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陰極旋轉(zhuǎn)機構(gòu)的制作方法

文檔序號:11510978閱讀:620來源:國知局

本發(fā)明涉及磁控濺射技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種陰極旋轉(zhuǎn)機構(gòu)。



背景技術(shù):

磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應(yīng)用對象。但有一共同點:利用磁場與電場交互作用,使電子在靶表面附近成螺旋狀運行,從而增大電子撞擊氬氣產(chǎn)生離子的概率。所產(chǎn)生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材。

靶源分平衡和非平衡式,平衡式靶源鍍膜均勻,非平衡式靶源鍍膜膜層和基體結(jié)合力強。平衡靶源多用于半導(dǎo)體光學(xué)膜,非平衡多用于磨損裝飾膜。磁控陰極按照磁場位形分布不同,大致可分為平衡態(tài)和非平衡磁控陰極。平衡態(tài)磁控陰極內(nèi)外磁鋼的磁通量大致相等,兩極磁力線閉合于靶面,很好地將電子/等離子體約束在靶面附近,增加碰撞幾率,提高了離化效率,因而在較低的工作氣壓和電壓下就能起輝并維持輝光放電,靶材利用率相對較高,但由于電子沿磁力線運動主要閉合于靶面,基片區(qū)域所受離子轟擊較小.非平衡磁控濺射技術(shù)概念,即讓磁控陰極外磁極磁通大于內(nèi)磁極,兩極磁力線在靶面不完全閉合,部分磁力線可沿靶的邊緣延伸到基片區(qū)域,從而部分電子可以沿著磁力線擴(kuò)展到基片,增加基片。

區(qū)域的等離子體密度和氣體電離率,不管平衡非平衡,若磁鐵靜止,其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率,所以采用旋轉(zhuǎn)磁場。

現(xiàn)有技術(shù)中的陰極旋轉(zhuǎn)機構(gòu)中,其驅(qū)動陰極靶筒旋轉(zhuǎn)的部件與陰極源設(shè)置在陰極靶筒的同一端,結(jié)構(gòu)復(fù)雜,不方便維護(hù)。



技術(shù)實現(xiàn)要素:

本發(fā)明目的是提供一種陰極旋轉(zhuǎn)機構(gòu),結(jié)構(gòu)簡單,方便維護(hù)。

基于上述問題,本發(fā)明提供的技術(shù)方案是:

陰極旋轉(zhuǎn)機構(gòu),包括:

陰極源總成,安裝在真空濺射腔室內(nèi)壁上;

陰極靶筒,一端連接至所述陰極源總成并可沿所述陰極源總成旋轉(zhuǎn);

穿設(shè)在所述陰極靶筒內(nèi)的循環(huán)水回水管,其連接至設(shè)置在所述陰極源總成上的供水管,且連通至所述循環(huán)水回水管與所述陰極靶筒之間的密閉空間,所述密閉空間連通至設(shè)置在所述陰極源總成上的出水管;

設(shè)置在所述循環(huán)水回水管外壁上的多個磁鐵;

及設(shè)置在所述陰極靶筒另一端的驅(qū)動裝置,以用于驅(qū)動所述陰極靶筒旋轉(zhuǎn)。

在其中的一些實施方式中,所述陰極源總成包括進(jìn)出水管安裝部、套設(shè)在進(jìn)出水管安裝部的內(nèi)旋轉(zhuǎn)機構(gòu)安裝部、及套設(shè)在所述內(nèi)旋轉(zhuǎn)機構(gòu)安裝部的外旋轉(zhuǎn)機構(gòu)安裝部,所述進(jìn)出水管安裝部與所述內(nèi)旋轉(zhuǎn)機構(gòu)安裝部之間設(shè)有第一球軸承,所述內(nèi)旋轉(zhuǎn)機構(gòu)安裝部與所述外旋轉(zhuǎn)機構(gòu)安裝部之間設(shè)有第二球軸承;

所述供水管穿設(shè)在所述進(jìn)出水管安裝部內(nèi)并與所述循環(huán)水回水管連接,所述供水管與所述進(jìn)出水管安裝部之間設(shè)有間隙形成出水腔,所述循環(huán)水回水管與所述陰極靶筒之間的密封空間連通至所述出水腔,所述出水腔連通至所述出水管;

