a。
[0149]接下來，通過經(jīng)由連通槽20將波紋管17的內(nèi)部抽真空，從而使波紋管17的上端17a吸附固定于基板3的下表面3a。進(jìn)一步將波紋管17的內(nèi)部抽真空后，如圖7所示，波紋管17收縮，該波紋管17所吸附固定的基板3也下降。由于下降了的基板3被按壓于多個(gè)支承部件19的支承面19a，所以，能夠使基板3具有與這些多個(gè)支承面19a的位置關(guān)系對應(yīng)的曲率。在本實(shí)施方式中，由于多個(gè)支承面19a位于同一平面上，所以，基板3的曲率變?yōu)榱?，能夠使基?為平面狀。
[0150]接下來，如圖8所示，利用驅(qū)動機(jī)構(gòu)21使支承部件19下降，以便使支承面19a與工件夾具10的上表面11位于同一平面上，使基板3的下表面3a與工件夾具10的上表面11緊貼。
[0151]然后，通過將多個(gè)真空槽13 (凹槽真空槽14)抽真空，從而將緊貼在多個(gè)支承面19a及上表面11上的基板3的下表面3a吸附固定于工件夾具10的上表面11。這樣，在使基板3呈平面狀地可靠地吸附固定于工件夾具10的上表面11之后，通過將來自曝光用光源的光隔著掩模照射到基板3，從而進(jìn)行曝光。
[0152]如以上說明的那樣，根據(jù)本實(shí)施方式的曝光裝置1，也能夠取得與第I實(shí)施方式同樣的效果。
[0153]另外，在本實(shí)施方式中，由于多個(gè)支承部件19分別能夠在支承波紋管17的同時(shí)在上下方向升降，所以，能夠?qū)?yīng)變形大的基板3。S卩，在將基板3載置到多個(gè)紋管17上時(shí)，通過預(yù)先將各個(gè)支承部件19的支承面19a的高度變更為與基板3的變形對應(yīng)的高度，從而能夠?qū)?yīng)變形大的基板3。
[0154]另外，與第I實(shí)施方式同樣，在本實(shí)施方式中也可以不一定設(shè)置真空槽13，在該情況下，也能夠通過將波紋管17的內(nèi)部抽真空，從而使波紋管17的上端17a吸附于基板3的下表面3a并且收縮，將基板3按壓于支承部件19的支承面19a及工件夾具10的上表面
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[0155](第3實(shí)施方式)
[0156]接下來，說明本發(fā)明的第3實(shí)施方式的曝光裝置I。如圖9所示，本實(shí)施方式的曝光裝置I與第2實(shí)施方式的曝光裝置I (參照圖5。)的不同點(diǎn)在于，在工件夾具10未形成真空槽13(凹槽真空槽14)。另外，在圖9中，示出了以中心部朝向上方凸的方式翹曲的基板3。
[0157]在這樣構(gòu)成的曝光裝置I中，使用以下那樣的曝光方法。首先，如圖9所示，通過利用多個(gè)驅(qū)動機(jī)構(gòu)21使多個(gè)支承部件19上升，從而使支承面19a在比工件夾具10的上表面11靠上方處互相位于大致同一平面上。
[0158]然后，將基板3配置到多個(gè)波紋管17上。此時(shí)，波紋管17對應(yīng)著基板3的形狀而伸縮，波紋管17的上端17a緊貼于基板3的下表面3a。
[0159]接下來，通過經(jīng)由連通槽20將波紋管17的內(nèi)部抽真空，從而使波紋管17的上端17a吸附固定于基板3的下表面3a。進(jìn)一步將波紋管17的內(nèi)部抽真空后，如圖10所示，波紋管17收縮，該波紋管17所吸附固定的基板3也下降。由于下降了的基板3被按壓于多個(gè)支承部件19的支承面19a，所以，能夠使基板3具有與這些多個(gè)支承面19a的位置關(guān)系對應(yīng)的曲率。在本實(shí)施方式中，由于多個(gè)支承面19a位于同一平面上，所以，基板3的曲率變?yōu)榱?，能夠使基?為平面狀。
