本實(shí)用新型涉及光刻技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種工件臺(tái)非正交校正裝置。

背景技術(shù)：

投影掃描式TFT(Thin Film Transistor，薄膜晶體管)光刻機(jī)是用于將掩模上圖形清晰、正確地成像在涂有光刻膠的基板上，隨著基板尺寸的增大，需要采用更大的平面鏡作為工件臺(tái)干涉儀測(cè)量反射鏡，因此方鏡的面型變化便成了制約TP(Total Pitch)精度的主要因素。

當(dāng)鏡子面型變化不大時(shí)，通常離線周期性標(biāo)定即可，但是當(dāng)面型受熱形變較大時(shí)，離線標(biāo)定周期已經(jīng)無(wú)法滿足需要。此外，鏡子的旋轉(zhuǎn)姿態(tài)變化還會(huì)對(duì)非正交性有所影響，使基板曝光的標(biāo)記出現(xiàn)非正交的情況。

如圖1所示為工件臺(tái)上平面鏡示意圖，其中包括：工件臺(tái)X向反射鏡10、工件臺(tái)微動(dòng)模塊20和干涉儀支架30。通過(guò)監(jiān)測(cè)干涉儀光程的變化來(lái)測(cè)量及控制工件臺(tái)的X向移動(dòng)量。理想情況下，工件臺(tái)沿著Y向運(yùn)動(dòng)時(shí)，對(duì)X向沒(méi)有串?dāng)_，但是為了保證沿著Y向運(yùn)動(dòng)時(shí)，X向測(cè)量值不變，即光程不變，當(dāng)工件臺(tái)X向反射鏡10存在面型時(shí)，為了保證光程不變，工件臺(tái)需要進(jìn)行X方向運(yùn)動(dòng)以補(bǔ)償影響，此時(shí)工件臺(tái)測(cè)量坐標(biāo)系非理想的坐標(biāo)系，而是彎曲的坐標(biāo)系，不能滿足整機(jī)需求。為了使工件臺(tái)坐標(biāo)系為理想的坐標(biāo)系，我們需要周期性進(jìn)行標(biāo)定鏡子面型，但是如果鏡子的加工材料受熱影響變化嚴(yán)重，當(dāng)量產(chǎn)時(shí)，離線標(biāo)定頻率已經(jīng)遠(yuǎn)不及鏡子變化頻率，因此需要在線測(cè)量其影響?，F(xiàn)有的鏡子高階面型標(biāo)定方法通常采用步進(jìn)運(yùn)動(dòng)工件臺(tái)來(lái)實(shí)現(xiàn)，即在測(cè)試時(shí)工件臺(tái)需要停下來(lái)，這樣做的缺點(diǎn)是標(biāo)定時(shí)間較長(zhǎng)，效率低。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型提供了一種工件臺(tái)非正交校正裝置，以解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的問(wèn)題。

為了解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型的技術(shù)方案是：一種工件臺(tái)非正交裝置，包括：

非正交測(cè)量標(biāo)記，設(shè)置在工件臺(tái)上用于承載基板的粗動(dòng)旋轉(zhuǎn)臺(tái)上，所述非正交測(cè)量標(biāo)記至少設(shè)有三個(gè)，且不在一條直線上；

視覺(jué)單元，用于獲得所述非正交測(cè)量標(biāo)記的位置；

干涉儀測(cè)量單元，用于測(cè)量所述工件臺(tái)的位置；

還包括校正單元，根據(jù)所述非正交測(cè)量標(biāo)記在粗動(dòng)旋轉(zhuǎn)臺(tái)坐標(biāo)系下的名義位置、所述視覺(jué)單元獲得的所述非正交測(cè)量標(biāo)記的位置以及所述工件臺(tái)的位置計(jì)算所述工件臺(tái)的非正交量，并發(fā)送至所述干涉儀測(cè)量單元進(jìn)行補(bǔ)償校正。

進(jìn)一步的，所述粗動(dòng)旋轉(zhuǎn)臺(tái)上設(shè)有三個(gè)反射鏡，每個(gè)反射鏡上設(shè)有至少一個(gè)所述非正交測(cè)量標(biāo)記。

