性。

再如，在本發(fā)明的再一些實(shí)施例中，圖像采集器722可以分別在對(duì)位前和對(duì)位后采集子蒸鍍腔11內(nèi)的圖像，使得控制器可以根據(jù)對(duì)位前工件4和掩膜板81的相對(duì)位置控制對(duì)位板721移動(dòng)對(duì)工件4進(jìn)行對(duì)位，并根據(jù)對(duì)位后工件4和掩膜板81的相對(duì)位置判斷是否對(duì)位成功。由此，可以提高對(duì)位的精確性和對(duì)位效率。

根本發(fā)明的一些進(jìn)一步實(shí)施例，第二對(duì)位機(jī)構(gòu)進(jìn)一步包括彈性調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)723，彈性調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)723設(shè)在托盤(pán)3的底部?？蛇x地，彈性調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)723可以為彈簧等。由此，可以通過(guò)彈性調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)723在上下方向上調(diào)節(jié)托盤(pán)3的位置，從而可以靈活地調(diào)節(jié)工件4的位置以對(duì)工件4進(jìn)行對(duì)位。

具體地，在蒸鍍線入口101處將工件4放置在托盤(pán)3上后，可以通過(guò)第一對(duì)位機(jī)構(gòu)71按照標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行預(yù)對(duì)位，例如，可以使得工件4的中心與第一對(duì)位機(jī)構(gòu)71的基臺(tái)中心重合，保持工件4鎖死，然后通過(guò)滾珠絲杠導(dǎo)軌實(shí)現(xiàn)工件4的平穩(wěn)移動(dòng)，當(dāng)工件4移動(dòng)到掩膜板81的正上方時(shí)，通過(guò)第二對(duì)位機(jī)構(gòu)對(duì)工件4進(jìn)行對(duì)位，例如，可以先使掩膜板81支架82的中心與工件4的中心重合，然后利用彈性調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)723的上下移動(dòng)、圖像采集器722獲取的工件4和掩膜板81的相對(duì)位置，實(shí)現(xiàn)精對(duì)位。整個(gè)對(duì)位過(guò)程中掩膜板81保持不動(dòng)，工件4通過(guò)滾珠絲杠導(dǎo)軌在各子蒸鍍腔11內(nèi)進(jìn)行直線移動(dòng)。

進(jìn)一步地，蒸鍍線出口102處可以設(shè)有出口過(guò)渡腔62，出口過(guò)渡腔62可以位于蒸鍍線出口102的下游。蒸鍍完成后的工件4可以在出口過(guò)渡腔62內(nèi)適應(yīng)從真空狀態(tài)向大氣狀態(tài)的轉(zhuǎn)變。例如，蒸鍍完成時(shí)，可以將工件4送入出口過(guò)渡腔62內(nèi)，然后對(duì)出口過(guò)渡腔62卸真空，使得出口過(guò)渡腔62從真空狀態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)榇髿鉅顟B(tài)，從而可以使得工件4適應(yīng)從真空狀態(tài)向大氣狀態(tài)的轉(zhuǎn)變，保證生產(chǎn)的順利進(jìn)行。

具體地，工件4的傳遞流程如圖7所示，首先在入口過(guò)渡腔61處，使工件4適應(yīng)從大氣狀態(tài)到真空狀態(tài)的轉(zhuǎn)變，然后由第一機(jī)械手63將工件4傳送到空的托盤(pán)3上，并由第一對(duì)位機(jī)構(gòu)71進(jìn)行預(yù)對(duì)位，接著托盤(pán)3與工件4一起移動(dòng)到子蒸鍍腔11內(nèi)托盤(pán)3中心與掩膜板81中心對(duì)應(yīng)的位置，通過(guò)第二對(duì)位機(jī)構(gòu)進(jìn)行精對(duì)位，然后開(kāi)始蒸鍍，以此類推，完成所有子蒸鍍腔11的蒸鍍過(guò)程。然后通過(guò)第二機(jī)械手64將工件4送入出口過(guò)渡腔62，最后將工件4送入下一個(gè)工序。