[0160]此處，也可以設(shè)置對從工件夾具10的上表面11到基板3的下表面3a的距離進(jìn)行測量的傳感器(未圖示)。在此情況下，也可以基于由該傳感器得到的基板3的位置信息，利用多個(gè)驅(qū)動機(jī)構(gòu)21使多個(gè)支承部件19升降，使基板3為平面狀。由于具有這樣校正多個(gè)支承部件19的位置的工序，從而能夠可靠地使基板3為平面狀。
[0161]這樣，在使基板3為平面狀、并使基板3的上表面與掩模5的下表面之間的上下方向距離L均勻之后，通過將來自曝光用光源的光隔著掩模照射到基板3，從而進(jìn)行曝光。
[0162]如以上說明的那樣，根據(jù)本實(shí)施方式的曝光裝置1，即使不在工件夾具10上形成真空槽13(凹槽真空槽14)，也能夠精度良好地進(jìn)行曝光，能夠使裝置的制作成本減少。另夕卜，即使在工件夾具10的上表面11的平面度的精度不良的情況下，也能夠?qū)?yīng)。其他的構(gòu)成及效果與上述的實(shí)施方式同樣。
[0163](第4實(shí)施方式)
[0164]接下來，說明本發(fā)明的第4實(shí)施方式的曝光裝置I。如圖11所示，本實(shí)施方式的曝光裝置I的基本構(gòu)成與第3實(shí)施方式相同。以下，說明在這樣的曝光裝置I中用于對應(yīng)不是平坦的翹曲的掩模5的曝光方法。在圖11示出了以中心部朝向下方凸的方式翹曲的掩模5。
[0165]首先，通過利用多個(gè)驅(qū)動機(jī)構(gòu)21使多個(gè)支承部件19上升，使支承面19a在比工件夾具10的上表面11靠上方處對應(yīng)著掩模5的形狀、位于使得各個(gè)支承面19a與掩模5的下表面的上下方向距離M大致相同的位置。S卩，與位于中心的支承面19a相比，使位于四角的支承面19a位于上方。
[0166]然后，將基板3配置在多個(gè)波紋管17上。此時(shí)，波紋管17對應(yīng)著基板3的形狀而伸縮，所有的波紋管17的上端17a緊貼于基板3的下表面3a。
[0167]接下來，通過經(jīng)由連通槽20將波紋管17的內(nèi)部抽真空，從而使波紋管17的上端17a吸附固定于基板3的下表面。進(jìn)一步將波紋管17的內(nèi)部抽真空后，如圖11所示，波紋管17收縮，該波紋管17所吸附固定的基板3也下降。由于下降了的基板3被按壓于多個(gè)支承部件19的支承面19a，所以，能夠使基板3具有與這些多個(gè)支承面19a的位置關(guān)系對應(yīng)的曲率。S卩，能夠使基板3為以中心部朝向下方凸的方式翹曲的形狀。
[0168]這樣，在使基板3的上表面與掩模5的下表面之間的上下方向距離L均勻之后，通過將來自曝光用光源的光隔著掩模照射到基板3，從而進(jìn)行曝光。
[0169]此外，與第3實(shí)施方式同樣，也可以設(shè)置用于對從工件夾具10的上表面11到基板3的下表面3a的上下方向距離進(jìn)行測量的傳感器(未圖示)。在此情況下，也可以基于利用該傳感器得到的基板3的位置信息，使多個(gè)支承部件19升降，使得基板3的上表面與掩模5的下表面之間的上下方向距離L變得均勻。
[0170]如以上說明的那樣，根據(jù)本實(shí)施方式的曝光裝置1，即使在使用不是平坦的翹曲的掩模5的情況下，也能夠精度良好地進(jìn)行曝光。其他的構(gòu)成及效果與上述的實(shí)施方式同樣。
[0171](第5實(shí)施方式)
[0172]接下來，說明本發(fā)明的第5實(shí)施方式的曝光裝置I。如圖12所示，本實(shí)施方式的曝光裝置I的基本構(gòu)成與第3及第4實(shí)施方式相同。在這樣的曝光裝置I中，說明使基板3局部翹曲的方法。本實(shí)施方式的曝光裝置I對于在曝光前具有局部變形的基板3是適合的，能夠在校正該基板3的變形之后進(jìn)行曝光。
