技術特征：

技術總結
本發(fā)明公開了一種成膜設備的靶材結構，包括成膜室，所述成膜室的內(nèi)部一側(cè)設有靶材，所述靶材包括內(nèi)靶材和外靶材，所述內(nèi)靶材和所述外靶材互不接觸，所述外靶材套設在所述內(nèi)靶材的外側(cè)，所述內(nèi)靶材和所述外靶材分別連接有一功率源，所有所述功率源均與一控制系統(tǒng)電連接。本發(fā)明通過將靶材設計為內(nèi)靶材和外靶材，使基板上沉積出的薄膜的厚度更加均勻一致了，提高了薄膜的物性，進一步提高了基板的性能。

技術研發(fā)人員：盧艷
受保護的技術使用者：北京芯微諾達科技有限公司
技術研發(fā)日：2017.07.26
技術公布日：2017.11.03