真空鍍膜的喂料裝置的制造方法
【技術(shù)領域】
[0001]本實用新型涉及一種真空鍍膜的喂料裝置，特別是涉及一種可往返于待命位置與喂料位置且可旋轉(zhuǎn)撥動的真空鍍膜的喂料裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]真空鍍膜裝置具備維持真空的蒸鍍室與配置于蒸鍍室內(nèi)部的蒸鍍源，其利用蒸鍍源生成的待鍍原料蒸氣，使之沉積于設置在蒸鍍室的待鍍基材上而形成薄膜。因用戶各式不同的應用目的，用戶可選擇適當待鍍原料，例如:金屬、金屬氧化物或有機物等做為待鍍原料，以于元件上成長出各式功能性薄膜。另外，真空蒸鍍技術(shù)可泛指熱阻式蒸鍍與電子束蒸鍍兩種，是在真空環(huán)境下透過以特定方式加熱待鍍材料使之升華氣化并沉積待鍍基材上。此技術(shù)可廣泛應用于光學、半導體、有機發(fā)光二極體、有機太陽能電池、鈣鈦礦太陽能電池、薄膜電池等領域。
[0003]在鍍膜的過程當中，待鍍原料會有用盡的時候，此時需補充待鍍原料以供鍍膜。有鑒于蒸鍍室內(nèi)往往有配置多組蒸鍍源使用的狀況，各組蒸鍍原材料于工藝過程中耗用量不一。其中一組蒸鍍源內(nèi)待鍍原料耗盡并不代表其他組蒸鍍源內(nèi)的待鍍原料也被耗盡，而頻繁破真空去填充耗用量較大的待鍍材料往往會造成工藝進度被迫停擺，更甚者會造成工藝前后批次間元件品質(zhì)產(chǎn)生微幅差異。此外，部分前瞻應用的材料對于大氣中的水氧極其敏感，若此種材料尚未使用完畢而需破真空補充其他種待鍍原料之時，因蒸鍍源暴露于大氣中，材料劣化變質(zhì)將成為嚴重問題。因此在傳統(tǒng)作法中，公開了一種具有兩個真空腔體的喂料裝置，其利用開關控制相通與否的第一真空腔體與第二真空腔體，于第一真空腔體中設置有可供定量收容蒸鍍源的喂料裝置及可將蒸鍍源往第二真空腔體遞送的導料機構(gòu)。于第二真空腔體中則設置有可收容來自導料機構(gòu)的蒸鍍源并予以加熱以使蒸鍍源氣化的加熱裝置，在開關阻隔第一真空腔體與第二真空腔體相通的情形下，位于第一真空腔體中的喂料裝置可進行補充待鍍原料的作業(yè)，而第二真空腔體中的加熱裝置則可不受影響地繼續(xù)進行蒸鍍作業(yè)。然而，此種裝置結(jié)構(gòu)所占用的空間相當大而難以將設置空間縮小。而且此裝置為移動式蒸鍍源，必須設置輸送裝置而大幅增加成本。再者，因應蒸鍍源的大小，開關阻隔閥也會大型化，則不可避免地會有裝置的復雜化與大型化的缺陷。
[0004]此外，另一種傳統(tǒng)喂料裝置的結(jié)構(gòu)是在真空腔體旁邊設置另一空腔體，并于此空腔體中設置轉(zhuǎn)動式喂料裝置，其透過單組轉(zhuǎn)動器自下方驅(qū)動機構(gòu)旋轉(zhuǎn)至具備導管的落料口，進而將待鍍原料傳送至蒸鍍源。此喂料裝置雖可持續(xù)補料，但真空腔體需要具備恰當?shù)倪B結(jié)法方能使用，在機構(gòu)泛用性方面會有所影響。此外，突出的導管結(jié)構(gòu)也會干擾有效蒸鍍角，進而影響鍍膜均勻性。
[0005]另外，又一種傳統(tǒng)喂料裝置是利用隔板隔離出多個儲料槽的空間，且以垂直滾動的方式來實現(xiàn)補充待鍍原料的作動。此結(jié)構(gòu)是將喂料裝置設于蒸鍍源的上方，經(jīng)由滾動方式來切換落料口所對應的儲料槽。由于此喂料裝置固設于蒸鍍源的正上方，因此使用時間一久，喂料裝置的外表面即會被鍍上待鍍原料而造成需要定期養(yǎng)護的困擾。此外，由于此結(jié)構(gòu)位于蒸鍍源上方，會阻礙蒸鍍角并造成鍍膜效果不均勻。
