本發(fā)明涉及一種管路清理裝置以及清理管路的方法。

背景技術(shù)：

常壓化學(xué)氣相沉積(Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition，APCVD)和等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(Plasma Enhance Chemical Vapor Deposition，PECVD)在芯片制造領(lǐng)域應(yīng)用非常廣泛。APCVD的原理是：APCVD的反應(yīng)機(jī)構(gòu)主要是借著反應(yīng)氣體在主氣流及芯片表面間的濃度差，將反應(yīng)氣體從反應(yīng)器的主氣流里以擴(kuò)散的方式傳遞到芯片表面，有一部分反應(yīng)氣體將被吸附在芯片表面，當(dāng)參與反應(yīng)的反應(yīng)物在表面相會(huì)時(shí)，借著芯片表面的能量，沉積動(dòng)作將發(fā)生，當(dāng)沉積反應(yīng)完成后，反應(yīng)的副產(chǎn)物及部分未參與反應(yīng)的反應(yīng)氣體，將一起被抽離反應(yīng)室。APCVD可以用來(lái)制備USG膜和BPSG膜。PECVD的原理是：利用射頻將反應(yīng)氣體分解成離子、原子或原子基，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng)，很容易發(fā)生反應(yīng)，能夠使沉積在低于金屬層熔點(diǎn)的低溫下進(jìn)行。PECVD可以用來(lái)制備PEOX、SION、PSG、SIN膜。

在APCVD和PECVD過(guò)程中，由于會(huì)有一些粉末產(chǎn)物殘留在工作機(jī)臺(tái)的真空管路內(nèi)，經(jīng)過(guò)長(zhǎng)時(shí)間累積后，真空管路內(nèi)壁的粉末會(huì)把真空管路堵塞。粉末堵塞管路，會(huì)造成機(jī)臺(tái)真空泵抽氣速度異常。因此，需要及時(shí)清理真空管路。但是由于真空管路不是直的，從主機(jī)臺(tái)端到附屬機(jī)臺(tái)端中間會(huì)有彎角，用鐵錘砸、用直的鋼刷刷無(wú)法將整個(gè)管路清理干凈。

另外，由于APCVD和PECVD原理的差異，這兩種類(lèi)型的工作機(jī)臺(tái)的真空管路內(nèi)壁的粉末性質(zhì)也有一定的差異：PECVD真空管路內(nèi)壁的粉末(主要是SiO₂N_x、SiO₂、P₂O₅、SiN_x:H)十分堅(jiān)硬，而APCVD真空管 路內(nèi)壁的粉末(主要是SiO₂、P₂O₅、B₂O₃)相對(duì)較軟、粘附性較強(qiáng)。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明提供一種管路清理裝置以及一種清理管路的方法，其能夠有效地清理真空管路內(nèi)壁的粉末。

為了實(shí)現(xiàn)上述發(fā)明目的，本發(fā)明所采用的技術(shù)方案如下：

根據(jù)本發(fā)明，提供一種管路清理裝置，其用于清理位于工作機(jī)臺(tái)的真空管路的內(nèi)壁上的粉末，包含清理工具、粉末接收管以及吸塵器，其中

所述清理工具用于使所述真空管路內(nèi)壁的粉末落到所述粉末接收管中；

待清理的真空管路尾端連接所述粉末接收管，所述粉末接收管連接所述吸塵器。

進(jìn)一步地，所述清理工具是上端連接鋼纜繩的鐵錘和/或上端和下端都連接鋼纜繩的刷子。

進(jìn)一步地，所述粉末接收管具有承接口和吸塵接口，所述粉末接收管通過(guò)所述承接口連接所述工作機(jī)臺(tái)的真空管路尾端并且通過(guò)所述吸塵接口連接所述吸塵器。

根據(jù)本發(fā)明，提供一種清理管路的方法，其適于清理位于工作機(jī)臺(tái)的真空管路的內(nèi)壁上的粉末，其特征在于，包含以下步驟：

(1)關(guān)閉泵，將待清理的真空管路與工作機(jī)臺(tái)斷開(kāi)；

(2)在待清理的真空管路尾端連接粉末接收管，將所述粉末接收管連接到吸塵器；

(3)采用清理工具使所述待清理的真空管路的內(nèi)壁上的粉末掉落到所述粉末接收管中；

(4)開(kāi)啟所述吸塵器，將掉落在所述粉末接收管中的粉末抽出；

(5)粉末清理完畢后，將所述真空管路復(fù)原。

進(jìn)一步地，所述清理工具是上端連接鋼纜繩的鐵錘和/或上端和下端都 連接鋼纜繩的刷子。

更進(jìn)一步地，所述步驟(3)進(jìn)一步包含反復(fù)將所述連接鋼纜繩的鐵錘從待清理的真空管路頂端拋下和拉回以通過(guò)所述鐵錘撞擊所述待清理的真空管路的所述內(nèi)壁從而使所述內(nèi)壁上的粉末掉落到所述粉末接收管中。

