出，
[0080]在所述凹槽的內(nèi)部，在所述波紋管的內(nèi)部或外部設置有具有支承面的支承部件，所述支承面與所述基座的上表面位于同一面上、或位于比該上表面靠上方的位置，
[0081]所述波紋管的內(nèi)部能夠抽真空。
[0082](15)如(14)所述的曝光裝置，其特征在于，
[0083]所述基座是在所述上表面形成有能夠抽真空的多個真空槽的工件夾具。
[0084](16)如(14)或(15)所述的曝光裝置，其特征在于，
[0085]多個所述支承部件分別能夠在保持所述波紋管的同時在上下方向升降。
[0086](17)如(15)所述的曝光裝置，其特征在于，
[0087]多個所述真空槽的合計面積比所述工件夾具的上表面的面積大。
[0088](18)如(17)所述的曝光裝置，其特征在于，在所述真空槽的底部形成有具有與所述真空槽的深度大致相同的高度的多個突起。
[0089]發(fā)明效果
[0090]根據(jù)本發(fā)明的曝光方法和曝光裝置，通過將波紋管的內(nèi)部抽真空，從而使波紋管的上端吸附于基板的下表面并且收縮，通過將所述基板按壓于支承部件的支承面，從而能夠使基板具有與多個支承面的位置關系對應的曲率。另外，即使不使掩模與基板像現(xiàn)有技術文獻那樣接觸，也能夠使基板具有期望的曲率，因此，能夠抑制在掩模及基板上發(fā)生損傷。
【附圖說明】
[0091]圖1是圖2的I — I剖視向視圖。
[0092]圖2是第I實施方式的曝光裝置的剖視圖。
[0093]圖3是第I實施方式的曝光裝置的剖視圖。
[0094]圖4是第I實施方式的曝光裝置的剖視圖。
[0095]圖5是第2實施方式的曝光裝置的剖視圖。
[0096]圖6是第2實施方式的曝光裝置的剖視圖。
[0097]圖7是第2實施方式的曝光裝置的剖視圖。
[0098]圖8是第2實施方式的曝光裝置的剖視圖。
[0099]圖9是第3實施方式的曝光裝置的剖視圖。
[0100]圖10是第3實施方式的曝光裝置的剖視圖。
[0101]圖11是第4實施方式的曝光裝置的剖視圖。
[0102]圖12是第5實施方式的曝光裝置的剖視圖。
[0103]圖13是第6實施方式的曝光裝置的俯視圖。
[0104]圖14(a)是第7實施方式的曝光裝置的俯視圖，(b)是(a)的XIV — XIV剖視圖。
[0105]圖15(A)?(D)是示出專利文獻I的基板曝光裝置的曝光步驟的圖。
[0106]圖16是示出專利文獻2的曝光裝置的剖視圖。
[0107]附圖標記說明
[0108]I 曝光裝置
[0109]3 基板
[0110]3a 下表面
[0111]5 掩模
[0112]10 工件夾具(基座)
[0113]11 上表面
[0114]13 真空槽
[0115]14 凹槽真空槽
[0116]15 凹槽
[0117]17 波紋管
[0118]17a 上端
[0119]19 支承部件
[0120]19a支承面
[0121]20 連通槽
[0122]21 驅(qū)動機構
[0123]30 壁部
[0124]31 第I壁部
[0125]32 第2壁部
[0126]33 第3壁部
[0127]34 第4壁部
[0128]35 第5壁部
[0129]114 突起
【具體實施方式】
[0130]以下，使用【附圖說明】本發(fā)明的實施方式的曝光裝置和曝光方法。
[0131](第I實施方式)
[0132]如圖1及圖2所示，本實施方式的曝光裝置I包括:工件夾具10(基座)，被曝光的基板3被配置在該工件夾具10的上方；及曝光用光源(未圖示)，其將光隔著掩模(未圖示)照射到基板3。此外，在圖2中示出了以中心部朝向下方凸出的方式翹曲的基板3，但是，本實施方式的曝光裝置I能夠應用于任意的形狀的基板3，例如，基板3也可以是以中心部朝向上方凸出的方式翹曲的形狀。
[0133]工件夾具10的上表面11的從上方觀察的截面是大致正方形狀。在上表面11的四個方向的角部及中心部這五處，形成有從上方觀察的截面為大致正方形狀的凹槽15。此夕卜，工件夾具10的上表面11、凹槽15的截面形狀不限定于圖1所示那樣的大致正方形狀，能夠做成為任意的形狀，例如，也可以做成為圓形、矩形。
[0134]在凹槽15的內(nèi)部的大致中心配置有在上下方向伸縮自由的中空的波紋管17。在自由長度時，波紋管17的上端17a比工件夾具10的上表面11向上方突出。另外，在凹槽15的內(nèi)部，在波紋管17的內(nèi)部設置有支承部件19，該支承部件19具有能夠?qū)⒒?支承在上方的支承面19a。本實施方式的支承部件19是從凹槽15的底面向上方延伸的棒狀部件，與工件夾具10 —體地形成。支承部件19的支承面19a與工件夾具10的上表面11位于同一面上。另外，在支承部件19的支承面19a設置有與未圖示的真空裝置連通的連通槽20，能夠?qū)⒉y管17的內(nèi)部抽真空。
