專利名稱：一種可調(diào)整式曝光機(jī)升降平臺(tái)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及曝光機(jī)技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種可調(diào)整式曝光機(jī)升降平臺(tái)裝置。
背景技術(shù)：
曝光機(jī)系提供印刷電路板，進(jìn)行線路圖形布置，曝光機(jī)通常系在基座中形成一曝光區(qū)域，該曝光區(qū)系透過(guò)一可升降平臺(tái)，將待曝光之電路板放至合適曝光區(qū)中，并藉以進(jìn)行電路板之曝光作業(yè)。由于曝光作業(yè)中，平臺(tái)必須重復(fù)地升降。然而，現(xiàn)有技術(shù)曝光機(jī)，因?yàn)槭褂媒z桿與滑軌配合使曝光平臺(tái)實(shí)現(xiàn)升降運(yùn)動(dòng)，由于不可避免的機(jī)械誤差會(huì)有平臺(tái)與上烙板不平行以及升降機(jī)構(gòu)精度不夠的現(xiàn)象，給客戶造成設(shè)備故障以及產(chǎn)品不良等問(wèn)題。因此現(xiàn)有技術(shù)曝光機(jī)結(jié)構(gòu)亟待改良。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的特征和優(yōu)點(diǎn)在下文的描述中部分地陳述，或者可從該描述顯而易見(jiàn)，或者可通過(guò)實(shí)踐本實(shí)用新型而學(xué)習(xí)。針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的問(wèn)題，本實(shí)用新型提供一種可調(diào)整式曝光機(jī)升降平臺(tái)裝置，該可調(diào)整式曝光機(jī)升降平臺(tái)裝置通過(guò)凹、凸球座對(duì)曝光平臺(tái)進(jìn)行快速、精準(zhǔn)的校準(zhǔn)，通過(guò)使用花鍵軸保證曝光平臺(tái)同軸上升比使用滑軌更穩(wěn)定。本實(shí)用新型為解決上述技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案為:本實(shí)用新型提供一種可調(diào)整式曝光機(jī)升降平臺(tái)裝置，包括曝光平臺(tái)和位于該曝光平臺(tái)下方的XYY機(jī)構(gòu)，在該XYY機(jī)構(gòu)下方設(shè)置有上支撐板和下支撐板，該上支撐板的下端面固定連接凸球座，該下支撐板的上端面固定連接凹球座，該凸球座的凸面與該凹球座的凹面貼合，還包括至少一根花鍵軸，該花鍵軸與該下支撐板固定連接。根據(jù)本實(shí)用 新型的實(shí)施例，在該上支撐板和該下支撐板外側(cè)設(shè)置有至少一個(gè)鎖緊
>J-U ρ α裝直。根據(jù)本實(shí)用新型的實(shí)施例，該花鍵軸設(shè)為三根。根據(jù)本實(shí)用新型的實(shí)施例，該花鍵軸位于一等邊三角形的頂點(diǎn)上。根據(jù)本實(shí)用新型的實(shí)施例，該鎖緊裝置設(shè)為兩個(gè)。優(yōu)選地，該凸球座的凸面設(shè)為半球面。優(yōu)選地，該凹球座的凹面設(shè)為半球面。根據(jù)本實(shí)用新型的實(shí)施例，還包括底盤，該底盤與該花鍵軸活動(dòng)連接。本實(shí)用新型的有益效果:本實(shí)用新型可調(diào)整式曝光機(jī)升降平臺(tái)裝置通過(guò)設(shè)置凹、凸球座，實(shí)現(xiàn)了對(duì)曝光平臺(tái)的快速、精準(zhǔn)的校準(zhǔn)，通過(guò)使用花鍵軸保證曝光平臺(tái)的上升比使用滑軌更穩(wěn)定，本實(shí)用新型推進(jìn)了曝光機(jī)升降平臺(tái)裝置的技術(shù)進(jìn)步。

下面通過(guò)參考附圖并結(jié)合實(shí)例具體地描述本實(shí)用新型，本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)和實(shí)現(xiàn)方式將會(huì)更加明顯，其中附圖所示內(nèi)容僅用于對(duì)本實(shí)用新型的解釋說(shuō)明，而不構(gòu)成對(duì)本實(shí)用新型的任何意義上的限制，在附圖中:圖1為本實(shí)用新型可調(diào)整式曝光機(jī)升降平臺(tái)裝置示意圖。
具體實(shí)施方式