更進(jìn)一步地，所述步驟(3)進(jìn)一步包含將所述連接鋼纜繩的刷子置于所述真空管路中，所述刷子上端和下端的所述鋼纜繩分別位于所述待清理的真空管路頂端和尾端，通過(guò)拉動(dòng)所述刷子上端和下端的鋼纜繩，使所述刷子在所述真空管路內(nèi)部來(lái)回移動(dòng)從而使所述內(nèi)壁上的粉末掉落到所述粉末接收管中。

更進(jìn)一步地，所述步驟(3)進(jìn)一步包含首先反復(fù)將所述連接鋼纜繩的鐵錘從待清理的真空管路頂端拋下和拉回以通過(guò)所述鐵錘撞擊所述待清理的真空管路的所述內(nèi)壁從而使所述內(nèi)壁上的粉末掉落到所述粉末接收管中，然后將所述連接鋼纜繩的刷子置于所述真空管路中，所述刷子上端和下端的所述鋼纜繩分別位于所述待清理的真空管路頂端和尾端，通過(guò)拉動(dòng)所述刷子上端和下端的鋼纜繩，使所述刷子在所述真空管路內(nèi)部來(lái)回移動(dòng)從而使所述內(nèi)壁上的粉末掉落到所述粉末接收管中。

進(jìn)一步地，所述步驟(2)進(jìn)一步包括將所述粉末接收管的承接口連接到所述待清理的真空管路尾端，并且將所述粉末接收管的吸塵接口連接到所述吸塵器。

本發(fā)明的有益效果是，本發(fā)明提供的管路清理裝置及其清理管路的方法能夠有效地清理真空管路內(nèi)壁的較軟的和堅(jiān)硬的粉末，并且適用于清理不是筆直的、帶拐角的真空管路。

附圖說(shuō)明

圖1為半導(dǎo)體制造系統(tǒng)的工作機(jī)臺(tái)的連接關(guān)系示意圖；

圖2為圖1的工作機(jī)臺(tái)的真空管路清理時(shí)的狀態(tài)圖；

附圖標(biāo)記

1 工作機(jī)臺(tái)

2 第一軟管

3 真空管路

4 第二軟管

5 廢氣處理機(jī)

6 粉末接收管

61 承接口

62 吸塵接口

7 清理工具

8 吸塵器

具體實(shí)施方式

為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，下面結(jié)合附圖及實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅用以解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明。

圖1示出了半導(dǎo)體制造系統(tǒng)的工作機(jī)臺(tái)的連接關(guān)系示意圖。如圖1所示，正常工作時(shí)，工作機(jī)臺(tái)1通過(guò)第一軟管2、真空管路3、第二軟管4連接到廢氣處理機(jī)5，其中第一軟管2和第二軟管4可拆卸。

圖2示出了圖1的工作機(jī)臺(tái)的真空管路清理時(shí)的狀態(tài)圖。

下面結(jié)合圖1和圖2描述清理管路的具體過(guò)程。當(dāng)真空管路3需要清理時(shí)，進(jìn)行如下操作：第一步，關(guān)閉泵(在圖1和2中未示出)，拆除第一軟管2和第二軟管4，將待清理的真空管路3與工作機(jī)臺(tái)1和廢氣處理機(jī)5斷開(kāi)。另外，因清理管路時(shí)間較長(zhǎng)，為了防止泵長(zhǎng)時(shí)間停機(jī)卡死，需要手動(dòng)把泵打開(kāi)，使泵空轉(zhuǎn)。第二步，為了防止清理之后掉落下來(lái)的粉末引起粉塵探測(cè)器(在圖1和2中未示出)報(bào)警，在待清理的真空管路3尾部連接粉末接收管6，使掉落下來(lái)的粉末全部留在粉末接收管6中。粉末接收管6具有承接口61和吸塵接口62，粉末接收管6通過(guò)承接口61連接 到待清理的真空管路3尾端，并且通過(guò)吸塵接口62連接到吸塵器8。第三步，采用清理工具7使待清理的真空管路3的內(nèi)壁上的粉末掉落到粉末接收管6中；第四步，開(kāi)啟吸塵器8，將掉落在粉末接收管6中的粉末吸出，其中吸塵接口為2寸接口；第五步，粉末清理完畢后，重新接上第一軟管2和第二軟管4，將PECVD工作臺(tái)的管路復(fù)原。

實(shí)施例1

根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，提供了一種適于清理管路內(nèi)壁含有堅(jiān)硬的粉末的管路清理裝置以及清理方法。以清理PECVD工作機(jī)臺(tái)為例進(jìn)行說(shuō)明。

