本實(shí)用新型涉及一種旋轉(zhuǎn)陰極。

背景技術(shù)：

膜層均勻性在大面積磁控濺射鍍膜設(shè)備中，是一項(xiàng)非常重要的指標(biāo)。影響磁控濺射鍍膜均勻性的因素有很多，比如磁場(chǎng)分布、布?xì)夥植?、電?chǎng)分布和濺射擋板開口等因素。目前，常用的旋轉(zhuǎn)陰極提高膜層均勻性的主要方法是，保證設(shè)備的磁場(chǎng)均勻性、布?xì)獾木鶆蛐院驼{(diào)節(jié)濺射擋板的開口尺寸等方法，及綜合使用這幾種方法。布?xì)獾木鶆蛐苑浅Ｖ匾?但是，在一些對(duì)膜層均勻性要求非?？量痰墓に囍校Ｒ?guī)的布?xì)庠O(shè)計(jì)無法實(shí)現(xiàn)工藝要求的均勻性,或即使能實(shí)現(xiàn)布?xì)獾木鶆蛐?但由于成本太過昂貴而無法在市場(chǎng)全面推廣,或造成由于結(jié)構(gòu)尺寸太大而無法集成到陰極上。

常規(guī)布?xì)夥绞饺菀自斐刹細(xì)獾牟痪?在兩個(gè)進(jìn)氣口附近形成較多的氣體，從而在造成產(chǎn)品膜層的不均勻。或者會(huì)使得整個(gè)布?xì)獍宓母叨群芨?，成本很高，且?huì)由于尺寸太大的原因，而不能得到應(yīng)用。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型的目的之一是為了克服現(xiàn)有技術(shù)中的不足，提供一種布?xì)饩鶆蚍植记医Y(jié)構(gòu)簡單的旋轉(zhuǎn)陰極。

為實(shí)現(xiàn)以上目的，本實(shí)用新型通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)：

旋轉(zhuǎn)陰極，包括陰極蓋板、靶材及布?xì)庋b置；所述布?xì)庋b置包括：

基板，所述基板為長方體形狀，其具有前表面、后表面、上表面、下表面及兩個(gè)側(cè)表面；所述上表面上開設(shè)有第一進(jìn)氣口和第二進(jìn)氣口；所述基板設(shè)置有第一氣體通道和第二氣體通道，所述第一進(jìn)氣口與所述第一氣體通道連通，所述第一氣體通道設(shè)置所述前表面；所述第二氣體通道與第二進(jìn)氣口連通，所述第二氣體通道設(shè)置在所述后表面；

第一密封板；所述第一密封板與所述基板連接，并位于所述前表面一側(cè)；所述第一密封板上設(shè)置有多個(gè)第一通孔；所述第一通孔與所述第一氣體通道連通；

第一布?xì)獍?，所述第一布?xì)獍逦挥谒龅谝幻芊獍逡粋?cè)；第一布?xì)獍迮c所述第一密封板之間設(shè)置第三氣體通道，所述第三氣體通道一端與第一通孔連通，另一端朝下設(shè)置有第一出氣口；

第二密封板，所述第二密封板與所述基板連接，并位于所述后表面一側(cè)；所述第二密封板上設(shè)置有多個(gè)第二通孔；所述第二通孔與所述第二氣體通道連通；

第二布?xì)獍澹龅诙細(xì)獍逦挥谒龅诙芊獍逡粋?cè)；第二布?xì)獍迮c所述第二密封板之間設(shè)置第四氣體通道，所述第四氣體通道一端與第二通孔連通，另一端朝下設(shè)置有第二出氣口；

自第一進(jìn)氣口進(jìn)入的氣體經(jīng)第一氣體通道、第三氣體通道或者兩者的組合均分為多路后，自第一出氣口流出；自第二進(jìn)氣口進(jìn)入的氣體經(jīng)第二氣體通道、第四氣體通道或者兩者的組合均分為多路后，自第二出氣口流出。

根據(jù)本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例，所述第一氣體通道為第一通氣槽，所述第一通氣槽設(shè)置在所述基板前表面，所述第一進(jìn)氣口與所述第一通氣槽連通；所述第二氣體通道為第二通氣槽，所述第二通氣槽設(shè)置在所述基板后表面，所述第二進(jìn)氣口與所述第二通氣槽連通。

