專利名稱：真空熱處理腔的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及溫控調(diào)試處理設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，更具體地涉及一種通過(guò)輸入或輸出 熱量來(lái)實(shí)現(xiàn)制熱或制冷用的真空熱處理腔。
背景技術(shù)：
在半導(dǎo)體工業(yè)、電子工業(yè)及機(jī)械工業(yè)領(lǐng)域，為了對(duì)所使用的元件賦予某種特性，較 常使用的方式是采用“蒸發(fā)鍍膜處理”在元件表面沉積一層薄膜，特別的是真空蒸發(fā)鍍膜技 術(shù)。真空蒸發(fā)鍍膜(又稱真空蒸鍍)是將固體材料置于真空室內(nèi)，在真空條件下，將固體材 料加熱蒸發(fā)，蒸發(fā)出來(lái)的原子或分子能自由地彌布到容器的器壁上。當(dāng)把一些加工好的薄 型制品放在其中時(shí)，蒸發(fā)出來(lái)的原子或分子就會(huì)吸附在薄型制品上逐漸形成一層薄膜。因 此，在真空蒸發(fā)鍍膜技術(shù)獲得了廣泛的應(yīng)用。通常，電致發(fā)光顯示設(shè)備是一種可在發(fā)光層上采用電壓以使電子和空穴復(fù)合而形 成圖像的顯示設(shè)備。由于電致發(fā)光顯示設(shè)備與其他顯示設(shè)備相比具有優(yōu)良的特性，例如可 見(jiàn)度好、重量輕、功耗小等，因此電致發(fā)光顯示設(shè)備具有較好的市場(chǎng)前景。電致發(fā)光顯示設(shè)備可包括基底、陰極、陽(yáng)極以及置于陰極與陽(yáng)極之間的發(fā)光層，因 此由陽(yáng)極提供的空穴和由陰極提供的電子可在發(fā)光層中復(fù)合而形成激子，即空穴電子對(duì)， 從而在從激發(fā)態(tài)躍遷到基態(tài)的同時(shí)發(fā)光。電致發(fā)光顯示設(shè)備中的發(fā)光層和陰極需要通過(guò)真 空蒸鍍工藝，而蒸鍍裝置中就會(huì)包括真空腔室、蒸發(fā)源等。真空處理腔室用于限定一個(gè)空間，在此空間內(nèi)蒸發(fā)源的加熱器用于加熱待蒸鍍材 料，并使其蒸發(fā)。在薄膜沉積過(guò)程中，蒸發(fā)的工藝氣體始終處于處理腔內(nèi)，可以想象，不僅被 涂物的表面，處理腔壁也被涂上一層薄膜。同時(shí)處理腔內(nèi)較高的溫度也容易造成處理腔壁 存在較大的、不均勻的熱應(yīng)力。熱應(yīng)力可增加處理腔壁上沉積物的剝落，剝落又造成了真空 腔內(nèi)的微粒污染。另外在處理腔閉上的沉積物也增加了清理和維護(hù)的難度，進(jìn)一步影響生 產(chǎn)效率。處理腔的熱壁也極易產(chǎn)生氣體消耗和不均勻性問(wèn)題，處理腔也會(huì)因?yàn)檩^高的熱壁 而造成處理強(qiáng)的熱變形。所以冷卻處理腔壁(即冷壁工藝)對(duì)提高薄片形制品有著積極的
眉、o現(xiàn)有的真空腔室冷卻方法是將水管螺旋的焊接真空腔室的外壁上，或者是在真空 腔室外壁增加冷卻水套。由于水管和真空腔外壁接觸面積較小，所以只能用在冷卻溫度不 高的真空腔壁。而采用水套冷卻雖然冷卻效果較好，但是同樣存在著冷卻效果不徹底的徹 底、不美觀等問(wèn)題。以上所描述的在處理腔壁需要冷卻的情況下所做的說(shuō)明，同樣的，在很多情況下， 需要通過(guò)對(duì)處理腔的加熱或者說(shuō)是烘烤來(lái)達(dá)到特定的工藝目標(biāo)，比如說(shuō)抽真空的時(shí)候，對(duì) 處理腔的加熱和烘烤是非常有必要的，處理腔的加熱和烘烤是獲得超高真空不可少的手 段，這樣做的目的也是可以提高抽真空的效率，也為下一步的處理薄片形制品提供了便利。因此，急需一種能夠通過(guò)流體將處理腔原位的冷卻或者是加熱，能夠迅速降低或 者提高真空熱處理腔內(nèi)溫度的真空熱處理腔。