如圖1所示，本實(shí)用新型可調(diào)整式曝光機(jī)升降平臺(tái)裝置包括曝光平臺(tái)11和位于曝光平臺(tái)11下方的XYY機(jī)構(gòu)12，在XYY機(jī)構(gòu)12下方設(shè)置有上支撐板13和下支撐板17，上支撐板13的下端面固定連接凸球座14,下支撐板17的上端面固定連接凹球座16,凸球座14的凸面與凹球座16的凹面貼合，還包括至少一根花鍵軸19，花鍵軸19與下支撐板17固定連接。根據(jù)本實(shí)用新型的實(shí)施例，在上支撐板13和下支撐板17外側(cè)設(shè)置有鎖緊裝置15和鎖緊裝置18，花鍵軸19設(shè)為三根，花鍵軸19位于一等邊三角形的頂點(diǎn)上。優(yōu)選地，凸球座14的凸面設(shè)為半球面，凹球座16的凹面設(shè)為半球面。還包括底盤20，底盤20與花鍵軸19活動(dòng)連接。以上參照附圖說(shuō)明了本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例，本領(lǐng)域技術(shù)人員不脫離本實(shí)用新型的范圍和實(shí)質(zhì)，可以有多種變型方案實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型。舉例而言，作為一個(gè)實(shí)施例的部分示出或描述的特征可用于另一實(shí)施例以得到又一實(shí)施例。以上僅為本實(shí)用新型較佳可行的實(shí)施例而已，并非因此局限本實(shí)用新型的權(quán)利范圍，凡運(yùn)用本實(shí)用新型說(shuō)明書及附圖內(nèi)容所作的等效變化，均包含于本·實(shí)用新型的權(quán)利范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種可調(diào)整式曝光機(jī)升降平臺(tái)裝置，包括曝光平臺(tái)和位于所述曝光平臺(tái)下方的XYY機(jī)構(gòu)，其特征在于:在所述XYY機(jī)構(gòu)下方設(shè)置有上支撐板和下支撐板，所述上支撐板的下端面固定連接凸球座，所述下支撐板的上端面固定連接凹球座，所述凸球座的凸面與所述凹球座的凹面貼合，還包括至少一根花鍵軸，所述花鍵軸與所述下支撐板固定連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可調(diào)整式曝光機(jī)升降平臺(tái)裝置，其特征在于:在所述上支撐板和所述下支撐板外側(cè)設(shè)置有至少一個(gè)鎖緊裝置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可調(diào)整式曝光機(jī)升降平臺(tái)裝置，其特征在于:所述花鍵軸設(shè)為三根。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的可調(diào)整式曝光機(jī)升降平臺(tái)裝置，其特征在于:所述花鍵軸位于一等邊三角形的頂點(diǎn)上。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的可調(diào)整式曝光機(jī)升降平臺(tái)裝置，其特征在于:所述鎖緊裝置設(shè)為兩個(gè)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可調(diào)整式曝光機(jī)升降平臺(tái)裝置，其特征在于:所述凸球座的凸面設(shè)為半球面。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的可調(diào)整式曝光機(jī)升降平臺(tái)裝置，其特征在于:所述凹球座的凹面設(shè)為半球面。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可調(diào)整式曝光機(jī)升降平臺(tái)裝置，其特征在于:還包括底盤，所述底盤與所述花鍵 軸活動(dòng)連接。
專利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)了一種可調(diào)整式曝光機(jī)升降平臺(tái)裝置，包括曝光平臺(tái)和位于該曝光平臺(tái)下方的XYY機(jī)構(gòu)，在該XYY機(jī)構(gòu)下方設(shè)置有上支撐板和下支撐板，該上支撐板的下端面固定連接凸球座，該下支撐板的上端面固定連接凹球座，該凸球座的凸面與該凹球座的凹面貼合，還包括至少一根花鍵軸，該花鍵軸與該下支撐板固定連接。本實(shí)用新型可調(diào)整式曝光機(jī)升降平臺(tái)裝置通過(guò)設(shè)置凹、凸球座，實(shí)現(xiàn)了對(duì)曝光平臺(tái)的快速、精準(zhǔn)的校準(zhǔn)，通過(guò)使用花鍵軸保證曝光平臺(tái)的上升比使用滑軌更穩(wěn)定，本實(shí)用新型推進(jìn)了曝光機(jī)升降平臺(tái)裝置的技術(shù)進(jìn)步。
文檔編號(hào)G03F7/20GK203117638SQ201220722410
公開(kāi)日2013年8月7日 申請(qǐng)日期2012年12月25日 優(yōu)先權(quán)日2012年9月13日
發(fā)明者袁強(qiáng), 劉長(zhǎng)征 申請(qǐng)人:東莞市海圣光電科技有限公司