所述內(nèi)旋轉(zhuǎn)機構(gòu)安裝部一端連接至所述陰極靶筒且另一端固定有表面絕緣板,所述表面絕緣板周向上設(shè)有中頻電源進(jìn)電柱;

所述外旋轉(zhuǎn)機構(gòu)安裝部周向上設(shè)有外旋轉(zhuǎn)機構(gòu)絕緣板。

在其中的一些實施方式中,所述外旋轉(zhuǎn)機構(gòu)絕緣板周向上設(shè)有用于將所述陰極源總成安裝在真空濺射腔室上的定位法蘭。

在其中的一些實施方式中,所述外旋轉(zhuǎn)機構(gòu)安裝部設(shè)有用于安裝所述第二球軸承的軸肩,所述第二球軸承與所述軸肩之間設(shè)有軸封。

在其中的一些實施方式中,所述內(nèi)旋轉(zhuǎn)機構(gòu)安裝部包括本體部和設(shè)置在所述本體部周向上的凸臺,所述凸臺與所述陰極靶筒連接,所述凸臺與所述進(jìn)出水管安裝部外壁之間設(shè)有用于密封所述循環(huán)水回水管與所述陰極靶筒之間密封空間的密封部。

在其中的一些實施方式中,所述進(jìn)出水管安裝部外壁設(shè)有出水口連通所述密封空間與所述出水腔。

在其中的一些實施方式中,所述進(jìn)出水管安裝部與所述循環(huán)水回水管的連接部設(shè)有連接頭,所述連接頭上設(shè)有通孔連通至所述出水口。

在其中的一些實施方式中,所述循環(huán)水回水管鄰近所述驅(qū)動裝置的一端用堵頭封堵,所述堵頭固定在所述陰極靶筒端部的端蓋上,所述循環(huán)水回水管外壁上設(shè)有連通至所述密封空間的開口。

在其中的一些實施方式中,所述堵頭的周向上套設(shè)有絕緣套。

在其中的一些實施方式中,所述驅(qū)動裝置為減速電機。

與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明的優(yōu)點是:

采用本發(fā)明的技術(shù)方案,將陰極源總成和驅(qū)動裝置分別設(shè)置在陰極靶筒的兩端,結(jié)構(gòu)簡單,各機構(gòu)獨立運行,提高安全性能,運行穩(wěn)定,提高靶材利用率,也方便對各個機構(gòu)的維護(hù)。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實施例的技術(shù)方案,下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例,對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1本發(fā)明陰極旋轉(zhuǎn)機構(gòu)實施例的結(jié)構(gòu)示意圖;

其中:

1、陰極源總成;1-1、進(jìn)出水管安裝部;1-1a、出水腔;1-1b、出水口;1-2、內(nèi)旋轉(zhuǎn)機構(gòu)安裝部;1-3、外旋轉(zhuǎn)機構(gòu)安裝部;1-4、第一球軸承;1-5、第二球軸承;1-6、表面絕緣板;1-7、中頻電源進(jìn)電柱;1-8、外旋轉(zhuǎn)機構(gòu)絕緣板;1-9、定位法蘭;1-10、軸封;

2、陰極靶筒;2-1、端蓋;

3、驅(qū)動裝置;

4、循環(huán)水回水管;4-1、開口;

5、磁鐵;

6、密封空間;

7、供水管;

8、出水管;

9、密封部;

10、連接頭;10-1、通孔;

11、堵頭;

12、絕緣套。

具體實施方式

以下結(jié)合具體實施例對上述方案做進(jìn)一步說明。應(yīng)理解,這些實施例是用于說明本發(fā)明而不限于限制本發(fā)明的范圍。實施例中采用的實施條件可以根據(jù)具體廠家的條件做進(jìn)一步調(diào)整,未注明的實施條件通常為常規(guī)實驗中的條件。

參見圖1,為本發(fā)明實施例的結(jié)構(gòu)示意圖,提供一種陰極旋轉(zhuǎn)機構(gòu),包括陰極源總成1、陰極靶筒2、循環(huán)水回水管4、供水管7、出水管8、設(shè)置在循環(huán)水回水管4外壁上的多個磁鐵5、及用于驅(qū)動陰極靶筒2旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動裝置3。