實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的是提供一種能夠通過(guò)流體將處理腔原位的冷卻或者是加熱，能 夠迅速降低或者提高真空熱處理腔內(nèi)溫度的真空熱處理腔。為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供一種真空熱處理腔，適用于加熱或者冷卻薄 片形制品，包括底座、內(nèi)腔殼及腔蓋，所述內(nèi)腔殼呈中空結(jié)構(gòu)，所述內(nèi)腔殼的下端與所述底 座密封連接，所述內(nèi)腔殼的上端與所述腔蓋密封連接，所述底座、所述內(nèi)腔殼及所述腔蓋形 成密封的處理腔，其中，還包括呈中空結(jié)構(gòu)的外腔殼，所述內(nèi)腔殼收容于所述外腔殼內(nèi)，所 述外腔殼的下端與所述底座密封連接，所述外腔殼的上端與所述腔蓋密封連接所述底座、 所述腔蓋、所述內(nèi)腔殼的外壁及所述外腔殼的內(nèi)壁形成密閉的傳熱腔，所述傳熱腔內(nèi)設(shè)置 有導(dǎo)流板，所述導(dǎo)流板自所述底座至所述腔蓋呈螺旋狀的密封連接與所述內(nèi)腔殼的外壁與 所述外腔殼的內(nèi)壁之間，所述導(dǎo)流板、所述內(nèi)腔殼的外壁與所述外腔殼的內(nèi)壁形成螺旋通 道。較佳地，還包括底板及頂板，所述外腔殼的下端與所述內(nèi)腔殼的下端均與所述底 板的一側(cè)密封連接，所述底板的另一側(cè)與所述底座連接，所述外腔殼的上端與所述內(nèi)腔殼 的上端均與所述頂板的一側(cè)密封連接，所述頂板的另一側(cè)與所述腔蓋連接，所述底板、所述 頂板、所述內(nèi)腔殼的外壁及所述外腔殼的內(nèi)壁形成所述密閉的傳熱腔。設(shè)置所述底板及所 述頂板能夠使所述密閉處理腔與外界更好的隔絕熱傳導(dǎo)，有利于對(duì)所述密閉處理腔進(jìn)行原 位的快速加熱或冷卻，降低或者提高處理腔內(nèi)的溫度。較佳地，還包括入流擋塊及出流擋塊，所述入流擋塊容置于所述螺旋通道內(nèi)并與 所述底板連接形成所述螺旋通道的入口端面，所述出流擋塊容置于所述螺旋通道內(nèi)并與所 述頂板連接形成所述螺旋通道的出口端面。設(shè)置所述入流擋塊及所述出流擋塊封閉了所 述螺旋通道且能夠使流體按照規(guī)定方向流動(dòng)，有利于對(duì)真空熱處理腔進(jìn)行快速加熱或者冷 卻，降低或者提高處理腔內(nèi)的溫度。較佳地，還包括入流管及出流管，所述入流管穿入所述外腔殼的下端并與所述傳 熱腔連通，所述出流管穿入所述外腔殼的上端并與所述傳熱腔連通。所述入流管與所述出 流管的作用是給所述螺旋通道注入外界流體，可以根據(jù)需要注入各種溫度的氣體、液體，以 達(dá)到降低或者提高熱所述密閉處理腔內(nèi)溫度的目的。較佳地，還包括排流管，所述排流管穿入所述底座并與所述傳熱腔連通。所述排流 管用于排出所述傳熱腔內(nèi)多余的流體。與現(xiàn)有技術(shù)相比，由于本實(shí)用新型真空熱處理腔的外腔殼呈中空結(jié)構(gòu)，所述內(nèi)腔 殼收容于所述外腔殼內(nèi)，所述外腔殼的下端與所述底座密封連接，所述外腔殼的上端與所 述腔蓋密封連接所述底座、所述腔蓋、所述內(nèi)腔殼的外壁及所述外腔殼的內(nèi)壁形成密閉的 傳熱腔，所述傳熱腔內(nèi)設(shè)置有導(dǎo)流板，所述導(dǎo)流板自所述底座至所述腔蓋呈螺旋狀的密封 連接與所述內(nèi)腔殼的外壁與所述外腔殼的內(nèi)壁之間，所述導(dǎo)流板、所述內(nèi)腔殼的外壁與所 述外腔殼的內(nèi)壁形成螺旋通道。設(shè)置所述導(dǎo)流板能夠?qū)α黧w進(jìn)行很好的散熱及導(dǎo)向的作 用，當(dāng)流體為冷卻的液體或者氣體時(shí)，本實(shí)用新型真空熱處理腔的冷卻率高，熱交換均勻， 且能夠快速的冷卻處理腔。本實(shí)用新型真空熱處理腔通過(guò)螺旋式的流體循環(huán)，將處理腔內(nèi) 的熱量帶走，使腔體不會(huì)因?yàn)槭軣岫冃?，也能保持所述密閉處理腔保持在可控的溫度范
