本發(fā)明涉及半導(dǎo)體顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種遮罩片及蒸鍍遮罩及蒸鍍遮罩裝置及蒸鍍工藝。

背景技術(shù)：

在平板顯示技術(shù)中，AM0LED(active matrix organic light emitting diodes有源矩陣有機(jī)發(fā)光二極體或主動(dòng)矩陣有機(jī)發(fā)光二極體)以其卓越的顯示性能被稱為Super display。三星SMD自2007年首次投放大量用于移動(dòng)電話和MP4顯示的小尺寸AMOLED產(chǎn)品以來，目前市場上能夠發(fā)現(xiàn)眾多應(yīng)用了AMOLED的電子數(shù)碼終端產(chǎn)品。然而這些產(chǎn)品多集中在小尺寸，現(xiàn)在市場對(duì)中、大尺寸的應(yīng)用需求開始增多，例如筆記本電腦、監(jiān)示器和電視等。通常大尺寸AMOLED屏幕的玻璃基板尺寸至少要達(dá)到5.5代。目前大尺寸AMOLED屏幕尚未完全應(yīng)用的最主要原因是良率無法保證，限制大尺寸AMOLED屏幕產(chǎn)品良率的因素主要涉及三個(gè)方面：面板、像素圖案制作、器件的封裝。低溫多晶矽(LTPS)面板制程難以跨越5.5代AMOLED屏幕生產(chǎn)線，因?yàn)槊姘宓闹谱魇前鸭t、綠、藍(lán)有機(jī)發(fā)光體在玻璃面板上蒸鍍，由于在蒸鍍時(shí)必須要使用金屬遮罩，在蒸鍍制程中，金屬遮罩的表面尺寸決定了玻璃基板的蒸鍍尺寸，因金屬遮罩的尺寸不能太大(金屬遮罩的尺寸太大，在蒸鍍過程中金屬遮罩因重力出現(xiàn)下沉，使得形成的基板出現(xiàn)混色現(xiàn)象)，因此金屬遮罩不適合實(shí)現(xiàn)大屏幕和高分辨率。為了實(shí)現(xiàn)大尺寸 AMOLED屏幕的制作，現(xiàn)有技術(shù)中，如圖1所示，通常采用遮罩片1實(shí)施蒸鍍處理，將一根一根的遮罩片1按照順序貼附于玻璃基板(圖中未標(biāo)示)表面，然后對(duì)玻璃基板進(jìn)行蒸鍍，但是此種方式的生產(chǎn)效率較低，不利于產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明提供一種適用于大尺寸AMOLED屏幕制造、且生產(chǎn)效率高的遮罩片及蒸鍍遮罩及蒸鍍遮罩裝置及蒸鍍工藝。

一種遮罩片，其特征在于，所述遮罩片包括：

設(shè)置有多個(gè)鏤空區(qū)、遮蔽區(qū)、第一非有效蒸鍍區(qū)、第二非有效蒸鍍區(qū)，所述鏤空區(qū)和遮蔽區(qū)依次交替設(shè)有至于所述第一非有效蒸鍍區(qū)和所述第二非有效蒸鍍區(qū)之間，單一所述鏤空區(qū)與單一所述遮蔽區(qū)面積相同，單一所述第一非有效蒸鍍區(qū)與單一所述第二非有效蒸鍍區(qū)面積相同，且單一所述鏤空區(qū)的面積為單一所述第一非有效蒸鍍區(qū)面積的兩倍。

優(yōu)選地，上述的遮罩片，其中，所述遮罩片的長度整數(shù)倍于單一所述鏤空區(qū)的長度。

本發(fā)明同時(shí)提供一種蒸鍍遮罩，其中，至少包括上述的遮罩片，所述蒸鍍遮罩包括開口區(qū)、閉合區(qū)，所述閉合區(qū)包括第一類閉合區(qū)和第二類閉合區(qū)；其中，

每個(gè)所述遮罩片的鏤空區(qū)形成所述蒸鍍遮罩的開口區(qū)；

每個(gè)所述遮罩片的遮蔽區(qū)形成所述蒸鍍遮罩的第一類閉合區(qū)；

第一個(gè)所述蒸鍍遮罩片的第二非有效蒸鍍區(qū)與相鄰的第二個(gè)所述蒸鍍遮罩片的第一非有效蒸鍍區(qū)形成所述蒸鍍遮罩的第二類閉合區(qū)。

優(yōu)選地，上述的蒸鍍遮罩，其中，所述蒸鍍遮罩片的開口區(qū)用以形成AMOLED屏幕的有源區(qū)，所述第一類閉合區(qū)結(jié)合所述第二類閉合區(qū)用以形成所述AMOLED屏幕的非有效蒸鍍區(qū)。

