技術(shù)總結(jié)
本實(shí)用新型公開(kāi)了一種鍍膜質(zhì)量高的光學(xué)用真空腔體，包括真空腔體本體，在位于真空腔體本體的用于置放蒸發(fā)源的底部的正上方設(shè)有鉸接在真空腔體本體上部的擋蓋，擋蓋下設(shè)置由記憶合金材料制成的彈簧。本實(shí)用新型采用變態(tài)溫度等于蒸鍍溫度的記憶合金制成的彈簧，能夠在只達(dá)到蒸發(fā)物的蒸發(fā)溫度時(shí)才變形以打開(kāi)用于阻擋雜質(zhì)的擋蓋，這樣避免了在鍍膜之前的加熱過(guò)程中有雜質(zhì)被蒸發(fā)至靶材的情況，提高了鍍膜質(zhì)量，不會(huì)出現(xiàn)薄膜厚度不均、組分不凈、性能不穩(wěn)、應(yīng)力較大、附著不牢固等缺點(diǎn)；還可以采用較常見(jiàn)的較易得的記憶合金材質(zhì)制成的彈簧，再配合機(jī)械延時(shí)開(kāi)關(guān)能在達(dá)到蒸發(fā)物蒸發(fā)溫度時(shí)才打開(kāi)擋蓋。

技術(shù)研發(fā)人員：瞿建強(qiáng);瞿一濤;黃仕強(qiáng);陸彬鋒
受保護(hù)的技術(shù)使用者：江陰市光科真空機(jī)械有限公司
文檔號(hào)碼：201621107390
技術(shù)研發(fā)日：2016.10.10
技術(shù)公布日：2017.05.17