當(dāng)PECVD工作機(jī)臺(tái)的真空管路3需要清理時(shí)，第三步的具體步驟如下：將鋼纜繩連接鐵錘組成清理工具7，將鐵錘從待清理的真空管路3頂端內(nèi)壁拋下，鋼纜繩一端位于待清理的真空管路頂端，鐵錘在自身的重力和拋力的作用下撞擊待清理的真空管路3內(nèi)壁，從而使待清理的真空管路3的內(nèi)壁上的粉末掉落到粉末接收管6中，當(dāng)鐵錘落到待清理的真空管路的尾端時(shí)，通過(guò)位于待清理的真空管路頂端的鋼纜繩將鐵錘拉回到待清理的真空管路的頂端，再次拋下、拉回，反復(fù)進(jìn)行上述操作，直至真空管路內(nèi)壁的粉末被完全砸下。由于鋼纜繩可以彎曲，因此可以更好地清理真空管路3中的拐角。

本發(fā)明提供的管路清理裝置以及清理方法能夠有效地清理真空管路內(nèi)壁的堅(jiān)硬的粉末，并且適用于清理不是筆直的、帶拐角的真空管路。

實(shí)施例2

根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面，提供了一種適于清理管路內(nèi)壁含有粘附性較強(qiáng)的較軟的粉末的管路清理裝置以及清理方法。以清理APCVD工作機(jī)臺(tái)為例進(jìn)行說(shuō)明。

當(dāng)APCVD工作機(jī)臺(tái)的真空管路3嚴(yán)重堵塞需要清理時(shí)，第三步的具體步驟如下：首先，將鋼纜繩連接鐵錘組成清理工具7，將鐵錘從待清理的真空管路3頂端內(nèi)壁拋下，鋼纜繩一端位于待清理的真空管路頂端，鐵錘在自身的重力和拋力的作用下撞擊待清理的真空管路3內(nèi)壁，從而使待清理的真空管路3的內(nèi)壁上的粉末掉落到粉末接收管6中，當(dāng)鐵錘落到待 清理的真空管路的尾端時(shí)，通過(guò)位于待清理的真空管路頂端的鋼纜繩將鐵錘拉回到待清理的真空管路的頂端，再次拋下、拉回，反復(fù)進(jìn)行上述操作，直至真空管路內(nèi)壁的粉末基本被完全砸下。然后，在刷子上端和下端分別連接鋼纜繩以組成清理工具7。將刷子置于待清理的真空管路3中，使刷子上端的鋼纜繩位于待清理的真空管路頂端，刷子下端的鋼纜繩從粉末接收管6的吸塵接口62伸出，通過(guò)拉動(dòng)上端和下端的鋼纜繩，使刷子在待清理的真空管路3內(nèi)上下來(lái)回移動(dòng)，從而使待清理的真空管路3的內(nèi)壁上的粉末掉落到粉末接收管6中。由于鋼纜繩可以彎曲，因此可以更好地清理真空管路3中的拐角。

本發(fā)明提供的管路清理裝置以及清理方法能夠有效地清理真空管路內(nèi)壁的粘附性較強(qiáng)的較軟的粉末，并且適用于清理不是筆直的、帶拐角的真空管路。

實(shí)施例3

根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面，提供了一種適于清理管路內(nèi)壁含有粘附性較強(qiáng)的較軟的粉末的管路清理裝置以及清理方法。以清理APCVD工作機(jī)臺(tái)為例進(jìn)行說(shuō)明。

當(dāng)APCVD工作機(jī)臺(tái)的真空管路3輕微堵塞需要清理時(shí)，第三步的具體步驟如下：在刷子上端和下端分別連接鋼纜繩以組成清理工具7。將刷子置于待清理的真空管路3中，使刷子上端的鋼纜繩位于待清理的真空管路頂端，刷子下端的鋼纜繩從粉末接收管6的吸塵接口62伸出，通過(guò)拉動(dòng)上端和下端的鋼纜繩，使刷子在待清理的真空管路3內(nèi)上下來(lái)回移動(dòng)，從而使待清理的真空管路3的內(nèi)壁上的粉末掉落到粉末接收管6中。由于鋼纜繩可以彎曲，因此可以更好地清理真空管路3中的拐角。

本發(fā)明提供的管路清理裝置以及清理方法能夠有效地清理真空管路內(nèi)壁的粘附性較強(qiáng)的較軟的粉末，并且適用于清理不是筆直的、帶拐角的真空管路。

以上所述實(shí)施例僅表達(dá)了本發(fā)明的實(shí)施方式，其描述較為具體和詳細(xì)，但并不能因此而理解為對(duì)本發(fā)明專(zhuān)利范圍的限制。應(yīng)當(dāng)指出的是，對(duì) 于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進(jìn)，這些都屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。因此，本發(fā)明專(zhuān)利的保護(hù)范圍應(yīng)以所附權(quán)利要求為準(zhǔn)。