具體地，托盤(pán)3還包括側(cè)邊32，側(cè)邊32連接在托架的外邊緣，工件4的上表面低于側(cè)邊32的上端面。這里，需要說(shuō)明的是，本申請(qǐng)中的“外邊緣”指的是，托架遠(yuǎn)離托架中心的邊緣。其中，側(cè)邊32可以與托架31垂直或者大體與托架垂直。

例如，當(dāng)托架包括多個(gè)子托架31時(shí)，側(cè)邊32可以連接在子托架31的左邊緣或者右邊緣上。當(dāng)然，側(cè)邊32還可以連接在子托架31的前邊緣或者后邊緣上。又如，托架形成為一個(gè)整體的框架結(jié)構(gòu)時(shí)，側(cè)邊32可以環(huán)繞在托架的外周。

具體地，工件4的上表面低于側(cè)邊32的上端面，由此，在對(duì)位過(guò)程中，可以通過(guò)第二對(duì)位機(jī)構(gòu)的對(duì)位部7211與側(cè)邊32接觸對(duì)工件4進(jìn)行對(duì)位，從而避免了對(duì)位過(guò)程中對(duì)位部7211與工件4直接接觸，進(jìn)而有效地保護(hù)了工件4，防止工件4在對(duì)位過(guò)程中發(fā)生損壞。

可選地，第二對(duì)位機(jī)構(gòu)的對(duì)位部7211為兩個(gè)，兩個(gè)對(duì)位部7211間隔設(shè)置，且在從上到下的方向上，兩個(gè)對(duì)位部7211彼此相對(duì)的一側(cè)表面分別朝向遠(yuǎn)離彼此的方向傾斜延伸。由此，對(duì)位部7211的上述依次表面可以形成為導(dǎo)向面，從而可以通過(guò)導(dǎo)向面與側(cè)邊32接觸實(shí)現(xiàn)對(duì)工件4的對(duì)位。

例如，在圖2的示例中，對(duì)位部7211可以設(shè)置在對(duì)位板721的下表面上，兩個(gè)對(duì)位部7211在左右方向上間隔設(shè)置。對(duì)位部7211可以從對(duì)位板721的前端延伸至對(duì)位板721的后端，在從上至下的方向下，對(duì)位部7211的厚度逐漸減小。例如，對(duì)位部7211的橫截面可以形成為三角形、梯形等形狀。由此，便于對(duì)位部7211與側(cè)邊32接觸對(duì)工件4進(jìn)行對(duì)位且結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、加工方便。當(dāng)然，可以理解是，兩個(gè)對(duì)位部7211還可以在前后方向上間隔設(shè)置，此時(shí)對(duì)位部7211可以從對(duì)位板721的左端延伸至對(duì)位板721的右端。

在本發(fā)明的另一些實(shí)施例中，對(duì)位部7211可以為四個(gè)，四個(gè)對(duì)位部7211與四個(gè)托架一一對(duì)應(yīng)，在從上至下的方向上，對(duì)位部7211鄰近托架的一側(cè)表面朝向遠(yuǎn)離托架的方向傾斜延伸形成導(dǎo)向面。由此，同樣可以通過(guò)對(duì)位部7211方便地對(duì)工件4進(jìn)行對(duì)位，且可以節(jié)省對(duì)位部7211的用料。

根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例，參照?qǐng)D1，蒸鍍線100還包括多個(gè)掩膜板室91，每個(gè)掩膜板室91內(nèi)設(shè)有多個(gè)掩膜板81，多個(gè)掩膜板室91與多個(gè)子蒸鍍腔11一一對(duì)應(yīng)，掩膜板室91和與其對(duì)應(yīng)的子蒸鍍腔11之間設(shè)有連通通道，掩膜板81在連通通道內(nèi)可移動(dòng)以對(duì)子蒸鍍腔11內(nèi)的掩膜板81進(jìn)行更換。具體地，在蒸鍍過(guò)程中，掩膜板81上會(huì)粘附大量的蒸發(fā)源材料，影響蒸鍍效果。蒸鍍一段時(shí)間后，可以將掩膜板室91內(nèi)的掩膜板81對(duì)子蒸鍍腔11內(nèi)的掩膜板81進(jìn)行更換，可以保證蒸鍍效果。