根據(jù)本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例，所述第三氣體通道為第三通氣槽，所述第三通氣槽設(shè)置在所述第一布?xì)獍寤虻谝幻芊獍迳希凰龅谌獠叟c所述第一通孔連通。

根據(jù)本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例，所述第四氣體通道為第四通氣槽，所述第四通氣槽設(shè)置在所述第二布?xì)獍寤虻诙芊獍迳?；所述第四通氣槽與所述第二通孔連通。

根據(jù)本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例，還包括布?xì)鈸跽?，所述布?xì)鈸跽衷O(shè)置有多個(gè)第三通孔；所述布?xì)鈸跽指采w所述基板、第一密封板、第二密封板、第一布?xì)獍搴偷诙細(xì)獍逑卤砻妫凰龅谝怀鰵饪谂c所述第二出氣口均與所述第三通孔連通。

根據(jù)本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例，所述第一密封板上設(shè)置有八個(gè)第一通孔，經(jīng)第一進(jìn)氣口進(jìn)入的氣體經(jīng)第一氣體通道均分為八路后，分別自八個(gè)第一通孔內(nèi)進(jìn)入八個(gè)第三氣體通道內(nèi)，再經(jīng)八個(gè)第三氣體通道均分為六十四路后經(jīng)六十四個(gè)第一出氣口流出。

根據(jù)本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例，所述第二進(jìn)氣口數(shù)目為多個(gè)，經(jīng)多個(gè)第二進(jìn)氣口進(jìn)入的氣體均分為相同或不同數(shù)目的多路氣體。

根據(jù)本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例，所述第二進(jìn)氣口數(shù)目為五個(gè)，第二氣體通道及第四氣體通道數(shù)目與第二進(jìn)氣口數(shù)目相同；經(jīng)其中四個(gè)第二進(jìn)氣口進(jìn)入的氣體被第二氣體通道、第四氣體通道或者兩者的組合均分為八路氣體后流出；經(jīng)其中一個(gè)第二進(jìn)氣口進(jìn)入的氣體被第二氣體通道、第四氣體通道或者兩者的組合均分為十六路氣體后流出。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型旋轉(zhuǎn)陰極通過采用錯(cuò)位分布式二元布?xì)庠O(shè)計(jì)，能夠?qū)崿F(xiàn)工藝氣體沿靶材長度方向分布的均勻性，同時(shí)結(jié)構(gòu)緊湊，且在此結(jié)構(gòu)上同時(shí)設(shè)置了分段供氣結(jié)構(gòu)，以便通過調(diào)節(jié)各段氣體的數(shù)量達(dá)到彌補(bǔ)其它因素造成的膜層不均勻現(xiàn)象。本實(shí)用新型中的布?xì)庋b置布?xì)饩鶆?，結(jié)構(gòu)緊湊，制造成本低,能夠?qū)崿F(xiàn)苛刻膜層均勻性的要求,保證了鍍膜產(chǎn)品的質(zhì)量。

本實(shí)用新型中，基板的兩側(cè)分別設(shè)置有氣體通道，可充分利用基板的結(jié)構(gòu)空間。采用第一通氣槽、第二通氣槽，分別配合第一密封板、第二密封板及第一布?xì)獍?、第二布?xì)獍?，使其加工方便，易于生產(chǎn)。第一出氣口與第二出氣口分別錯(cuò)開設(shè)置，使得本實(shí)用新型中的布?xì)飧泳鶆颉?/p>

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型中的旋轉(zhuǎn)陰極實(shí)施例1結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2為本實(shí)用新型中的布?xì)庋b置結(jié)構(gòu)示意圖。

圖3為從另一角度觀察的布?xì)庋b置結(jié)構(gòu)示意圖。

圖4為圖3中的布?xì)庋b置省略擋氣罩后的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖5為本實(shí)用新型中的基板前表面結(jié)構(gòu)示意圖。

圖6為本實(shí)用新型中的基板后表面結(jié)構(gòu)示意圖。

圖7為本實(shí)用新型中的基板與第一密封板配合關(guān)系示意圖。

圖8為本實(shí)用新型中的第一布?xì)獍褰Y(jié)構(gòu)示意圖。

圖9為本實(shí)用新型中的基板與第二密封板配合關(guān)系示意圖。

圖10為本實(shí)用新型中的第二布?xì)獍褰Y(jié)構(gòu)示意圖。

圖11為本實(shí)用新型實(shí)施例2中的旋轉(zhuǎn)陰極結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