本實(shí)用新型還提供一種工件臺(tái)非正交校正方法，包括以下步驟：

S1：在工件臺(tái)上用于承載基板的粗動(dòng)旋轉(zhuǎn)臺(tái)上設(shè)置非正交測(cè)量標(biāo)記，所述非正交測(cè)量標(biāo)記至少設(shè)有三個(gè)，且不在一條直線上；

S2：選取三個(gè)非正交測(cè)量標(biāo)記，移動(dòng)工件臺(tái)，使視覺(jué)單元分別對(duì)準(zhǔn)三個(gè)所述非正交測(cè)量標(biāo)記，獲得三個(gè)所述非正交測(cè)量標(biāo)記的位置，同時(shí)通過(guò)干涉儀測(cè)量單元測(cè)量對(duì)準(zhǔn)時(shí)所述工件臺(tái)的位置x_s_i、y_s_i，其中i＝1,2,3；

S3：根據(jù)所述視覺(jué)單元測(cè)得的三個(gè)所述非正交測(cè)量標(biāo)記的位置及所述視覺(jué)單元在整機(jī)零位坐標(biāo)系下的位置，計(jì)算三個(gè)所述非正交測(cè)量標(biāo)記在整機(jī)零位坐標(biāo)系下的位置x_PZCS_i、y_PZCS_i，并結(jié)合所述工件臺(tái)的位置x_s_i、y_s_i計(jì)算三個(gè)所述非正交測(cè)量標(biāo)記在工件臺(tái)坐標(biāo)系下的測(cè)量位置x_PSCS_i、y_PSCS_i：

S4：根據(jù)三個(gè)所述非正交測(cè)量標(biāo)記在工件臺(tái)坐標(biāo)系下的測(cè)量位置x_PSCS_i、y_PSCS_i和在所述粗動(dòng)旋轉(zhuǎn)臺(tái)坐標(biāo)系下的名義位置x_PTCS_i，y_PTCS_i計(jì)算所述工件臺(tái)的非正交量Non_ortho：

Non_ortho＝rpux-rpuy；

cpux、cpuy表示三個(gè)所述非正交測(cè)量標(biāo)記相對(duì)于工件臺(tái)的平移量；

rpux、rpuy表示三個(gè)所述非正交測(cè)量標(biāo)記相對(duì)于工件臺(tái)在X、Y向的旋轉(zhuǎn)量；

Mpux表示三個(gè)所述非正交測(cè)量標(biāo)記相對(duì)于工件臺(tái)在X、Y方向的膨脹量；

S5：將測(cè)量得到的工件臺(tái)的非正交量相對(duì)預(yù)設(shè)的標(biāo)準(zhǔn)基板的非正交量的變化值作為補(bǔ)償量，并補(bǔ)償?shù)剿龈缮鎯x測(cè)量單元中。

進(jìn)一步的，在所述粗動(dòng)旋轉(zhuǎn)臺(tái)上設(shè)置三個(gè)反射鏡，每個(gè)反射鏡上至少設(shè)有一個(gè)所述非正交測(cè)量標(biāo)記。

進(jìn)一步的，所述視覺(jué)單元測(cè)量所述非正交測(cè)量標(biāo)記的同時(shí)測(cè)量所述基板的邊緣線，用于基板預(yù)對(duì)準(zhǔn)。

進(jìn)一步的，步驟S2中采用兩個(gè)視覺(jué)單元同時(shí)測(cè)量三個(gè)所述非正交測(cè)量標(biāo)記中的兩個(gè)非正交測(cè)量標(biāo)記的位置，之后移動(dòng)所述工件臺(tái)，使剩下的一個(gè)非正交測(cè)量標(biāo)記對(duì)準(zhǔn)所述兩個(gè)視覺(jué)單元中的一個(gè)。

