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真空鍍膜的方法與流程

文檔序號(hào):12110033閱讀:來源:國知局
技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供了一種真空鍍膜的方法,涉及一種類金剛石薄膜以及金屬薄膜的制備技術(shù),包括以下步驟:第一步,通過激光切割或者刻蝕導(dǎo)電圓片(1),在導(dǎo)電圓片(1)上得到通孔(2);第二步,將靶材圓片(3)、導(dǎo)電圓片(1)、襯底圓片(4)依次疊放,并置于真空中加熱至溫度穩(wěn)定;第三步,在靶材圓片(3)和襯底圓片(4)上施加電壓,其中靶材圓片(3)接正電極,襯底圓片(4)接負(fù)電極,在電壓作用下襯底圓片(4)上鍍有靶材薄膜(8)。本發(fā)明可精確控制襯底圓片上需要鍍上類金剛石薄膜或者金屬薄膜的區(qū)域,可制備尺寸為毫米級(jí)別甚至亞毫米級(jí)別的類金剛石薄膜或者金屬薄膜。

技術(shù)研發(fā)人員:尚金堂;吉宇;潘智華;鹿麟
受保護(hù)的技術(shù)使用者:東南大學(xué)
文檔號(hào)碼:201610959307
技術(shù)研發(fā)日:2016.11.03
技術(shù)公布日:2017.03.15

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