[0006]再者，其他先前自動填料技術(shù)多半是金屬線材補充器，其是將待鍍金屬線材卷，并透過機構(gòu)出線、剪線來完成喂料動作。另外，再一現(xiàn)有技術(shù)利用震動式顆粒型材料補充器，其是將顆粒型材料放至于真空儲存容器內(nèi)，然后透過震動機構(gòu)篩出單顆材料來完成喂料動作。此外，一現(xiàn)有技術(shù)運用導管式顆粒型材料補充器，其是將顆粒型材料放至于真空儲存容器內(nèi)，透過特殊結(jié)構(gòu)的導管篩出單顆材料來完成喂料動作。然而，這些現(xiàn)有技術(shù)都存在機構(gòu)的結(jié)構(gòu)復雜、體積過大而排擠蒸鍍腔體內(nèi)可用空間、機構(gòu)位置設置不當阻礙蒸鍍角造成鍍膜不均勻等問題。
[0007]由上述可知，目前市場上缺乏一種低成本、占用空間小、裝置簡單、不影響鍍膜均勻性、能在真空環(huán)境下完成補充填料來延長工藝時間，進而減少破真空補充待鍍原料所造成的時間浪費、可充分使用剩余的對水氧極為敏感材料的真空鍍膜的喂料裝置，故相關業(yè)者正在尋求其解決之道。
【實用新型內(nèi)容】
[0008]因此，本實用新型的目的在于提供一種真空鍍膜的喂料裝置，其透過單軸或雙軸轉(zhuǎn)動的撥動結(jié)構(gòu)，使移動模塊位移于待命位置與喂料位置之間，能在真空環(huán)境下迅速補充待鍍原料，使工藝可以持續(xù)進行而無需破真空補充待鍍原料。另外，本裝置可弧形或直線地往復位移喂料模塊的喂料盤于待命位置與喂料位置之間，其不但能在真空環(huán)境下迅速補充待鍍原料、延長工藝時間，同時可避免干涉蒸鍍角。再者，透過單一轉(zhuǎn)軸結(jié)合雙撥動件的結(jié)構(gòu)可實現(xiàn)喂料的控制，其無需兩個轉(zhuǎn)動器以及兩個真空饋孔，僅需一個轉(zhuǎn)動器與一個真空饋孔，其操作簡單且可大幅降低喂料裝置的制造成本。此外，利用雙轉(zhuǎn)動器的結(jié)構(gòu)也可實現(xiàn)喂料的控制，此類結(jié)構(gòu)可以精準地控制各模塊的作動時間與對應位置。
[0009]本實用新型的一實施方式為一種真空鍍膜的喂料裝置，其設置于真空腔體且可控制待鍍原料喂料于蒸鍍源的時機。此真空鍍膜的喂料裝置包含喂料模塊以及移動模塊。其中喂料模塊包含喂料盤，此喂料盤包含若干個儲料槽，而待鍍原料預置于儲料槽內(nèi)。再者，移動模塊包含旋臂。喂料盤受旋臂連接帶動而變換定位在待命位置或喂料位置。其中喂料位置位于有效蒸鍍角涵蓋區(qū)域內(nèi)，而待命位置則位于有效蒸鍍角涵蓋區(qū)域之外。旋臂使移動模塊位移至喂料位置而釋放待鍍原料于蒸鍍源內(nèi)，且旋臂隨后會連接帶動此移動模塊位移至待命位置上。
[0010]借此，本實用新型的真空鍍膜的喂料裝置可弧形地往復位移喂料模塊的喂料盤于待命位置與喂料位置之間，此喂料裝置能在真空環(huán)境下迅速補充待鍍原料，使工藝得以持續(xù)進行而不中斷。
[0011]依據(jù)前述實施方式的其他實施例如下:前述移動模塊可包含轉(zhuǎn)動器，此轉(zhuǎn)動器樞轉(zhuǎn)旋臂，使喂料盤可限位地往復位移于待命位置與喂料位置之間。喂料盤的位移路徑呈弧形，且喂料位置位于蒸鍍源的中心上方。再者，前述喂料模塊可包含本體，此本體呈圓槽狀且具有喂料孔，喂料孔對應蒸鍍源。另外，喂料盤可包含多個撥桿，各撥桿對應各儲料槽，且喂料盤樞設于本體上。