本實(shí)用新型提供的工件臺(tái)非正交校正裝置，該裝置包括：非正交測(cè)量標(biāo)記，設(shè)置在工件臺(tái)上用于承載基板的粗動(dòng)旋轉(zhuǎn)臺(tái)上，所述非正交測(cè)量標(biāo)記至少設(shè)有三個(gè)，且不在一條直線上；視覺(jué)單元，用于獲得所述非正交測(cè)量標(biāo)記的位置；干涉儀測(cè)量單元，用于測(cè)量所述工件臺(tái)的位置；還包括校正單元，根據(jù)所述非正交測(cè)量標(biāo)記在粗動(dòng)旋轉(zhuǎn)臺(tái)坐標(biāo)系下的名義位置、所述視覺(jué)單元獲得的所述非正交測(cè)量標(biāo)記的位置以及所述工件臺(tái)的位置計(jì)算所述工件臺(tái)的非正交量，并發(fā)送至所述干涉儀測(cè)量單元進(jìn)行補(bǔ)償校正。通過(guò)視覺(jué)單元對(duì)非正交測(cè)量標(biāo)記的位置進(jìn)行測(cè)量，并根據(jù)至少三個(gè)非正交測(cè)量標(biāo)記的位置計(jì)算工件臺(tái)的非正交量，實(shí)現(xiàn)了對(duì)工件臺(tái)的非正交量的測(cè)量，將測(cè)量得到的工件臺(tái)的非正交量相對(duì)預(yù)設(shè)的標(biāo)準(zhǔn)基板的非正交量的變化值作為補(bǔ)償量，并補(bǔ)償?shù)礁缮鎯x模型中，有效解決了工件臺(tái)面型在曝光過(guò)程中受熱形變對(duì)TP控制精度的影響，從而降低材料的使用成本。而且，本實(shí)用新型工件臺(tái)非正交校正裝置可在所述視覺(jué)單元測(cè)量所述基板的邊緣線進(jìn)行基板預(yù)對(duì)準(zhǔn)的同時(shí)測(cè)量三個(gè)所述非正交測(cè)量標(biāo)記，使得本實(shí)用新型校正方法可在工件臺(tái)在線工作時(shí)進(jìn)行，不僅可解決現(xiàn)有的離線校正方法中離線標(biāo)定頻率遠(yuǎn)不及鏡子變化頻率影響校正精度的技術(shù)問(wèn)題，還能實(shí)現(xiàn)工件臺(tái)在線校正，避免離線校正影響產(chǎn)率的缺陷。

附圖說(shuō)明

圖1是現(xiàn)有技術(shù)中工件臺(tái)上平面鏡示意圖；

圖2是本實(shí)用新型校正裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3是本實(shí)用新型反射鏡的布局示意圖；

圖4是本實(shí)用新型反射鏡和非正交測(cè)量標(biāo)記位置示意圖。

圖1中所示：10、工件臺(tái)X向反射鏡；20、工件臺(tái)微動(dòng)模塊；30、干涉儀支架；

圖2-4中所示：1、投影物鏡；2、工件臺(tái)；3、基板；4、反射鏡；5、視覺(jué)單元；6、非正交測(cè)量標(biāo)記；7、粗動(dòng)旋轉(zhuǎn)臺(tái)；8、視覺(jué)單元。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作詳細(xì)描述：

如圖2-4所示，本實(shí)用新型提供一種工件臺(tái)非正交校正方法，包括以下步驟：

S1：在工件臺(tái)2上用于承載基板3的粗動(dòng)旋轉(zhuǎn)臺(tái)7上設(shè)置非正交測(cè)量標(biāo)記6，所述非正交測(cè)量標(biāo)記6至少設(shè)有三個(gè)，且不在一條直線上，以便對(duì)工件臺(tái)2的面型進(jìn)行在線測(cè)量，本實(shí)施例中，在所述粗動(dòng)旋轉(zhuǎn)臺(tái)7上設(shè)置三個(gè)反射鏡4，將三個(gè)所述非正交測(cè)量標(biāo)記6一一對(duì)應(yīng)地設(shè)置在三個(gè)所述反射鏡4上，視覺(jué)單元5也對(duì)應(yīng)設(shè)有3個(gè)。