[0173]首先，通過利用多個(gè)驅(qū)動機(jī)構(gòu)21使多個(gè)支承部件19上升，使支承面19a在比工件夾具10的上表面11靠上方處互相位于同一平面上。進(jìn)而，使多個(gè)支承部件19之中的至少一個(gè)(在圖12中，右側(cè)的支承部件19)上升。
[0174]然后，將基板3配置在多個(gè)波紋管17上。此時(shí)，波紋管17對應(yīng)著基板3的形狀而伸縮，所有的波紋管17的上端17a緊貼于基板3的下表面3a。
[0175]接下來，通過經(jīng)由連通槽20將波紋管17的內(nèi)部抽真空，從而使波紋管17的上端17a吸附固定于基板3的下表面3a。進(jìn)一步將波紋管17的內(nèi)部抽真空后，如圖12所示，波紋管17收縮，該波紋管17所吸附固定的基板3也下降。下降了的基板3被按壓于多個(gè)支承部件19的支承面19a。此時(shí)，通過在與具有局部變形的基板3相對應(yīng)的位置改變支承部件19的支承面19a的高度，從而能夠使基板3具有期望的曲率。即，使基板3局部翹曲，使基板3為圖12中的右側(cè)端部向上方彎曲的形狀。
[0176]這樣，在使基板3局部翹曲之后，通過將來自曝光用光源的光隔著掩模照射到基板3，從而進(jìn)行曝光。
[0177]如以上說明的那樣，根據(jù)本實(shí)施方式的曝光裝置1，能夠校正基板3的局部的變形。其他的構(gòu)成及效果與上述的實(shí)施方式同樣。
[0178]此外，在本實(shí)施方式中，使多個(gè)支承部件19之中的至少一個(gè)上升來使基板3局部翹曲，但是，不言而喻，也可以使至少一個(gè)支承部件19下降。
[0179](第6實(shí)施方式)
[0180]接下來，說明本發(fā)明的第6實(shí)施方式的曝光裝置I。此外，本實(shí)施方式的曝光裝置與上述的實(shí)施方式的基本構(gòu)成相同，因此，對于不同的部分進(jìn)行詳細(xì)記述，對于相同的部分，標(biāo)注相同的附圖標(biāo)記并且省略說明。
[0181]如圖13所示，本實(shí)施方式的曝光裝置I的工件夾具10從上方觀察為大致正方形狀。在工件夾具10的四個(gè)方向的角部、中心、及各邊的中點(diǎn)這9個(gè)部位形成有從上方觀察為大致圓形的凹槽15。除了凹槽15的形狀及個(gè)數(shù)、下述的壁部30及真空槽13之外，本實(shí)施方式的構(gòu)成與上述的實(shí)施方式中的構(gòu)成同樣。此外，從上方觀察的工件夾具10的形狀不限定于圖13所示那樣的大致正方形狀，能夠做成為任意的形狀。另外，從上方觀察的凹槽15的形狀不限定于圖13所示那樣的大致圓形，能夠做成為任意的形狀。
[0182]在本實(shí)施方式中，工件夾具10的上部由壁部30構(gòu)成，該壁部30由第I?第5壁部31?35構(gòu)成。第I壁部31從上方觀察為大致圓形，在其內(nèi)部形成凹槽15。因此，第I壁部31與凹槽15的數(shù)量同為9個(gè)。第2壁部32將相鄰的第I壁部31彼此連結(jié)，設(shè)置有12個(gè)。并且，由4個(gè)第I壁部31、和將這4個(gè)第I壁部31彼此連結(jié)的4個(gè)第2壁部32形成大致正方形狀的4個(gè)區(qū)域SI?S4。
[0183]在各個(gè)區(qū)域SI?S4中，形成有第3?第5壁部33?35。第3壁部33為沿著4個(gè)第I及第2壁部31、32的內(nèi)周面的中空形狀。第4壁部34形成在第3壁部33的內(nèi)部，為沿著第3壁部33的內(nèi)周面的中空形狀。第5壁部35形成在第4壁部34的內(nèi)部，為沿著第4壁部34的內(nèi)周面的中空形狀。這樣，