[0012]本實用新型的另一實施方式為一種真空鍍膜的喂料裝置，其設置于真空腔體且可控制待鍍原料喂料于蒸鍍源的時機。此真空鍍膜的喂料裝置包含喂料模塊與移動模塊。其中喂料模塊包含喂料盤，且喂料盤包含多個儲料槽，待鍍原料預置于儲料槽內(nèi)。此外，移動模塊包含位移件，前述喂料盤受位移件直線地位移變換定位于待命位置或喂料位置。喂料位置位于有效蒸鍍角涵蓋區(qū)域內(nèi)，而待命位置則位于有效蒸鍍角涵蓋區(qū)域之外。再者，位移件使喂料盤直線地位移至喂料位置而釋放待鍍原料于蒸鍍源內(nèi)，且位移件隨后可連接帶動喂料盤直線地位移至待命位置。
[0013]借此，本實用新型的真空鍍膜的喂料裝置可直線地往復位移喂料模塊的喂料盤于待命位置與喂料位置之間。此喂料裝置既能在真空環(huán)境下迅速補充待鍍原料，也能使工藝持續(xù)地進行而無需破真空補充待鍍原料。
[0014]依據(jù)前述實施方式的其他實施例如下:前述位移件可具有轉(zhuǎn)移部，此轉(zhuǎn)移部使喂料盤可限位地往復直線位移于待命位置與喂料位置之間，其中喂料位置位于蒸鍍源的中心上方。前述喂料模塊可包含本體，本體呈圓槽狀且具有喂料孔，當喂料盤位移至喂料位置時，喂料孔對應蒸鍍源。此外，喂料盤可包含多個撥桿，各撥桿對應各儲料槽，且喂料盤樞設于本體上。
[0015]本實用新型的又一實施方式為一種真空鍍膜的喂料裝置，其設置于真空腔體且可控制待鍍原料喂料于蒸鍍源的時機。此真空鍍膜的喂料裝置包含喂料模塊、撥動模塊、移動模塊以及彈性件。其中喂料模塊包含喂料盤，此喂料盤包含若干個儲料槽，而待鍍原料預置于儲料槽內(nèi)。另外，撥動模塊包含第一撥動件、第二撥動件、轉(zhuǎn)軸以及轉(zhuǎn)動器。其中第一撥動件與第二撥動件同軸樞接于轉(zhuǎn)軸且彼此相交固定角。而轉(zhuǎn)動器則連動轉(zhuǎn)軸而使第一撥動件與第二撥動件同步轉(zhuǎn)動。再者，移動模塊包含旋臂，第一撥動件貼抵撥動旋臂轉(zhuǎn)動。在第一撥動件轉(zhuǎn)動的過程中，喂料盤受旋臂連接帶動而從待命位置變換定位于喂料位置。喂料位置位于有效蒸鍍角涵蓋區(qū)域內(nèi)，而待命位置則位于有效蒸鍍角涵蓋區(qū)域之外。第二撥動件則撥動喂料盤，使喂料盤旋轉(zhuǎn)角度而使待鍍原料釋放至蒸鍍源內(nèi)。此外，彈性件可連動旋臂而使喂料模塊位移至待命位置。
[0016]借此，本實用新型的真空鍍膜的喂料裝置透過單一轉(zhuǎn)軸結(jié)合雙撥動件的結(jié)構(gòu)來實現(xiàn)喂料的控制，其無需兩個轉(zhuǎn)動器以及兩個真空饋孔，而僅需一個轉(zhuǎn)動器與一個真空饋孔，不但操作簡單、可節(jié)省真空腔體內(nèi)有限的空間，而且可大幅降低喂料裝置的制造成本。
[0017]依據(jù)前述實施方式的其他實施例如下:前述喂料模塊可包含本體，此本體呈圓槽狀且具有本體中心軸與喂料孔。當喂料盤位移至喂料位置時，喂料孔對應蒸鍍源，喂料盤樞設于本體中心軸上，且喂料位置位于蒸鍍源的中心上方。再者，前述喂料盤可包含多個撥桿，各撥桿對應本體中心軸與各儲料槽。當?shù)诙軇蛹軇悠渲幸粋€撥桿時，撥桿會旋轉(zhuǎn)角度。前述旋臂可呈弧形。此外，前述喂料盤可包含多個凹處，這些凹處位于喂料盤的外側(cè)表面且對應于本體中心軸，且凹處的總數(shù)量等于撥桿的總數(shù)量。另外，前述本體設有至少一個