技術編號：12110033
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種MEMS(微電子機械系統(tǒng))制造技術，尤其涉及一種在襯底圓片上真空鍍膜，制備類金剛石薄膜或者金屬薄膜的方法。背景技術由于類金剛石薄膜具有硬度高，紅外區(qū)透明，高耐磨性、低摩擦系數(shù)、高熱導率、高電阻率、高化學穩(wěn)定性等一系列優(yōu)異性能，使得類金剛石鍍膜在光學領域、機械耐磨涂層、微電機系統(tǒng)以及半導體領域有巨大的應用前景。目前常用的類金剛石薄膜制備工藝有：離子束增強沉積法、脈沖激光沉積方法、陰極電弧沉積法、射頻等離子體化學氣相沉積法、射頻濺射沉積法等。上述方法中，為實現(xiàn)玻璃上制備金剛石薄膜的目的...
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