陰極源總成1和驅(qū)動裝置3分別設(shè)置在陰極靶筒2的兩端,驅(qū)動裝置3優(yōu)選為減速電機,減速電機與陰極靶筒2端部的端蓋2-1傳動連接,陰極源總成1安裝在真空濺射腔室內(nèi)壁上,陰極靶筒2在驅(qū)動裝置3的帶動下沿陰極源總成1旋轉(zhuǎn)。

循環(huán)水回水管4穿設(shè)在陰極靶筒2內(nèi),其連接至設(shè)置在陰極源總成1上的供水管7,且連通至循環(huán)水回水管4與陰極靶筒2之間的密封空間6,該密封空間6連通至設(shè)置在陰極源總成1上的出水管8。

陰極源總成1包括進(jìn)出水管安裝部1-1、套設(shè)在進(jìn)出水管安裝部1-1的內(nèi)旋轉(zhuǎn)機構(gòu)安裝部1-2、及套設(shè)在內(nèi)旋轉(zhuǎn)機構(gòu)安裝部1-2的外旋轉(zhuǎn)機構(gòu)安裝部1-3,進(jìn)出水管安裝部1-1與內(nèi)旋轉(zhuǎn)機構(gòu)安裝部1-2之間設(shè)有第一球軸承1-4,內(nèi)旋轉(zhuǎn)機構(gòu)安裝部1-2與外旋轉(zhuǎn)機構(gòu)安裝部1-3之間設(shè)有第二球軸承1-5。在外旋轉(zhuǎn)機構(gòu)安裝部1-3設(shè)有用于安裝第二球軸承1-5的軸肩,在第二球軸承1-5與軸肩之間設(shè)有軸封1-10。

供水管7穿設(shè)在進(jìn)出水管安裝部1-1并與循環(huán)水回水管4連接,供水管7與進(jìn)出水管安裝部1-1之間設(shè)有間隙形成出水腔1-1a,循環(huán)水回水管4與陰極靶筒2之間的密封空間6連通至出水腔1-1a。內(nèi)旋轉(zhuǎn)機構(gòu)安裝部1-2一端連接至陰極靶筒2且另一端固定有表面絕緣板1-6,在表面絕緣板1-6周向上設(shè)有中頻電源進(jìn)電柱1-7。在外旋轉(zhuǎn)機構(gòu)安裝部1-3周向上設(shè)有外旋轉(zhuǎn)機構(gòu)絕緣板1-8。

在外旋轉(zhuǎn)機構(gòu)絕緣板1-8周向上設(shè)有定位法蘭1-9,以用于將陰極源總成1安裝在真空濺射腔室上。

本例中,內(nèi)旋轉(zhuǎn)機構(gòu)安裝部1-2包括本體部和設(shè)置在本體部周向上的凸臺,凸臺與陰極靶筒2連接,凸臺與進(jìn)出水管安裝部1-1外壁之間設(shè)有密封部9用以密封循環(huán)水回水管4與陰極靶筒2之間密封空間6。

在進(jìn)出水管安裝部1-1外壁設(shè)有出水口1-1b用以連通陰極靶筒2與循環(huán)水回水管4之間的密封空間6與出水腔1-1a,出水腔1-1a連通至出水管8。

為了進(jìn)一步提高本發(fā)明的實施效果,提高結(jié)構(gòu)安裝的穩(wěn)定性,在進(jìn)出水管安裝部1-1與循環(huán)水回水管4的連接部設(shè)有連接頭10,連接頭10上設(shè)有通孔10-1連通至出水口1-1b。

循環(huán)水回水管4鄰近驅(qū)動裝置3的一端設(shè)有堵頭11封堵,該堵頭11固定在陰極靶筒2端部的端蓋2-1上,在循環(huán)水回水管4外壁上設(shè)有連通至密封空間6的開口4-1以實現(xiàn)循環(huán)水回水管4與密封空間6之間的連通。

在堵頭11周向上設(shè)有絕緣套12用于旋轉(zhuǎn)機構(gòu)與ar濺射機構(gòu)之間的絕緣。

上述實例只為說明本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思及特點,其目的在于讓熟悉此項技術(shù)的人是能夠了解本發(fā)明的內(nèi)容并據(jù)以實施,并不能以此限制本發(fā)明的保護(hù)范圍。凡根據(jù)本發(fā)明精神實質(zhì)所做的等效變換或修飾,都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。

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