進(jìn)一步地，蒸鍍線100還包括更換裝置，更換裝置在掩膜板室91和與其對(duì)應(yīng)的子蒸鍍腔11之間可移動(dòng)，更換裝置被構(gòu)造成將子蒸鍍腔11內(nèi)的掩膜板81取出并將掩膜板室91內(nèi)的掩膜板81運(yùn)輸?shù)阶诱翦兦?1內(nèi)以更換子蒸鍍腔11內(nèi)的掩膜板81。具體地，參照?qǐng)D4和圖5，更換裝置可以包括推拉桿92，推拉桿92在掩膜板室91和與其對(duì)應(yīng)的子蒸鍍腔11之間可移動(dòng)，掩膜板81的鄰近推拉桿92的側(cè)壁上設(shè)有配合孔811，推拉桿92適于伸入配合孔811內(nèi)以在推拉桿92移動(dòng)時(shí)帶動(dòng)掩膜板81移動(dòng)。具體地，推拉桿92可以穿過(guò)連通通道伸入到子蒸鍍腔11內(nèi)，并在掩膜板室91和與其對(duì)應(yīng)的子蒸鍍腔11之間移動(dòng)。由此，可以通過(guò)更換裝置方便地將子蒸鍍腔11內(nèi)的掩膜板81拉出，并可以方便地將掩膜板室91內(nèi)的掩膜板81推送至子蒸鍍腔11內(nèi)，完成更換。結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、設(shè)計(jì)巧妙。

進(jìn)一步地，掩膜板室91內(nèi)設(shè)有擱架93，擱架93相對(duì)掩膜板室91可上下移動(dòng)，擱架93上設(shè)有多個(gè)支撐導(dǎo)軌931，多個(gè)支撐導(dǎo)軌931在上下方向上間隔設(shè)置，掩膜板81可滑動(dòng)地設(shè)在支撐導(dǎo)軌931上。

參照?qǐng)D5，支撐導(dǎo)軌931可以設(shè)置在擱架93相對(duì)的兩個(gè)側(cè)壁上。例如，在更換過(guò)程中，可以在上下方向上移動(dòng)擱架93，使得擱架93的其中一個(gè)空支撐導(dǎo)軌931對(duì)準(zhǔn)連通通道，然后將推拉桿92推入子蒸鍍腔11室內(nèi)，使推拉桿92伸入子蒸鍍腔11內(nèi)掩膜板81上的配合孔811內(nèi)，將子蒸發(fā)腔內(nèi)的掩膜板81拉至上述空的支撐導(dǎo)軌931上，接著，再上下移動(dòng)擱架93，使得放置有未使用的掩膜板81的支撐導(dǎo)軌931對(duì)準(zhǔn)連通通道，然后將推拉桿92伸入上述未使用的掩膜板81的配合孔811，最后將上述未使用的掩膜板81從連通通道推入子蒸鍍腔11內(nèi)，完成更換。

具體地，支撐導(dǎo)軌931上設(shè)有滾輪9311，掩膜板81可滑動(dòng)地設(shè)在滾輪9311上。參照?qǐng)D4，每個(gè)支撐導(dǎo)軌931上可以設(shè)有多個(gè)滾輪9311。由此，可以減小掩膜板81在支撐導(dǎo)軌931上的摩擦力，從而可以更加省力地更換子蒸發(fā)腔內(nèi)的掩膜板81。

根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例，至少一個(gè)子蒸鍍腔11內(nèi)的蒸發(fā)源組件5包括多個(gè)蒸發(fā)源51，多個(gè)蒸發(fā)源51中的至少一個(gè)為備用蒸發(fā)源51。具體地，多個(gè)子蒸鍍腔11中的其中一部分子蒸鍍腔11內(nèi)的蒸發(fā)源組件5可以包括多個(gè)蒸發(fā)源51，或者每個(gè)子蒸鍍腔11內(nèi)的蒸發(fā)源組件5均包括多個(gè)蒸發(fā)源51。由于蒸鍍腔室內(nèi)為真空環(huán)境，當(dāng)蒸發(fā)源51出現(xiàn)故障時(shí)，卸真空之前需要等待蒸發(fā)源51溫度冷卻到一定溫度后才能開(kāi)腔，需要較長(zhǎng)時(shí)間，而處理完問(wèn)題后進(jìn)行抽真空又需要數(shù)小時(shí)，從而耽誤生產(chǎn)時(shí)間。