[0135]在工件夾具10的上表面11形成有與未圖示的真空裝置連通并能夠抽真空的多個真空槽13。多個真空槽13在上表面11的周緣部及凹槽15彼此之間以網(wǎng)眼狀配置。另外，真空槽13在工件夾具10的內(nèi)部具有與凹槽15連通的凹槽真空槽14。此外，并非必須設置凹槽真空槽14，在不設置凹槽真空槽14的情況下，只要做成凹槽15能夠獨立抽真空的構成即可。
[0136]在這樣構成的曝光裝置I中，使用以下那樣的曝光方法。首先，如圖3所示，將基板3配置在多個波紋管17上。此時，波紋管17根據(jù)基板3的形狀而伸縮，所有的波紋管17的上端17a緊貼于基板3的下表面3a。
[0137]接下來，通過經(jīng)由連通槽20將波紋管17的內(nèi)部抽真空，從而使波紋管17的上端17a吸附固定于基板3的下表面3a。進一步將波紋管17的內(nèi)部抽真空后，如圖4所示，波紋管17收縮(下降)，該波紋管17所吸附固定的基板3也下降。由于下降了的基板3被按壓于多個支承部件19的支承面19a及工件夾具10的上表面11，所以，能夠使基板3具有與這些多個支承面19a及上表面11的位置關系對應的曲率。在本實施方式中，由于多個支承面19a及上表面11位于同一平面上，所以，基板3的曲率為零，能夠?qū)⒒?呈平面狀地固定。
[0138]然后，通過將多個真空槽13 (凹槽真空槽14)抽真空，從而將緊貼于多個支承面19a及上表面11的基板3的下表面3a吸附固定于工件夾具10的上表面11。這樣，在使基板3為平面狀、并可靠地吸附固定于工件夾具10的上表面11之后，通過將來自曝光用光源的光隔著掩模照射到基板3，從而進行曝光。
[0139]如以上說明的那樣，根據(jù)本實施方式的曝光裝置1，能夠通過將波紋管17的內(nèi)部抽真空，從而使波紋管17的上端17a吸附于基板3的下表面3a并且收縮，并通過將基板3按壓于支承部件19的支承面19a，從而使基板具有與多個支承面19a的位置關系對應的曲率。另外，即使不使掩模與基板3像現(xiàn)有技術文獻那樣接觸也能使基板3具有期望的曲率，因此，能夠抑制在掩模及基板3上發(fā)生損傷。
[0140]特別是，支承部件19的支承面19a通過將波紋管17的內(nèi)部抽真空從而使波紋管17的上端17a吸附于基板3的下表面3a并且收縮，通過將基板3按壓支承部件19的支承面19a，從而能夠?qū)⒒?呈平面狀地固定。
[0141]而且，通過將設置在工件夾具10上的多個真空槽13抽真空，從而能夠?qū)⒒?的下表面3a可靠地吸附固定于工件夾具10的上表面11，在使基板3與掩模的距離均勻之后，精度良好地進行曝光。
[0142]此外，經(jīng)由連通槽20進行的波紋管17的內(nèi)部的抽真空、及真空槽13 (凹槽真空槽14)的抽真空不一定需要以此順序進行，也可也同時進行。另外，凹槽15、波紋管17、及支承部件19等的位置及數(shù)量沒有限定，只要考慮基板3的剛性等來適當設定即可。另外，配置支承部件19的位置只要是凹槽15的內(nèi)部，也不一定限于波紋管17的內(nèi)部，也可以是波紋管17的外部。
[0143]另外，在上述的實施方式中，是在工件夾具10上形成有多個真空槽13的構成，但是，本發(fā)明不限定于該構成，也可以不設置真空槽13。在該情況下，也能夠通過將波紋管17的內(nèi)部抽真空，從而使波紋管17的上端17a吸附于基板3的下表面3a并且收縮，并將基板3按壓于支承部件19的支承面19a及工件夾具10的上表面11。
[0144](第2實施方式)
[0145]接下來，說明本發(fā)明的第2實施方式的曝光裝置I。此外，由于本實施方式的曝光裝置I將基本的構成做成為與第I實施方式相同，所以對于不同的部分進行詳細記述，對于相同的部分，標注相同的附圖標記并省略說明。
[0146]如圖5所示，本實施方式的多個支承部件19與工件夾具10相互獨立，多個支承部件19分別能夠在支承波紋管17的同時在上下方向升降。在各個支承部件19的下部連結有驅(qū)動機構21，利用該驅(qū)動機構21，在上下方向驅(qū)動支承部件19。作為驅(qū)動機構21，例示例如滾珠絲杠、直線馬達、氣缸等。
[0147]在這樣構成的曝光裝置I中，使用以下那樣的曝光方法。首先，如圖5所示，通過利用多個驅(qū)動機構21使多個支承部件19上升，從而使支承面19a在比工件夾具10的上表面11靠上方處互相位于大致同一平面上。
[0148]然后，如圖6所示，將基板3配置在多個波紋管17上。此時，波紋管17對應著基板3的形狀而伸縮，波紋管17的上端17a緊貼于基板3的下表面3