以下結(jié)合實(shí)施例和附圖對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)一步說明。

實(shí)施例1

請(qǐng)參閱圖1，其為本實(shí)用新型提供的一種旋轉(zhuǎn)陰極的結(jié)構(gòu)示意圖。所述旋轉(zhuǎn)陰極包括陰極蓋板1和兩個(gè)靶材3。陰極蓋板上分別設(shè)置有兩個(gè)陰極端頭2和兩個(gè)支撐座12。每個(gè)靶材3內(nèi)部安裝有磁棒(圖中未示出)。每個(gè)靶材3一端與陰極端頭2連接，另一端支撐在支撐座12上。陰極端頭2實(shí)現(xiàn)靶材轉(zhuǎn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)功能、靶材冷卻水的傳輸和水動(dòng)密封功能，即真空動(dòng)密封功能。在工作的過程中，陰極端頭2帶動(dòng)靶材3轉(zhuǎn)動(dòng)，支撐座12在靶材的另外一側(cè)起到支撐和絕緣的作用。陰極端頭2、支撐座12、靶材3、安裝在靶材3內(nèi)部的磁棒及陰極蓋板1的功能都為本領(lǐng)域人員所習(xí)知的技術(shù)，本文不再贅述。

兩個(gè)靶材3間隔設(shè)置，兩個(gè)靶材3之間設(shè)置有布?xì)庋b置4。布?xì)庋b置4，其結(jié)構(gòu)包括基板5、第一密封板6、第二密封板7、第一布?xì)獍?和第二布?xì)獍?。

如圖2至圖10所示，所述基板5為長方體形狀，其具有前表面51、后表面52、上表面53、下表面54及兩個(gè)側(cè)表面；所述上表面53上開設(shè)有第一進(jìn)氣口55和第二進(jìn)氣口56；所述基板5設(shè)置有第一氣體通道和第二氣體通道，所述第一進(jìn)氣口55與所述第一氣體通道連通；所述第二氣體通道與第二進(jìn)氣口56連通。在如圖所示的示例中，所述第一氣體通道為第一通氣槽57，所述第一通氣槽57設(shè)置在所述基板前表面51，所述第一進(jìn)氣口55與所述第一通氣槽57連通；所述第二氣體通道為第二通氣槽58，所述第二通氣槽58設(shè)置在所述基板后表面52，所述第二進(jìn)氣口56與所述第二通氣槽58連通。

所述第一密封板6與所述基板5連接，并位于所述前表面51一側(cè)；所述第一密封板6上設(shè)置有多個(gè)第一通孔61；所述第一通孔61與所述第一通氣槽57位置相對(duì)。所述第一布?xì)獍?位于所述第一密封板6一側(cè)；第一布?xì)獍?與所述第一密封板6之間設(shè)置第三氣體通道，所述第三氣體通道一端與第一通孔61連通，另一端朝下設(shè)置有第一出氣口81。在如圖所示的示例中，所述第三氣體通道為第三通氣槽82，所述第三通氣槽82設(shè)置在所述第一布?xì)獍?上；所述第三通氣槽82與所述第一通孔61連通。

在入圖所示的示例中，所述第一密封板6上設(shè)置有八個(gè)第一通孔61，經(jīng)第一進(jìn)氣口55進(jìn)入的氣體經(jīng)第一通氣槽57均分為八路后，分別自八個(gè)第一通孔61內(nèi)進(jìn)入八個(gè)第三通氣槽82內(nèi)，再經(jīng)八個(gè)第三通氣槽82均分為六十四路后經(jīng)六十四個(gè)第一出氣口71流出。

所述第二密封板7與所述基板5連接，并位于所述后表面52一側(cè)；所述第二密封板7上設(shè)置有多個(gè)第二通孔71；所述第二通孔71與所述第二通氣槽58位置相對(duì)。所述第二布?xì)獍?位于所述第二密封板7一側(cè)；第二布?xì)獍?與所述第二密封板7之間設(shè)置第四氣體通道，所述第四氣體通道一端與第二通孔71連通，另一端朝下設(shè)置有第二出氣口91。在如圖所示的示例中，所述第四氣體通道為第四通氣槽92，所述第四通氣槽92設(shè)置在所述第二布?xì)獍?上；所述第四通氣槽92與所述第二通孔71連通。