一種蒸鍍遮罩裝置，其中，包括兩個(gè)上述的蒸鍍遮罩，所述蒸鍍遮罩裝置包括設(shè)置于待蒸鍍玻璃基板上的第一層所述蒸鍍遮罩和設(shè)置于所述第一層所述蒸鍍遮罩上端的第二層所述蒸鍍遮罩，其中第二層所述蒸鍍遮罩的開口區(qū)匹配第一層所述蒸鍍遮罩的閉合區(qū)，第二層所述蒸鍍遮罩的開口區(qū)覆蓋所述玻璃基板上的區(qū)域形成AMOLED屏幕的有源區(qū)。

優(yōu)選地，上述的蒸鍍遮罩裝置，其中，第二層所述蒸鍍遮罩部分覆蓋第一層所述蒸鍍遮罩，第二層所述蒸鍍遮罩的閉合區(qū)覆蓋于所述第一層所述蒸鍍遮罩的開口區(qū)以形成所述AMOLED屏幕的第一非有效蒸鍍區(qū)。

優(yōu)選地，上述的蒸鍍遮罩裝置，其中，所述AMOLED屏幕有源區(qū)的長度整數(shù)倍于所述AMOLED屏幕非有效蒸鍍區(qū)的長度。

優(yōu)選地，上述的蒸鍍遮罩裝置，其中，所述第二層所述蒸鍍遮罩未覆蓋第一層所述蒸鍍遮罩的區(qū)域形成所述AMOLED屏幕第二非有效蒸鍍區(qū)域。

一種蒸鍍工藝，其特征在于，基于上述的蒸鍍遮罩裝置，所述蒸鍍工藝包括：

提供一玻璃基板，所述玻璃基板上包括蒸鍍區(qū)和非蒸鍍區(qū)；

將至少兩個(gè)所述蒸鍍遮罩進(jìn)行鄰接或部分疊置形成所述蒸鍍遮罩裝置，以使得所述蒸鍍遮罩裝置上的開口對(duì)應(yīng)于所述玻璃基板上的蒸鍍區(qū)；以及

利用所述蒸鍍遮罩裝置對(duì)所述玻璃基板進(jìn)行蒸鍍工藝，以于所述玻璃基板上的所述蒸鍍區(qū)中形成蒸鍍薄膜。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)是：

(1)蒸鍍遮罩至少兩層遮罩片按順序排列以完全覆蓋玻璃基板，第一個(gè)遮罩片的第二非有效蒸鍍區(qū)與第二個(gè)遮罩片的第一非有效蒸鍍區(qū)無縫隙連接，第一個(gè)遮罩片的第二非有效蒸鍍區(qū)結(jié)合下一個(gè)遮罩片的第一非有效蒸鍍區(qū)所覆蓋的面積匹配蒸鍍片閉合區(qū)的面積，進(jìn)而可以使得經(jīng)蒸鍍處理的玻璃面板上有源區(qū)與非有效蒸鍍區(qū)均勻分布，實(shí)現(xiàn)大尺寸AMOLED屏幕的蒸鍍，且不受遮罩片本身尺寸的限制。

(2)采用蒸鍍罩片蒸鍍的玻璃面板，玻璃面板的非有效蒸鍍區(qū)通常由第一類閉合區(qū)和第二類閉合區(qū)兩部分形成，第一類閉合區(qū)為遮罩片本身的閉合區(qū)，第二類閉合區(qū)由兩個(gè)遮罩片相鄰連接處的非有效蒸鍍區(qū)形成，將兩個(gè)遮罩片的非有效蒸鍍區(qū)設(shè)計(jì)為可用以形成玻璃面板的非有效蒸鍍區(qū)，解決了現(xiàn)有技術(shù)中遮罩片的側(cè)面無法完全形成非有效蒸鍍區(qū)的技術(shù)難題，依照此種排列方式，在制造玻璃基板時(shí)可以不受遮罩本身面積的限制，在增加玻璃基板尺寸的情況下，增加遮罩片 的數(shù)量即可實(shí)現(xiàn)蒸鍍。