4圍內(nèi)，更利于所述密閉處理腔內(nèi)工藝環(huán)境的維持。相反的，當(dāng)本實(shí)用新型真空熱處理腔內(nèi)的流體為帶有熱量的液體或者氣體時(shí)，帶有熱量的流體將會(huì)較容易、較迅速的烘烤所述密閉 處理腔。通過(guò)本實(shí)用新型真空熱處理腔可以保持較好的處理氣氛，即維持一個(gè)相對(duì)潔凈、穩(wěn) 定的工藝條件，通過(guò)在本實(shí)用新型真空熱處理腔內(nèi)處理的薄型制品可以取得較高的成品率 和良品率。而且，本實(shí)用新型真空熱處理腔易于實(shí)現(xiàn)，且流體可以是不同的液體或氣體，甚 至可能是液體及氣體的組合，應(yīng)用范圍更廣。通過(guò)以下的描述并結(jié)合附圖，本實(shí)用新型將變得更加清晰，這些附圖用于解釋本 實(shí)用新型的實(shí)施例。

圖1為本實(shí)用新型真空熱處理腔的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為圖1所示真空熱處理腔的結(jié)構(gòu)示意圖的俯視圖。圖3為圖1所示真空熱處理腔的結(jié)構(gòu)示意圖的截面示意圖。圖4為圖3所示真空熱處理腔的局部截面示意圖。
具體實(shí)施方式
現(xiàn)在參考附圖描述本實(shí)用新型的實(shí)施例，附圖中類似的元件標(biāo)號(hào)代表類似的元 件。如上所述，如圖1、圖2及圖3所示，本實(shí)用新型提供一種真空熱處理腔100，用于加熱 或者冷卻薄片形制品，包括底座1、內(nèi)腔殼20及腔蓋3，所述內(nèi)腔殼20呈中空結(jié)構(gòu)，所述內(nèi) 腔殼20的下端與所述底座1密封連接，所述內(nèi)腔殼20的上端與所述腔蓋3密封連接，所述 底座1、所述內(nèi)腔殼20及所述腔蓋3形成密封的處理腔，其中，還包括呈中空結(jié)構(gòu)的外腔殼 21，所述內(nèi)腔殼20收容于所述外腔殼21內(nèi)，所述外腔殼21的下端與所述底座1密封連接， 所述外腔殼21的上端與所述腔蓋3密封連接所述底座1、所述腔蓋3、所述內(nèi)腔殼20的外 壁200及所述外腔殼21的內(nèi)壁210形成密閉的傳熱腔5，所述傳熱腔5內(nèi)設(shè)置有導(dǎo)流板6， 所述導(dǎo)流板6自所述底座1至所述腔蓋3呈螺旋狀的密封連接與所述內(nèi)腔殼20的外壁200 與所述外腔殼21的內(nèi)壁210之間，所述導(dǎo)流板6、所述內(nèi)腔殼20的外壁200與所述外腔殼 21的內(nèi)壁210形成螺旋通道4。具體的，所述導(dǎo)流板6具有內(nèi)邊緣60及外邊緣61，所述內(nèi) 邊緣60與所述外壁200密封連接及所述外邊緣61與所述內(nèi)壁210密封連接且將所述傳熱 腔5分隔成所述螺旋通道4。較佳者，如圖3所示，還包括底板9a及頂板％，所述外腔殼21的下端與所述內(nèi)腔 殼20的下端均與所述底板9a的一側(cè)密封連接，所述底板9a的另一側(cè)與所述底座1連接， 所述外腔殼21的上端與所述內(nèi)腔殼20的上端均與所述頂板9b的一側(cè)密封連接，所述頂板 9b的另一側(cè)與所述腔蓋3連接，所述底板9a、所述頂板％、所述內(nèi)腔殼20的外壁200及所 述外腔殼21的內(nèi)壁210形成所述密閉的傳熱腔5。