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?;w維素膜、?;w維素膜的制備方法、光學補償膜、偏振片和液晶顯示器的制作方法

文檔序號:2799033閱讀:223來源:國知局
專利名稱:?;w維素膜、?;w維素膜的制備方法、光學補償膜、偏振片和液晶顯示器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及可用于液晶顯示器等的酰化纖維素膜及其制備方法。本發(fā)明還涉及使用該?;w維素膜的光學補償膜、偏振片和液晶顯示器。

背景技術(shù)
由于液晶顯示器的多種優(yōu)點如低電壓/低功率消耗和能夠減小尺寸并變薄,正廣泛用作個人電腦或可便攜設(shè)備或電視的顯示器。根據(jù)液晶在液晶單元中的取向已經(jīng)提出了液晶顯示器的多種模式,但是通常主要模式為TN模式,該模式產(chǎn)生由液晶單元的下基材向上基材扭曲約90°的液晶取向態(tài)。
液晶顯示器通過包括液晶單元、相位差膜和偏振片。相位差膜用于抵消圖像著色或擴大視角,并且為此使用拉伸的雙折射膜或通過在透明膜上涂敷液晶而得到的膜。例如日本專利2587398公開了將光學補償片應用于TN模式液晶液晶單元以擴大視角的技術(shù),所述光學補償片通過將盤狀液晶在三乙酰纖維素膜上涂敷、取向并固定而得到。
然而,對用于大屏幕且由各角度正視的電視的液晶顯示器的視角依賴性的需求是急切的并且這種需求不可以通過上述技術(shù)滿足。因此,已經(jīng)對液晶顯示器進行了各種不同于TN模式的研究,例如IPS(面內(nèi)轉(zhuǎn)變型)模式、OCB(光學補償彎曲型)模式和VA(垂直取向型)模式。
用于改善視角性質(zhì)等的相差片或光學補償膜根據(jù)各種液晶顯示器的顯示模式而具有不同特性,并且偏振片或相差片支撐或光學補償膜的保護膜也需要滿足相應的不同性能。因此,不僅面臨多種要求如偏振片或相差片支撐或光學補償膜的保護膜的高度光學各向異性或高度光學各向同性,而且面臨高要求性能。對便宜的液晶顯示器的需求也日益增加并且強烈需要增加的各組分的生產(chǎn)率(產(chǎn)率增加,成本降低)。
在偏振片的保護膜中,目前使用確保高度光學各向同性、高濕氣滲透性及對用作偏振片的聚乙烯醇(PVA)具有高粘合性的?;w維素膜。
與傳統(tǒng)公知知識相反,近來已公開了通過賦予?;w維素膜以正的高延遲而制備了便宜的薄相差片或帶有相差膜的偏振片。例如歐洲未經(jīng)審查的專利公開0911656A2公開了與傳統(tǒng)公知原理相反的具有正的高延遲且也可用于要求光學各向異性應用中的乙酸纖維素膜。在該專利文件中,為了實現(xiàn)使用三乙酸纖維素的正的高延遲值,通過添加具有至少兩個芳環(huán)的芳族化合物,尤其是具有1,3,5-三嗪的化合物而進行了拉伸。
另一方面,需要更加使乙酸纖維素的光學各向同性增強并因而不僅在正面而且在厚度方向使延遲下降,從而甚至在斜視時也可以確保如由前面觀看的相同的光學性能。對于乙酸纖維素膜之外的能夠降低延遲的材料,公開了基于聚碳酸酯的膜或基于環(huán)烯烴的膜(參見JP-A-2001-318233(這里所用的術(shù)語“JP-A”指未經(jīng)審查但公開的日本專利申請)和JP-A-2002-328233),但是該類膜具有高的疏水性并且其缺點例如在于用作偏振片的PVA的層壓性差。
為了解決該問題,JP-A-2005-120352提出了使用與PVA具有優(yōu)異的層壓相配性的?;w維素膜的光學各向同性的光學透明膜,其通過使光學各向異性更加降低而得以改進,且通過正面的Re近乎為零而各向同性,同時由于角度變化導致的延遲變化小,即Rth也近乎為零。


發(fā)明內(nèi)容