附圖說明

圖1為現(xiàn)有的蒸鍍遮罩的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本發(fā)明中的一種蒸鍍遮罩片的實(shí)施方式；

圖3為本發(fā)明中的一種蒸鍍遮罩的實(shí)施方式；

圖4為本發(fā)明中的蒸鍍裝置的一種實(shí)施方式；

圖5為本發(fā)明中的蒸鍍遮罩裝置的一種實(shí)施方式；

圖6為本發(fā)明中的一種蒸鍍工藝的流程示意圖。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

需要說明的是，在不沖突的情況下，本發(fā)明中的實(shí)施例及實(shí)施例中的特征可以相互組合。

下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說明，但不作為本發(fā)明的限定。

一種遮罩片，可應(yīng)用于制造大尺寸AMOLED屏幕，所述遮罩片包括：

設(shè)置有多個(gè)鏤空區(qū)、遮蔽區(qū)、第一非有效蒸鍍區(qū)、第二非有效蒸 鍍區(qū)，所述鏤空區(qū)和遮蔽區(qū)依次交替設(shè)有至于所述第一非有效蒸鍍區(qū)和所述第二非有效蒸鍍區(qū)之間，單一所述鏤空區(qū)與單一所述遮蔽區(qū)面積相同，單一所述第一非有效蒸鍍區(qū)與單一所述第二非有效蒸鍍區(qū)面積相同，且單一所述鏤空區(qū)的面積為單一所述第一非有效蒸鍍區(qū)面積的兩倍。

如圖2所示，列舉一種具體實(shí)施方式，一種蒸鍍遮罩，其中，蒸鍍遮罩包括復(fù)數(shù)個(gè)遮罩片1，復(fù)數(shù)個(gè)遮罩片1相鄰排列，

遮罩片1包括多個(gè)鏤空區(qū)11、遮蔽區(qū)12、第一非有效蒸鍍區(qū)13、第二非有效蒸鍍區(qū)14，

第一非有效蒸鍍區(qū)13、第二非有效蒸鍍區(qū)14分別設(shè)置于遮罩片1的兩端，鏤空區(qū)11與遮蔽區(qū)12相互間隔地設(shè)置于第一非有效蒸鍍區(qū)13和第二非有效蒸鍍區(qū)14之間，

其中，單一鏤空區(qū)11長度匹配單一遮蔽區(qū)12長度，單一第一非有效蒸鍍區(qū)13、單一第二非有效蒸鍍區(qū)14水平方向的長度均為單一鏤空區(qū)11長度的1/2。

如圖2所示，作為進(jìn)一步優(yōu)選實(shí)施方案，其中，蒸鍍遮罩片的長度整數(shù)倍于單一鏤空區(qū)11的長度，采用此種蒸鍍遮罩片1蒸鍍形成的玻璃面板，如圖3所示，其玻璃面板上，有源區(qū)的面積與非有效蒸鍍區(qū)的面積相同，有利于玻璃面板在后序的加工制造。遮罩片1既可以使用于小尺寸的AMOLED屏幕的蒸鍍制造，也可以適用于大尺寸AMOLED屏幕的蒸鍍制造。

在制造小尺寸的AMOLED屏幕時(shí)，使用單個(gè)的蒸鍍片即可，將一個(gè) 蒸鍍片放置與玻璃基板上，蒸鍍源對(duì)玻璃基板進(jìn)行蒸鍍處理形成AMOLED屏幕的玻璃面板，蒸鍍片鏤空區(qū)11形成玻璃面板的有源區(qū)，蒸鍍片的第一非有效蒸鍍區(qū)13、第二非有效蒸鍍區(qū)14以及遮蔽12形成玻璃面板的玻璃面板的非有效蒸鍍區(qū)。

如圖3所示，在制作大尺寸AMOLED屏幕時(shí)，本實(shí)施例以兩個(gè)遮罩片為例，分別為第一蒸鍍遮罩片1、第二蒸鍍遮罩片2，大尺寸AMOLED屏幕所對(duì)應(yīng)的玻璃基板的尺寸也較大，將第一蒸鍍遮罩片1、第二蒸鍍遮罩片2按順序排列以完全覆蓋玻璃基板(圖中未顯示)，第一蒸鍍遮罩片1的第二非有效蒸鍍區(qū)14與第二蒸鍍遮罩片2的第一非有效蒸鍍區(qū)23無縫隙連接，因第一非有效蒸鍍區(qū)13(23)、第二非有效蒸鍍區(qū)14(24)的長度均為單一鏤空區(qū)11(21)長度的1/2，在按序排列時(shí)，第一個(gè)遮罩片1的第二非有效蒸鍍區(qū)14結(jié)合第二蒸鍍遮罩片2的第一非有效蒸鍍區(qū)23所覆蓋的面積匹配遮蔽區(qū)12(22)的面積，進(jìn)而可以使得經(jīng)蒸鍍處理的玻璃面板上有源區(qū)與非有效蒸鍍區(qū)均勻分布，實(shí)現(xiàn)大尺寸AMOLED屏幕的蒸鍍，且不受遮罩片本身尺寸的限制。

