一種金屬質(zhì)感玻璃面板的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種金屬質(zhì)感玻璃面板的制造方法，其特征在于，包括以下步驟：在玻璃基板上進行光學真空鍍膜，依次鍍上含鉻膜層和氧化鈦膜層；其中，鍍含鉻膜層時，鉻的蒸發(fā)速率為0.2-0.5埃/秒，并通入氧氣作為反應氣體，氧氣的通入流量為10-15sccm，含鉻膜層的厚度為12-15nm。與現(xiàn)有技術相比，本發(fā)明采用光學真空鍍膜技術能夠在玻璃基板上形成鉻與氧化鉻混合的含鉻膜層，在采用本發(fā)明的蒸發(fā)速率、通氧量、和厚度情況下，該含鉻膜層在覆蓋氧化鈦層后具有優(yōu)良的金屬質(zhì)感，但膜層既不連續(xù)導電，也幾乎對位于基板內(nèi)的無線收發(fā)模塊的信號產(chǎn)生任何影響。
【專利說明】一種金屬質(zhì)感玻璃面板的制造方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及表面鍍膜裝飾，尤其是涉及一種金屬質(zhì)感玻璃面板的制造方法。
【背景技術】
[0002]隨著現(xiàn)在人們的生活水平的提高，手機功能也是消費者的追求目標.手機玻璃觸摸面板外表也吸引著大眾的目光.因此，擁有金屬光澤和色彩的手機外殼及電容式觸摸屏玻璃觸摸面板發(fā)展成為手機裝飾不可取代的一部分。
[0003]目前手機玻璃制作廠家,在手機玻璃面板上直接覆蓋油墨，用來制作手機玻璃后蓋，沒有金屬質(zhì)感和色澤效果。而現(xiàn)有金屬面板或金屬鍍膜面板會對手機信號產(chǎn)品屏蔽效應，信號和金屬質(zhì)感二者難于兼容。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明所要解決的技術問題:提供一種既具有金屬外觀質(zhì)感，又不影響手機信號收發(fā)的金屬質(zhì)感玻璃面板的制造方法。
[0005]一種金屬質(zhì)感玻璃面板的制造方法，包括以下步驟:
[0006]在玻璃基板上進行光學真空鍍膜，依次鍍上含鉻膜層和氧化鈦膜層；
[0007]其中，鍍含鉻膜層時，鉻的蒸發(fā)速率為0.2-0.5埃/秒，并通入氧氣作為反應氣體，氧氣的通入流量為10-15SCCm，含鉻膜層的厚度為12-15nm。
[0008]優(yōu)選地:
[0009]還包括以下步驟:在所述氧化鈦膜層的上絲網(wǎng)印刷黑色油墨。
[0010]所述氧化鈦膜層的厚度為10_20nm
[0011]所述黑色油墨的厚度為2-4 μ m。
[0012]鍍含鉻膜層采用聯(lián)合真空2050型鍍膜機，鍍膜真空度為2.5 x 10_3_3.5 x 10_3Pa，玻璃基板的加熱溫度為20±5°C ;玻璃基板旋轉(zhuǎn)頻率20轉(zhuǎn)/分鐘；電子槍的高壓為-8KV。
[0013]與現(xiàn)有技術相比，本發(fā)明采用光學真空鍍膜技術能夠在玻璃基板上形成鉻與氧化鉻混合的含鉻膜層，在采用本發(fā)明的蒸發(fā)速率、通氧量、和厚度情況下，該含鉻膜層在覆蓋氧化鈦層后具有優(yōu)良的金屬質(zhì)感，但膜層既不連續(xù)導電，也不會對位于基板內(nèi)的無線收發(fā)模塊的信號產(chǎn)生任何影響。
【具體實施方式】
[0014]下面結(jié)合優(yōu)選的實施方式對本發(fā)明作進一步說明。
[0015]實施例1
[0016]一種金屬質(zhì)感玻璃的制造方法，包括如下步驟:
[0017]一、玻璃基板的制備
[0018]I)高速旋轉(zhuǎn)精雕機制備玻璃基板外形
[0019]1.1精雕機轉(zhuǎn)速40000轉(zhuǎn)/分。[0020]1.2根據(jù)玻璃面板外形情況設計砂輪棒粗糙度。
[0021]1.3在精雕機控制面板上根據(jù)玻璃基板尺寸設計控制程序。
[0022]1.4玻璃放在精雕機的固定治具上，打開冷卻液開關，開啟精雕控制開關。
[0023]2)玻璃強化工藝
[0024]2.1準備全自動強化爐。
[0025]2.2強化爐內(nèi)放入KN03,加熱至420°溶液。
[0026]2.3成型的玻璃基板放入420°的KN03強化爐內(nèi)，時間6小時。
[0027]需要說明的是，本發(fā)明也可采用已有的玻璃基板，并不局限于上述工藝制造的玻璃基板。
[0028]二、光學真空鍍膜
[0029]I)光學真空鍍膜機型號:聯(lián)合真空2050型鍍膜機。但本發(fā)明不限于該鍍膜機。
[0030]2)膜系結(jié)構:玻璃基板/鉻/ 二氧化鈦/油墨/空氣
[0031]3)鍍膜工藝 的制備:
[0032]膜系參考波長520nm
[0033]
【權利要求】
1.一種金屬質(zhì)感玻璃面板的制造方法，其特征在于，包括以下步驟: 在玻璃基板上進行光學真空鍍膜，依次鍍上含鉻膜層和氧化鈦膜層； 其中，鍍含鉻膜層時，鉻的蒸發(fā)速率為0.2-0.5埃/秒，并通入氧氣作為反應氣體，氧氣的通入流量為10-15SCCm，含鉻膜層的厚度為12-15nm。
2.根據(jù)權利要求1所述的制造方法，其特征在于，還包括以下步驟: 在所述氧化鈦膜層的上絲網(wǎng)印刷黑色油墨。
3.根據(jù)權利要求1所述的制造方法，其特征在于:所述氧化鈦膜層的厚度為10-20nm。
4.根據(jù)權利要求2所述的制造方法，其特征在于:所述黑色油墨的厚度為2-4μ m。
5.根據(jù)權利要求1、2、3或4所述的制備方法，其特征在于:鍍含鉻膜層采用聯(lián)合真空2050型鍍膜機，鍍膜真空度為2.5 X 10_3-3.5 x 10_3Pa，玻璃基板的加熱溫度為20±5°C ;玻璃基板旋轉(zhuǎn)頻率20轉(zhuǎn)/分鐘；電子槍的高壓為-8KV。
【文檔編號】C23C14/08GK103707571SQ201310706122
【公開日】2014年4月9日 申請日期:2013年12月18日 優(yōu)先權日:2013年12月18日
【發(fā)明者】龔玉根, 湯力 申請人:東莞勁勝精密組件股份有限公司, 東莞華清光學科技有限公司