然而,在公開于JP-A-2005-120352中的制備?;w維素膜的方法中,當使用在溶解后儲存了一定時間的溶液時,所制得的膜含有雜質(zhì)。在這方面,需要改進。此外,在澆鑄時有時形成條紋狀不均勻體(也稱為澆鑄不均勻體)并且需要改進。
在這些情況下進行了本發(fā)明,并且本發(fā)明的目的是提供具有較小或負面內(nèi)延遲值和厚度方向的延遲值且確保具有降低的雜質(zhì)、條紋狀不均勻體、刮痕等且平面性優(yōu)異的?;w維素膜。
本發(fā)明的另一個目的是通過使用該便宜的具有優(yōu)異光學性質(zhì)的?;w維素來提供便宜且具有優(yōu)異光學性質(zhì)的光學補償膜、偏振片和液晶顯示器。
通過大量研究,本發(fā)明的發(fā)明人發(fā)現(xiàn)降低?;w維素膜中所產(chǎn)生的雜質(zhì)可以通過改善?;w維素溶液的溶解態(tài)而實現(xiàn)。?;w維素為其OH基由?;〈糠諳H基原樣保留或存在大量微細晶體點的纖維素。用于澆鑄的?;w維素溶液具有高濃度和高粘度并且?guī)缀醪荒苄纬煞肿臃稚B(tài),而且雜質(zhì)易于在由該溶液進行澆鑄和成膜而制備的膜中產(chǎn)生。在本發(fā)明中,將?;w維素溶液通過由加熱態(tài)至冷卻態(tài)的步驟和由冷卻態(tài)至加熱態(tài)的步驟,由此使?;w維素的溶解態(tài)得以改進并且可以降低膜中所產(chǎn)生的雜質(zhì)數(shù)量。也可以通過降低不溶性雜質(zhì)對Giesser的粘附性而改進出現(xiàn)條紋狀不均勻體的數(shù)量。
另一方面,膜的表面粗糙體(表面凹面體和凸面體)可以通過控制澆鑄后膜在高度揮發(fā)性物質(zhì)態(tài)中的干燥速率及控制拉幅機(tenter)的干燥條件而得以改善。膜的刮痕可以通過控制軋輥的表面粗糙體而降低。
膜的雜質(zhì)、條紋狀不均勻體和膜的刮痕因為整個膜的光束透過率更高或者正面以及斜視方向的延遲更小而更易于被檢測,但是已經(jīng)發(fā)現(xiàn)在將本發(fā)明的?;w維素膜用于光學補償膜或偏振片并引入液晶面板或液晶顯示器時,在許多情況下那些缺陷變得不是問題。因此,使用本發(fā)明的纖維素膜可以成功地得到?jīng)]有缺陷并且便宜且優(yōu)異的光學補償膜、偏振片和液晶顯示器。
上述目的可以通過以下結(jié)構(gòu)材料實現(xiàn)。
(1)具有如下特性的?;w維素膜 Re(590)和Rth(590)滿足式(I)和(II);并且在590nm波長處的光束透過率為88%或更大,其中長軸為50-200μm的雜質(zhì)的數(shù)量為20個/m2或更少 式(I)0≤Re(590)≤10 式(II)-25≤Rth(590)≤25 其中Re(590)代表在25℃和60%RH下在590nm波長處的面內(nèi)延遲值(單位nm);和 Rth(590)代表在25℃和60%RH下在590nm波長處的厚度方向的延遲值(單位nm)。
(2)具有如下特性的?;w維素膜 Re(590)和Rth(590)滿足式(I)和(II);并且 在590nm波長處的光束透過率為88%或更大, 其中寬度為10-100μm的澆鑄不均勻體的數(shù)量在寬度方向上為10個/m或更少 式(I)0≤Re(590)≤10 式(II)-25≤Rth(590)≤25 其中Re(590)代表在25℃和60%RH下在590nm波長處的面內(nèi)延遲值(單位nm);和Rth(590)代表在25℃和60%RH下在590nm波長處的厚度方向的延遲值。
(3)如(1)中所述的酰化纖維素膜 其中寬度為10-100μm的澆鑄不均勻體的數(shù)量在寬度方向上為10個/m或更少。