本發(fā)明同時(shí)提供一種蒸鍍遮罩，其中，至少包括蒸鍍遮罩片，所述蒸鍍遮罩包括開口區(qū)、閉合區(qū)，所述閉合區(qū)包括第一類閉合區(qū)和第二類閉合區(qū)；

每個(gè)蒸鍍遮罩片1的鏤空區(qū)11形成蒸鍍遮罩的開口區(qū)；

每個(gè)蒸鍍遮罩片1的遮蔽區(qū)12形成遮罩的第一類閉合區(qū)；

上一個(gè)蒸鍍遮罩片1的第二非有效蒸鍍區(qū)14與下一個(gè)蒸鍍遮罩片 1的第一非有效蒸鍍區(qū)13形成蒸鍍遮罩的第二類閉合區(qū)。

作為進(jìn)一步優(yōu)選實(shí)施方案，上述的蒸鍍遮罩，其中，蒸鍍遮罩的開口區(qū)1用以形成AMOLED屏幕的有源區(qū)，第一類閉合區(qū)2與第二類閉合區(qū)2用以形成AMOLED屏幕的非有效蒸鍍區(qū)。

采用蒸鍍罩制造的玻璃面板，玻璃面板的非有效蒸鍍區(qū)通常由第一類閉合區(qū)和第二類閉合區(qū)兩部分形成，第一類閉合區(qū)為蒸鍍遮罩片1本身的遮蔽區(qū)12，第二類閉合區(qū)由兩個(gè)蒸鍍遮罩片1相鄰連接處的非有效蒸鍍區(qū)形成，將兩個(gè)遮罩片1的非有效蒸鍍區(qū)設(shè)計(jì)為可用以形成玻璃面板的非有效蒸鍍區(qū)，解決了現(xiàn)有技術(shù)中蒸鍍遮罩的側(cè)面無法形成非有效蒸鍍區(qū)的技術(shù)難題，依照此種排列方式，在制造玻璃基板時(shí)可以不受遮罩本身面積的限制，在增加玻璃基板尺寸的情況下，增加遮罩片1的數(shù)量即可實(shí)現(xiàn)蒸鍍。

一種蒸鍍遮罩裝置，其中，所述蒸鍍遮罩裝置包括設(shè)置于待蒸鍍玻璃基板上的第一層蒸鍍遮罩和設(shè)置于所述第一層蒸鍍遮罩上端的第二層蒸鍍遮罩，其中第二層所述蒸鍍遮罩的開口區(qū)匹配第一層所述蒸鍍遮罩的閉合區(qū)，第二層所述蒸鍍遮罩的開口區(qū)覆蓋所述玻璃基板上的區(qū)域形成AMOLED屏幕的有源區(qū)。第二層所述蒸鍍遮罩部分覆蓋第一層所述蒸鍍遮罩，第二層所述蒸鍍遮罩的閉合區(qū)覆蓋于所述第一層所述蒸鍍遮罩的開口區(qū)以形成所述AMOLED屏幕的第一非有效蒸鍍區(qū)。

通過兩層蒸鍍遮罩形成一個(gè)蒸鍍遮罩裝置，通過該蒸鍍遮罩裝置對(duì)玻璃基板進(jìn)行蒸鍍處理，解決了現(xiàn)有技術(shù)中單個(gè)遮罩片側(cè)面無法形 成非有效蒸鍍區(qū)的缺陷。