S2：選取三個(gè)非正交測(cè)量標(biāo)記6，移動(dòng)工件臺(tái)2，使視覺(jué)單元5分別對(duì)準(zhǔn)三個(gè)所述非正交測(cè)量標(biāo)記6，獲得三個(gè)所述非正交測(cè)量標(biāo)記6的位置，同時(shí)通過(guò)干涉儀測(cè)量單元測(cè)量對(duì)準(zhǔn)時(shí)所述工件臺(tái)2的位置x_s_i、y_s_i，其中i＝1,2,3；具體的，所述視覺(jué)單元5測(cè)量三個(gè)所述非正交測(cè)量標(biāo)記6的同時(shí)測(cè)量所述基板3的邊緣線，用于基板3預(yù)對(duì)準(zhǔn)。此外，還包括采用兩個(gè)視覺(jué)單元5同時(shí)測(cè)量三個(gè)所述非正交測(cè)量標(biāo)記6中的兩個(gè)非正交測(cè)量標(biāo)記6的位置，之后移動(dòng)所述工件臺(tái)2，使剩下的一個(gè)非正交測(cè)量標(biāo)記6對(duì)準(zhǔn)所述兩個(gè)視覺(jué)單元5中的一個(gè)。

S3：根據(jù)所述視覺(jué)單元5測(cè)得的三個(gè)所述非正交測(cè)量標(biāo)記6的位置及所述視覺(jué)單元5在整機(jī)零位坐標(biāo)系下的位置，計(jì)算三個(gè)所述非正交測(cè)量標(biāo)記6在整機(jī)零位坐標(biāo)系下的位置x_PZCS_i、y_PZCS_i，并結(jié)合所述工件臺(tái)2的位置x_s_i、y_s_i計(jì)算三個(gè)所述非正交測(cè)量標(biāo)記6在工件臺(tái)2坐標(biāo)系下的測(cè)量位置x_PSCS_i、y_PSCS_i：

S4：根據(jù)三個(gè)所述非正交測(cè)量標(biāo)記6在工件臺(tái)坐標(biāo)系下的測(cè)量位置x_PSCS_i、y_PSCS_i和在所述粗動(dòng)旋轉(zhuǎn)臺(tái)7坐標(biāo)系下的名義位置x_PTCS_i，y_PTCS_i計(jì)算所述工件臺(tái)2的非正交量Non_ortho：

Non_ortho＝rpux-rpuy；

cpux、cpuy表示三個(gè)所述非正交測(cè)量標(biāo)記相對(duì)于工件臺(tái)的平移量；

rpux、rpuy表示三個(gè)所述非正交測(cè)量標(biāo)記相對(duì)于工件臺(tái)在X、Y向的旋轉(zhuǎn)量；

Mpux表示三個(gè)所述非正交測(cè)量標(biāo)記相對(duì)于工件臺(tái)在X、Y方向的膨脹量；

S5：將測(cè)量得到的工件臺(tái)2的非正交量相對(duì)預(yù)設(shè)的標(biāo)準(zhǔn)基板的非正交量的變化值作為補(bǔ)償量，并補(bǔ)償?shù)剿龈缮鎯x測(cè)量單元中。盡管三個(gè)非正交測(cè)量標(biāo)記6會(huì)隨著粗動(dòng)旋轉(zhuǎn)臺(tái)7旋轉(zhuǎn)，但是非正交量并不會(huì)發(fā)生變化，若工件臺(tái)2非正交量沒(méi)有漂移，則在線所測(cè)得三個(gè)非正交測(cè)量標(biāo)記6的非正交量與預(yù)設(shè)的(即離線測(cè)試的)標(biāo)準(zhǔn)基板非正交量的差異為固定值，因此可以通過(guò)監(jiān)測(cè)該值的變化來(lái)監(jiān)測(cè)工件臺(tái)2非正交量的變化，并實(shí)現(xiàn)補(bǔ)償。