設(shè)置所述底板9a及所述頂板9b能夠使 所述密閉處理腔與外界更好的隔絕熱傳導(dǎo)，有利于對(duì)所述密閉處理腔進(jìn)行原位的快速加熱 或冷卻，降低或者提高處理腔內(nèi)的溫度。較佳者，如圖3及圖4所示，還包括入流擋塊7a及出流擋塊7b，所述入流擋塊7a 容置于所述螺旋通道4內(nèi)并與所述底板9a連接形成所述螺旋通道4的入口端面，所述出流 擋塊7b容置于所述螺旋通道4內(nèi)并與所述頂板9b連接形成所述螺旋通道4的出口端面。設(shè)置所述入流擋塊7a及所述出流擋塊7b封閉了所述螺旋通道4且能夠使流體按照規(guī)定方 向流動(dòng)，有利于對(duì)真空熱處理腔進(jìn)行快速加熱或者冷卻，降低或者提高處理腔內(nèi)的溫度。較佳者，如圖3及圖4所示，還包括入流管8a及出流管8b，所述入流管8a穿入所 述外腔殼21的下端并與所述傳熱腔5連通，所述出流管8b穿入所述外腔殼21的上端并與 所述傳熱腔5連通。所述入流管8a與所述出流管8b的作用是給所述螺旋通道4注入外界 流體，可以根據(jù)需要注入各種溫度的氣體、液體，以達(dá)到降低或者提高熱所述密閉處理腔內(nèi) 溫度的目的。較佳者，還包括排流管10，所述排流管10穿入所述底座1并與所述傳熱腔5連通。 所述排流管10用于排出所述傳熱腔5內(nèi)多余的流體。結(jié)合圖1-4，由于本實(shí)用新型真空熱處理腔100的外腔殼21呈中空結(jié)構(gòu)，所述內(nèi)腔 殼20收容于所述外腔殼21內(nèi)，所述外腔殼21的下端與所述底座1密封連接，所述外腔殼 21的上端與所述腔蓋3密封連接所述底座1、所述腔蓋3、所述內(nèi)腔殼20的外壁200及所述 外腔殼21的內(nèi)壁210形成密閉的傳熱腔5，所述傳熱腔5內(nèi)設(shè)置有導(dǎo)流板6，所述導(dǎo)流板6 自所述底座1至所述腔蓋3呈螺旋狀的密封連接與所述內(nèi)腔殼20的外壁200與所述外腔殼 21的內(nèi)壁210之間，所述導(dǎo)流板6、所述內(nèi)腔殼20的外壁200與所述外腔殼21的內(nèi)壁210 形成螺旋通道4。設(shè)置所述導(dǎo)流板6能夠?qū)α黧w進(jìn)行很好的散熱及導(dǎo)向的作用，當(dāng)流體為冷 卻的液體或者氣體時(shí)，本實(shí)用新型真空熱處理腔100的冷卻率高，熱交換均勻，且能夠快速 的冷卻處理腔。本實(shí)用新型真空熱處理腔100通過(guò)螺旋通道4的流體循環(huán)，將處理腔內(nèi)的 熱量帶走，使腔體不容易因?yàn)槭軣岫冃?，也能保持處理腔保持在可控的溫度范圍?nèi)，更利 于所述密閉處理腔內(nèi)工藝環(huán)境的維持。相反的，當(dāng)本實(shí)用新型真空熱處理腔100內(nèi)的流體 為帶有熱量的液體或者氣體時(shí)，帶有熱量的流體將會(huì)較容易、較迅速的烘烤處理腔。通過(guò)本 實(shí)用新型真空熱處理腔100可以保持較好的處理氣氛，即維持一個(gè)相對(duì)潔凈、穩(wěn)定的工藝 條件，通過(guò)在本實(shí)用新型真空熱處理腔100內(nèi)處理的薄型制品可以取得較高的成品率和良 品率。而且，本實(shí)用新型真空熱處理腔100易于實(shí)現(xiàn)，且流體可以是不同的液體或氣體，甚 至可能是液體及氣體的組合，應(yīng)用范圍更廣。以上結(jié)合最佳實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型真空熱處理腔100進(jìn)行了描述，但本實(shí)用新型 真空熱處理腔100并不局限于以上揭示的實(shí)施例，而應(yīng)當(dāng)涵蓋各種根據(jù)本實(shí)用新型的本質(zhì) 進(jìn)行的修改、等效組合。