如圖4所示，以兩層蒸鍍遮罩形成的蒸鍍遮罩裝置為例(為直觀表達(dá)蒸鍍罩，圖中僅僅表示兩層蒸鍍的位置關(guān)系)，分別包括第一層蒸鍍遮罩101和第二蒸鍍遮罩102，第一層蒸鍍遮罩101的開口區(qū)1010匹配第二層蒸鍍遮罩102的閉合區(qū)1021，第一層蒸鍍遮罩101的開口區(qū)1010覆蓋玻璃基板(圖中未標(biāo)出)的區(qū)域形成AMOLED屏幕有源區(qū)。將兩層蒸鍍遮罩形成一個(gè)蒸鍍遮罩裝置，通過蒸鍍遮罩裝置對(duì)玻璃基板進(jìn)行蒸鍍處理，通過改變蒸鍍罩內(nèi)遮罩的數(shù)量，可以匹配各種尺寸的AMOLED屏幕的制造。

作為進(jìn)一步優(yōu)選實(shí)施方案，上述的蒸鍍遮罩裝置，其中，兩層所述遮罩于垂直方向相互錯(cuò)開，以使第二層所述蒸鍍遮罩部分覆蓋第一層所述蒸鍍遮罩，第二層所述蒸鍍遮罩的閉合區(qū)覆蓋于所述第一層所述蒸鍍遮罩開口區(qū)的區(qū)域形成所述AMOLED屏幕的第一非有效蒸鍍區(qū)。通常AMOLED屏幕的玻璃基板除了在有源區(qū)之間間隔設(shè)置非有效蒸鍍區(qū)，非有效蒸鍍區(qū)用以給后續(xù)的布線操作提供空間。

如圖5所示，繼續(xù)以兩層蒸鍍遮罩裝置為例，分別包括第一層蒸鍍遮罩101和第二層蒸鍍遮罩102，第一層蒸鍍遮罩101與第二層蒸鍍遮罩102于垂直方向相互錯(cuò)開，以使第一層蒸鍍遮罩101部分覆蓋第二層蒸鍍遮罩102，第一層蒸鍍遮罩101的閉合區(qū)1011覆蓋于第二層蒸鍍遮罩102的開口區(qū)1020上的區(qū)域形成AMOLED屏幕的非有效蒸鍍區(qū)。

作為進(jìn)一步優(yōu)選實(shí)施方案，上述的蒸鍍遮罩裝置，其中，AMOLED 屏幕有源區(qū)的長度為AMOLED屏幕非有效蒸鍍區(qū)的長度的整數(shù)倍。采用此種設(shè)計(jì)方式，方便遮罩排列形成蒸鍍罩。

作為進(jìn)一步優(yōu)選實(shí)施方案，上述的蒸鍍遮罩裝置，其中，第二層蒸鍍遮罩與第一層蒸鍍遮罩相對(duì)錯(cuò)開的間距形成AMOLED屏幕非有效蒸鍍區(qū)域。將第二層蒸鍍遮罩與第一層蒸鍍遮罩相對(duì)錯(cuò)開排列，在垂直方向的頂端和底端設(shè)置非有效蒸鍍區(qū)，增加非有效蒸鍍區(qū)面積。非有效蒸鍍區(qū)除了用以布線之外，還可根據(jù)時(shí)間情況設(shè)置為其它用途。

如圖6所示，本發(fā)明同時(shí)提供一種蒸鍍工藝，其中，所述蒸鍍工藝包括：

提供一玻璃基板，所述玻璃基板上包括蒸鍍區(qū)和非蒸鍍區(qū)；

將至少兩個(gè)所述蒸鍍遮罩進(jìn)行鄰接或部分疊置形成所述蒸鍍遮罩裝置，以使得所述蒸鍍遮罩裝置上的開口對(duì)應(yīng)于所述玻璃基板上的蒸鍍區(qū)；以及

利用所述蒸鍍遮罩裝置對(duì)所述玻璃基板進(jìn)行蒸鍍工藝，以于所述玻璃基板上的所述蒸鍍區(qū)中形成蒸鍍薄膜。

此處的工作原理已詳述，此處不再贅述。

本申請(qǐng)中的遮罩或蒸鍍罩，既可以應(yīng)用于水平蒸鍍，也可以應(yīng)用于垂直蒸鍍。同時(shí)本申請(qǐng)中的長度均表示水平方向的距離。

以上上述僅為本發(fā)明較佳的實(shí)施例，并非因此限制本發(fā)明的實(shí)施方式及保護(hù)范圍，對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言，應(yīng)當(dāng)能夠意識(shí)到凡運(yùn)用本發(fā)明說明書及圖示內(nèi)容所作出的等同替換和顯而易見的變化所得到的方案，均應(yīng)當(dāng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。