本實(shí)用新型還提供一種實(shí)現(xiàn)如上所述工件臺(tái)非正交校正方法的校正裝置，包括投影物鏡1，還包括：

非正交測(cè)量標(biāo)記6，設(shè)置在工件臺(tái)2上用于承載基板3的粗動(dòng)旋轉(zhuǎn)臺(tái)7上，所述非正交測(cè)量標(biāo)記6至少設(shè)有三個(gè)，且不在一條直線上，以便對(duì)工件臺(tái)2的面型進(jìn)行在線測(cè)量，本實(shí)施例中，所述粗動(dòng)旋轉(zhuǎn)臺(tái)7上設(shè)有三個(gè)反射鏡4，每個(gè)反射鏡4上設(shè)有至少一個(gè)所述非正交測(cè)量標(biāo)記6。

視覺(jué)單元5，用于獲得所述非正交測(cè)量標(biāo)記6的位置，具體的，所述視覺(jué)單元5測(cè)量三個(gè)所述非正交測(cè)量標(biāo)記6的同時(shí)測(cè)量所述基板3的邊緣線，用于基板3預(yù)對(duì)準(zhǔn)。此外，還包括采用兩個(gè)視覺(jué)單元5同時(shí)測(cè)量三個(gè)所述非正交測(cè)量標(biāo)記6中的兩個(gè)非正交測(cè)量標(biāo)記6的位置，之后移動(dòng)所述工件臺(tái)2，使剩下的一個(gè)非正交測(cè)量標(biāo)記6對(duì)準(zhǔn)所述兩個(gè)視覺(jué)單元5中的一個(gè)。

干涉儀測(cè)量單元，用于測(cè)量所述工件臺(tái)2的位置x_s_i、y_s_i，其中i＝1,2,3。

該校正裝置還包括校正單元，根據(jù)所述非正交測(cè)量標(biāo)記6在粗動(dòng)旋轉(zhuǎn)臺(tái)7坐標(biāo)系下的名義位置、所述視覺(jué)單元5獲得的所述非正交測(cè)量標(biāo)記6的位置以及所述工件臺(tái)2的位置計(jì)算所述工件臺(tái)2的非正交量，并發(fā)送至所述干涉儀測(cè)量單元進(jìn)行補(bǔ)償校正。

綜上所述，本實(shí)用新型提供的工件臺(tái)2非正交校正裝置，該裝置包括：非正交測(cè)量標(biāo)記6，設(shè)置在工件臺(tái)2上用于承載基板3的粗動(dòng)旋轉(zhuǎn)臺(tái)7上，所述非正交測(cè)量標(biāo)記6至少設(shè)有三個(gè)，且不在一條直線上；視覺(jué)單元5，用于獲得所述非正交測(cè)量標(biāo)記6的位置；干涉儀測(cè)量單元，用于測(cè)量所述工件臺(tái)2的位置；還包括校正單元，根據(jù)所述非正交測(cè)量標(biāo)記6在粗動(dòng)旋轉(zhuǎn)臺(tái)7坐標(biāo)系下的名義位置、所述視覺(jué)單元5獲得的所述非正交測(cè)量標(biāo)記6的位置以及所述工件臺(tái)2的位置計(jì)算所述工件臺(tái)2的非正交量，并發(fā)送至所述干涉儀測(cè)量單元進(jìn)行補(bǔ)償校正。通過(guò)視覺(jué)單元5對(duì)非正交測(cè)量標(biāo)記6的位置進(jìn)行測(cè)量，并根據(jù)至少三個(gè)非正交測(cè)量標(biāo)記6的位置計(jì)算工件臺(tái)2的非正交量，實(shí)現(xiàn)了對(duì)工件臺(tái)2的非正交量的測(cè)量，將測(cè)量得到的工件臺(tái)2的非正交量相對(duì)預(yù)設(shè)的標(biāo)準(zhǔn)基板的非正交量的變化值作為補(bǔ)償量，并補(bǔ)償?shù)礁缮鎯x模型中，有效解決了工件臺(tái)2面型在曝光過(guò)程中受熱形變對(duì)TP控制精度的影響，從而降低材料的使用成本。

雖然說(shuō)明書(shū)中對(duì)本實(shí)用新型的實(shí)施方式進(jìn)行了說(shuō)明，但這些實(shí)施方式只是作為提示，不應(yīng)限定本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。在不脫離本實(shí)用新型宗旨的范圍內(nèi)進(jìn)行各種省略、置換和變更均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍內(nèi)。