技術(shù)編號：9374327
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及曝光方法和曝光裝置。背景技術(shù)以往，作為曝光裝置，已知的曝光裝置包括基座，被曝光的基板被配置在該基座的上方；及曝光用光源，其將光隔著掩模照射到基板。在這樣的曝光裝置中，在掩模上形成有預(yù)定的圖案。并且，通過將光隔著該掩模照射到基板，從而將圖案轉(zhuǎn)印到基板。此處，基板并非一定是平坦的，尤其是在作業(yè)工序已經(jīng)進(jìn)展的基板，發(fā)生變形的情況多。在這樣基板不平坦的情況下，不能使基板適當(dāng)?shù)匚接诨?例如工件夾具)，曝光精度有可能惡化。因此，如圖15所示，在專利文獻(xiàn)I...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。