權(quán)利要求一種真空熱處理腔，適用于加熱或者冷卻薄片形制品，包括底座、內(nèi)腔殼及腔蓋，所述內(nèi)腔殼呈中空結(jié)構(gòu)，所述內(nèi)腔殼的下端與所述底座密封連接，所述內(nèi)腔殼的上端與所述腔蓋密封連接，所述底座、所述內(nèi)腔殼及所述腔蓋形成密封的處理腔，其特征在于還包括呈中空結(jié)構(gòu)的外腔殼，所述內(nèi)腔殼收容于所述外腔殼內(nèi)，所述外腔殼的下端與所述底座密封連接，所述外腔殼的上端與所述腔蓋密封連接所述底座、所述腔蓋、所述內(nèi)腔殼的外壁及所述外腔殼的內(nèi)壁形成密閉的傳熱腔，所述傳熱腔內(nèi)設(shè)置有導(dǎo)流板，所述導(dǎo)流板自所述底座至所述腔蓋呈螺旋狀的密封連接與所述內(nèi)腔殼的外壁與所述外腔殼的內(nèi)壁之間，所述導(dǎo)流板、所述內(nèi)腔殼的外壁與所述外腔殼的內(nèi)壁形成螺旋通道。
2.如權(quán)利要求1所述的真空熱處理腔，其特征在于還包括入流管及出流管，所述入流 管穿入所述外腔殼的下端并與所述傳熱腔連通，所述出流管穿入所述外腔殼的上端并與所 述傳熱腔連通。
3.如權(quán)利要求1所述的真空熱處理腔，其特征在于還包括底板及頂板，所述外腔殼的 下端與所述內(nèi)腔殼的下端均與所述底板的一側(cè)密封連接，所述底板的另一側(cè)與所述底座連 接，所述外腔殼的上端與所述內(nèi)腔殼的上端均與所述頂板的一側(cè)密封連接，所述頂板的另 一側(cè)與所述腔蓋連接，所述底板、所述頂板、所述內(nèi)腔殼的外壁及所述外腔殼的內(nèi)壁形成所 述密閉的傳熱腔。
4.如權(quán)利要求1所述的真空熱處理腔，其特征在于還包括排流管，所述排流管穿入所 述底座并與所述傳熱腔連通。
5.如權(quán)利要求1所述的真空熱處理腔，其特征在于還包括入流擋塊及出流擋塊，所述 入流擋塊容置于所述螺旋通道內(nèi)并與所述底板連接形成所述螺旋通道的入口端面，所述出 流擋塊容置于所述螺旋通道內(nèi)并與所述頂板連接形成所述螺旋通道的出口端面。
專利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)了一種真空熱處理腔，包括底座、內(nèi)腔殼及腔蓋，內(nèi)腔殼呈中空結(jié)構(gòu)，內(nèi)腔殼的下端與底座密封連接，內(nèi)腔殼的上端與腔蓋密封連接，底座、內(nèi)腔殼及腔蓋形成密封的處理腔，其中，還包括呈中空結(jié)構(gòu)的外腔殼，內(nèi)腔殼收容于外腔殼內(nèi)，外腔殼的下端與底座密封連接，外腔殼的上端與腔蓋密封連接底座、腔蓋、內(nèi)腔殼的外壁及外腔殼的內(nèi)壁形成密閉的傳熱腔，傳熱腔內(nèi)設(shè)置有導(dǎo)流板，導(dǎo)流板自底座至腔蓋呈螺旋狀的密封連接與內(nèi)腔殼的外壁與外腔殼的內(nèi)壁之間，導(dǎo)流板、內(nèi)腔殼的外壁與外腔殼的內(nèi)壁形成螺旋通道。本實(shí)用新型真空熱處理腔能夠通過(guò)流體將處理腔原位的冷卻或者是加熱，能夠迅速降低或者提高真空熱處理腔內(nèi)溫度的真空熱處理腔。
文檔編號(hào)C23C14/24GK201610445SQ20092026915
公開(kāi)日2010年10月20日 申請(qǐng)日期2009年12月30日 優(yōu)先權(quán)日2009年12月30日
發(fā)明者劉惠森, 葉宗鋒, 楊明生, 王勇, 王曼媛, 范繼良, 郭遠(yuǎn)倫 申請(qǐng)人:東莞宏威數(shù)碼機(jī)械有限公司