由此，在子蒸鍍腔11內(nèi)設(shè)置備用蒸發(fā)源51，當(dāng)其中一個(gè)蒸發(fā)源51發(fā)生故障，例如，蒸發(fā)源51的蒸發(fā)速率不穩(wěn)定、斷線等，可以立即啟動(dòng)備用蒸發(fā)源51進(jìn)行蒸鍍，避免因蒸發(fā)源51發(fā)生故障導(dǎo)致整個(gè)產(chǎn)線停滯，節(jié)省了維修時(shí)間，且提高了蒸鍍系統(tǒng)1000應(yīng)對(duì)突發(fā)狀況的能力，提高了蒸鍍系統(tǒng)1000的穩(wěn)定性和抗風(fēng)險(xiǎn)能力，保證了生產(chǎn)的連續(xù)性。同時(shí)，當(dāng)其中一個(gè)蒸發(fā)源51內(nèi)的蒸發(fā)材料耗盡時(shí)，也可以啟用備用蒸發(fā)源51進(jìn)行蒸鍍，延長(zhǎng)了生產(chǎn)時(shí)間，提高了生產(chǎn)效率。

可以理解的是，由于蒸鍍材料為小分子有機(jī)材料，不能在高溫下長(zhǎng)時(shí)間儲(chǔ)存，否則會(huì)導(dǎo)致蒸發(fā)材料變質(zhì)，當(dāng)上述其中一個(gè)蒸發(fā)源51內(nèi)的蒸發(fā)材料即將耗盡或者蒸發(fā)速率不穩(wěn)定時(shí)，可以對(duì)備用蒸發(fā)源51進(jìn)行預(yù)先升溫，以保證生產(chǎn)的順利進(jìn)行。

例如，在本發(fā)明的一個(gè)具體實(shí)施例中，每個(gè)子蒸鍍腔11內(nèi)設(shè)有兩個(gè)機(jī)械臂52，每個(gè)機(jī)械臂52上安裝有一個(gè)蒸發(fā)源51，兩個(gè)蒸發(fā)源51中的其中一個(gè)為備用蒸發(fā)源51。

具體地，相鄰的兩個(gè)子蒸鍍腔11之間設(shè)有閘門111，閘門111在打開(kāi)狀態(tài)和關(guān)閉狀態(tài)之間可切換，閘門111處于打開(kāi)狀態(tài)下托盤(pán)3從兩個(gè)子蒸鍍腔11中的其中一個(gè)內(nèi)移動(dòng)至兩個(gè)子蒸鍍腔11中的另一個(gè)內(nèi)。例如，當(dāng)托盤(pán)3移動(dòng)至閘門111處時(shí)，閘門111可以切換至打開(kāi)狀態(tài)以使托盤(pán)3順利傳遞至下一個(gè)子蒸鍍腔11內(nèi)，當(dāng)托盤(pán)3通過(guò)閘門111后，閘門111可以切換至關(guān)閉狀態(tài)。由此，通過(guò)在各子蒸鍍腔11之間設(shè)置閘門111，可以使得各子蒸鍍腔11彼此獨(dú)立且便于托盤(pán)3在各子蒸鍍腔11之間移動(dòng)，且當(dāng)其中一個(gè)子蒸鍍腔11出現(xiàn)漏氣等故障時(shí)，能夠快速鎖定出現(xiàn)故障的范圍，便于檢修，同時(shí)避免了出現(xiàn)故障的子蒸鍍腔11對(duì)其他子蒸鍍腔11產(chǎn)生影響。

根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的蒸鍍系統(tǒng)1000的其他構(gòu)成以及操作對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員而言都是已知的，這里不再詳細(xì)描述。

下面描述根據(jù)本發(fā)明第二方面實(shí)施例的蒸鍍系統(tǒng)1000的蒸鍍方法，其中，蒸鍍系統(tǒng)1000可以為上述第一方面實(shí)施例中的蒸鍍系統(tǒng)1000。具體地，蒸鍍系統(tǒng)1000的蒸鍍方法可以包括以下步驟：

