技術特征：

技術總結(jié)
本發(fā)明提供了一種蒸發(fā)源裝置。該蒸發(fā)源裝置包括本體以及加熱構(gòu)件；所述加熱構(gòu)件用于加熱蒸鍍材料形成蒸鍍氣體，所述本體設置有用于收容所述蒸鍍氣體的第一腔體；所述本體包括第一壁體，所述第一壁體的外壁面呈向所述第一腔體內(nèi)彎曲的曲面狀；所述第一壁體上設有一呈縫隙狀的噴射口并與所述第一腔體連通，所述噴射口沿著所述第一壁體的彎曲方向彎曲分布，并將所述第一腔體內(nèi)的蒸鍍氣體導出到外界。該方案通過彎曲型的縫隙狀噴射口改變蒸鍍氣體流向，使其更多地沉積到基板上，提高材料利用率，同時，噴射口設計為縫隙狀可降低堵孔風險，提高量產(chǎn)的稼動率。

技術研發(fā)人員：沐俊應
受保護的技術使用者：武漢華星光電技術有限公司
技術研發(fā)日：2017.04.18
技術公布日：2017.08.18