在如圖所示的示例中，所述第二進(jìn)氣口56數(shù)目為五個(gè)，經(jīng)五個(gè)第二進(jìn)氣口56進(jìn)入的氣體均分為相同或不同數(shù)目的多路氣體。第二通氣槽58及第四通氣槽92數(shù)目為6個(gè)，經(jīng)其中四個(gè)第二進(jìn)氣口56進(jìn)入的氣體被第二通氣槽58、第四通氣槽92或兩者的組合均分為八路氣體后流出；經(jīng)其中一個(gè)第二進(jìn)氣口56進(jìn)入的氣體被第二通氣槽58、第四通氣槽92或者兩者的組合均分為二十四路后經(jīng)二十四個(gè)第二出氣口91流出。

所述布?xì)庋b置4還包括布?xì)鈸跽?0，所述布?xì)鈸跽?0設(shè)置有多個(gè)第三通孔11；所述布?xì)鈸跽?0覆蓋所述基板5、第一密封板6、第二密封板7、第一布?xì)獍?和第二布?xì)獍?下表面。所述第一出氣口81與所述第二出氣口91均與所述第三通孔11連通。

本實(shí)用新型使用時(shí)，自第一進(jìn)氣口55進(jìn)入的氣體經(jīng)第一氣體通道、第二氣體通道或者兩者的組合均分為多路后，自第一出氣口81流出；自第二進(jìn)氣口56進(jìn)入的氣體經(jīng)第二氣體通道、第四氣體通道或者兩者的組合均分為多路后，自第二出氣口91流出。自第一出氣口81流出的氣體和自第二出氣口91流出的氣體均自第三通孔11流出。

實(shí)施例2

請(qǐng)參閱圖11，其為本實(shí)用新型提供的一種旋轉(zhuǎn)陰極的結(jié)構(gòu)示意圖。所述旋轉(zhuǎn)陰極包括陰極蓋板1和兩個(gè)靶材(圖中未示出)。陰極蓋板上分別設(shè)置有兩個(gè)陰極端頭2和兩個(gè)支撐座(圖中未示出)。每個(gè)靶材內(nèi)部安裝有磁棒(圖中未示出)。每個(gè)靶材一端與陰極端頭2連接，另一端支撐在支撐座上。陰極端頭2實(shí)現(xiàn)靶材轉(zhuǎn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)功能、靶材冷卻水的傳輸和水動(dòng)密封功能，即真空動(dòng)密封功能。在工作的過程中，陰極端頭2帶動(dòng)靶材轉(zhuǎn)動(dòng)，支撐座在靶材的另外一側(cè)起到支撐和絕緣的作用。陰極端頭2、支撐座、靶材3、安裝在靶材內(nèi)部的磁棒及陰極蓋板1的功能都為本領(lǐng)域人員所習(xí)知的技術(shù)，本文不再贅述。

兩個(gè)靶材間隔設(shè)置，兩個(gè)靶材兩側(cè)分別設(shè)置有兩個(gè)布?xì)庋b置4。步氣裝置4結(jié)構(gòu)與實(shí)施例1結(jié)構(gòu)相同。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型旋轉(zhuǎn)陰極通過采用錯(cuò)位分布式二元布?xì)庠O(shè)計(jì)，能夠?qū)崿F(xiàn)工藝氣體沿靶材長度方向分布的均勻性，同時(shí)結(jié)構(gòu)緊湊，且在此結(jié)構(gòu)上同時(shí)設(shè)置了分段供氣結(jié)構(gòu)，以便通過調(diào)節(jié)各段氣體的數(shù)量達(dá)到彌補(bǔ)其它因素造成的膜層不均勻現(xiàn)象。本實(shí)用新型中的布?xì)庋b置布?xì)饩鶆?，結(jié)構(gòu)緊湊，制造成本低,能夠?qū)崿F(xiàn)苛刻膜層均勻性的要求,保證了鍍膜產(chǎn)品的質(zhì)量。

本實(shí)用新型中的實(shí)施例僅用于對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行說明，并不構(gòu)成對(duì)權(quán)利要求范圍的限制，本領(lǐng)域內(nèi)技術(shù)人員可以想到的其他實(shí)質(zhì)上等同的替代，均在本實(shí)用新型保護(hù)范圍內(nèi)。