將工件4放置在蒸鍍線入口101處的托盤(pán)3上；

工件4隨托盤(pán)3進(jìn)入蒸鍍腔室并在多個(gè)子蒸鍍腔11之間依次移動(dòng)以對(duì)工件4進(jìn)行蒸鍍；

蒸鍍后的工件4隨托盤(pán)3移動(dòng)至蒸鍍線出口102外；

將蒸鍍后的工件4從托盤(pán)3中取出，并將工件4送至下一個(gè)工序。

由此，可以通過(guò)托盤(pán)3帶著工件4在第一傳送軌道2上移動(dòng)以使工件4在各子蒸鍍腔11之間傳遞，省去了相關(guān)技術(shù)中設(shè)置在各子蒸鍍腔11之間用于傳遞工件4的機(jī)械手和機(jī)械手在各子蒸鍍腔11之間的傳遞工序，簡(jiǎn)化了操作步驟，降低了工件4在傳遞過(guò)程中破碎的風(fēng)險(xiǎn)，減小了工件4與正常蒸鍍位置之間的偏差，降低了對(duì)位工序的難度，同時(shí)優(yōu)化了蒸鍍線100的布局，提高了空間利用率，使得蒸鍍線100的結(jié)構(gòu)更加緊湊、布局更加合理，減小了蒸鍍系統(tǒng)1000的整體占用空間和成本。

根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例，工件4隨托盤(pán)3進(jìn)入蒸鍍腔室前，還包括以下步驟：對(duì)工件4進(jìn)行預(yù)對(duì)位。由此，可以通過(guò)預(yù)對(duì)位工序初步調(diào)整工件4的位置，簡(jiǎn)化了子蒸鍍腔11內(nèi)的對(duì)位工序，保證了蒸鍍效果。同時(shí)，在工件4隨托盤(pán)3進(jìn)入蒸鍍腔室前對(duì)工件4進(jìn)行預(yù)對(duì)位，減少了對(duì)位機(jī)構(gòu)在子蒸鍍腔11內(nèi)的占用空間。

進(jìn)一步地，工件4進(jìn)入子蒸鍍腔11內(nèi)后、對(duì)工件4進(jìn)行蒸鍍前，還包括以下步驟：對(duì)工件4進(jìn)行精對(duì)位。由此，可以保證蒸鍍效果，提高了蒸鍍位置的精確性，從而可以準(zhǔn)確實(shí)現(xiàn)各層薄膜的蒸鍍，提高了產(chǎn)品的合格率。

根據(jù)本發(fā)明的一些具體實(shí)施例，將蒸鍍后的工件4從托盤(pán)3中取出后，還包括以下步驟：托盤(pán)3從蒸鍍線出口102處移動(dòng)至蒸鍍線入口101處。由此，可以使得托盤(pán)3在蒸鍍線100上循環(huán)移動(dòng)，提高了托盤(pán)3的利用率，且提高了蒸鍍線100的自動(dòng)化和生產(chǎn)效率。

根據(jù)本發(fā)明第二方面實(shí)施例的蒸鍍系統(tǒng)1000的蒸鍍方法，操作簡(jiǎn)單，降低了編輯控制程序的難度且可靠性高，保證了生產(chǎn)的順利進(jìn)行。

在本說(shuō)明書(shū)的描述中，參考術(shù)語(yǔ)“一個(gè)實(shí)施例”、“一些實(shí)施例”、“示意性實(shí)施例”、“示例”、“具體示例”、或“一些示例”等的描述意指結(jié)合該實(shí)施例或示例描述的具體特征、結(jié)構(gòu)、材料或者特點(diǎn)包含于本發(fā)明的至少一個(gè)實(shí)施例或示例中。在本說(shuō)明書(shū)中，對(duì)上述術(shù)語(yǔ)的示意性表述不一定指的是相同的實(shí)施例或示例。而且，描述的具體特征、結(jié)構(gòu)、材料或者特點(diǎn)可以在任何的一個(gè)或多個(gè)實(shí)施例或示例中以合適的方式結(jié)合。

盡管已經(jīng)示出和描述了本發(fā)明的實(shí)施例，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員可以理解：在不脫離本發(fā)明的原理和宗旨的情況下可以對(duì)這些實(shí)施例進(jìn)行多種變化、修改、替換和變型，本發(fā)明的范圍由權(quán)利要求及其等同物限定。