本發(fā)明涉及汽車B柱制造領(lǐng)域,特別涉及一種汽車B柱裁邊沖孔模具。
背景技術(shù):
隨著轎車工業(yè)的迅猛發(fā)展,特別是家用小型汽車市場擴大的迫切需要,各廠要求提高產(chǎn)品的生產(chǎn)效率。
由于汽車B柱內(nèi)板形狀復(fù)雜,成形難度大。對于沖孔,通常采用共個工位來進行,每一工位分別對不同邊進行處理,費時費力。
技術(shù)實現(xiàn)要素:
本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是提供一種一次性沖孔的汽車B柱裁邊沖孔模具。
為解決上述問題,本發(fā)明提供一種汽車B柱裁邊沖孔模具,所述汽車B柱裁邊沖孔模具包括下模、上模、壓料模、下鑲模塊、上鑲模塊和沖壓沖孔模塊,所述壓料模、沖壓沖孔模塊和上鑲模塊均固定在所述上模上,所述下鑲模塊固定在所述下模上;所述下鑲模塊包括第一下鑲塊和兩個第二至第四下鑲塊,第一下鑲塊的兩端與第二下鑲塊連接,所述兩個第二至第四下鑲塊以第一下鑲塊為中心依次對稱設(shè)置。
進一步的,所述下模固定凸臺,所述固定凸臺用于固定下鑲模塊。
進一步的,所述下模設(shè)有導料槽。
進一步的,所述上模設(shè)有容納槽,所述容納槽內(nèi)設(shè)有固定柱,所述壓料模設(shè)在容納槽內(nèi),所述固定柱穿過壓料模與上鑲模塊和沖壓沖孔模塊固定。
進一步的,所述沖壓沖孔模塊包括兩個第一沖壓塊、兩個第二沖壓塊和四個沖孔柱,所述兩個第一沖壓塊、兩個第二沖壓塊和四個沖孔柱均固定在上模上。
進一步的,所述壓料模上設(shè)有與下模鑲塊配合的沖壓槽。
進一步的,所述下模的兩端設(shè)有定位缺口。
進一步的,所述上模設(shè)有兩個定位凸起部。
本發(fā)明汽車B柱裁邊沖孔模具設(shè)有壓料模、沖壓沖孔模塊、上鑲模塊、下鑲模塊、上模和下模,使用時上模帶動壓料模擠壓放置在下鑲模塊上的工件,在沖壓沖孔模塊、上鑲模塊和下鑲模塊作用下,一步完成所有沖孔和沖槽的工序,省時省力,提高了生產(chǎn)效率。
附圖說明
圖1是本發(fā)明汽車B柱裁邊沖孔模具的較佳實施方式的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2是上模和上鑲模塊的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖3是下模和下鑲模塊的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖4是壓料模的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
下面結(jié)合附圖對本發(fā)明作進一步說明。
如圖1至圖4所示,本發(fā)明汽車B柱裁邊沖孔模具的較佳實施方式包括下模2、上模1、壓料模3、下鑲模塊、上鑲模塊和沖壓沖孔模塊,所述壓料模3、沖壓沖孔模塊和上鑲模塊均固定在所述上模1上,所述下鑲模塊固定在所述下模2上。
所述下鑲模塊包括第一下鑲塊41和兩個第二至第四下鑲塊42、43、44,第一下鑲塊41的兩端與第二下鑲塊連接,所述兩個第二至第四下鑲塊42、43、44以第一下鑲塊41為中心依次對稱設(shè)置。所述第一下鑲塊41和兩個第二至第四下鑲塊42、43、44均設(shè)有穿孔。
所述下模2設(shè)有固定凸臺和多個導料槽21,所述固定凸臺用于固定下鑲模塊,固定凸臺上設(shè)有廢料通道(圖未示出),廢料通道與導料槽21連通。所述下模2的兩端設(shè)有定位缺口22,用于定位上模1。所述第一下鑲塊41和兩個第二至第四下鑲塊42、43、44均設(shè)有穿孔,沖壓過后廢料穿孔進入廢料通都,再廢料通道進入導料槽21,如此便于收集廢料。
所述上模1設(shè)有容納槽,所述容納槽內(nèi)設(shè)有多個固定柱11,所述壓料模3設(shè)在容納槽內(nèi),所述固定柱11穿過壓料模3與上鑲模塊和沖壓沖孔模塊固定。所述上模1設(shè)有兩個定位凸起部12。
所述沖壓沖孔模塊包括兩個第一沖壓塊51、兩個第二沖壓塊52和四個沖孔柱,所述兩個第一沖壓塊51、兩個第二沖壓塊52和四個沖孔柱53分別固定在上模1的固定柱11上,且兩個第一沖壓塊51對稱設(shè)置,所述兩個第二沖壓塊52對稱設(shè)置,所述四個沖孔柱53對稱設(shè)置。
所述上鑲模塊包括第一至第三上鑲塊61、62、63,所述第一至第三上鑲塊61、62、63分別固定在固定柱11上.
所述壓料模3上設(shè)有與下模2鑲塊配合的沖壓槽31,且在沖壓槽31內(nèi)設(shè)有多個沖壓孔,用以第一沖壓塊51、第二沖壓孔和沖孔柱穿插。
使用時上模1帶動壓料模3擠壓放置在下鑲模塊上的工件,在沖壓沖孔模塊、上鑲模塊和下鑲模塊作用下,一步完成所有沖孔和沖槽的工序,省時省力,提高了生產(chǎn)效率。
以上僅為本發(fā)明的實施方式,并非因此限制本發(fā)明的專利范圍,凡是利用本發(fā)明說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu),直接或間接運用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域,均同理在本發(fā)明的專利保護范圍之內(nèi)。