(4)具有如下特性的?;w維素膜 Re(590)和Rth(590)滿足式(I)和(II);并且 在590nm波長處的光束透過率為88%或更大, 其中表示表面凹面體和凸面體的最大高度的Ry為3.0μm或更小;和 表示表面凹面體和凸面體之間的平均距離的Sm為1μm至1mm 式(I)0≤Re(590)≤10 式(II)-25≤Rth(590)≤25 其中Re(590)代表在25℃和60%RH下在590nm波長處的面內(nèi)延遲值;和Rth(590)代表在25℃和60%RH下在590nm波長處的厚度方向的延遲值。
(5)如(1)中所述的?;w維素膜 其中表示表面凹面體和凸面體的最大高度的Ry為3.0μm或更小;和表示表面凹面體和凸面體之間的平均距離的Sm為1μm至1mm。
(6)具有如下特性的?;w維素膜 Re(590)和Rth(590)滿足式(I)和(II);并且在590nm波長處的光束透過率為88%或更大, 其中寬度為10-100μm的膜刮痕的數(shù)量在澆鑄方向上為0-10個/m 式(I)0≤Re(590)≤10 式(II)-25≤Rth(590)≤25 其中Re(590)代表在25℃和60%RH下在590nm波長處的面內(nèi)延遲值;和Rth(590)代表在25℃和60%RH下在590nm波長處的厚度方向的延遲值。
(7)如(1)中所述的?;w維素膜 其中寬度為10-100μm的膜刮痕的數(shù)量在澆鑄方向上為0-10個/m。
(8)?;w維素膜的制備方法,其是通過包括如下過程的溶液澆鑄法制備酰化纖維素膜的方法 (I)制備?;w維素溶液的過程; (II)澆鑄?;w維素溶液以形成澆鑄膜的過程(該澆鑄膜也稱作“網(wǎng)”,并且包括含有溶劑的膜和不含溶劑的膜); (III)使?jié)茶T膜干燥的過程; (IV)分離澆鑄膜的過程; (V)拉幅干燥所述分離膜的過程, (VI)切掉澆鑄膜的邊緣部分并卷起該澆鑄膜的過程, 其中(I)的制備?;w維素溶液的過程包括 (i)在25-95℃下將?;w維素在有機溶劑中混合并溶解的過程; (ii)將在過程(i)中制得的溶液冷卻為低至-55℃至20℃的過程;和 (iii)將在過程(ii)中制得的溶液加熱為至多40-115℃的過程。
(9)如(8)中所述的?;w維素的制備方法, 其中進行(III)的在分離前使?jié)茶T膜干燥的過程,使得當澆鑄膜的剩余溶劑量基于固體含量為200-100質(zhì)量%時,剩余溶解量的平均降低速率為1-18質(zhì)量%/秒。
(10)如(8)中所述的?;w維素的制備方法, 其中進行(V)的拉幅干燥所述澆鑄膜的過程,使得當拉幅機拉伸所述分離膜時,在40-150℃下通過干燥空氣來干燥分離膜并且剩余溶解量的平均降低速率為0.01-3質(zhì)量%/秒。
(11)如(8)中所述的?;w維素的制備方法, 其中在卷膜時與膜接觸的軋輥的表面粗糙體為0.5μm或更低。
(12)通過如(8)所述的制備方法生產(chǎn)的?;w維素膜。
(13)如(1)所述的酰化纖維素膜,其通過包括如下過程的溶液澆鑄法而生產(chǎn) (I)制備酰化纖維素溶液的過程; (II)澆鑄?;w維素溶液以形成澆鑄膜的過程; (III)使?jié)茶T膜在分離前干燥的過程; (IV)分離澆鑄膜的過程; (V)拉幅干燥所述澆鑄膜的過程,以及 (VI)切掉澆鑄膜的邊緣部分并卷起該澆鑄膜的過程, 其中(I)的制備?;w維素溶液的過程包括 (i)在25-95℃下將酰化纖維素在有機溶劑中混合并溶解的過程; (ii)將在過程(i)中制得的溶液冷卻為低至-55℃至20℃的過程;和 (iii)將在過程(ii)中制得的溶液加熱為至多40-115℃的過程。
(14)如(1)所述的酰化纖維素膜,其具有滿足式(10)的酰基取代度(X+Y) 式(10)2.6<X+Y≤3.0 其中X表示乙?;〈群蚘表示除乙?;獾孽;〈?。
(15)如(1)所述的酰化纖維素膜,其厚度為30-120μm。
(16)一種光學補償膜,其包含 如(1)所述的酰化纖維素膜;和 Re(590)為0-200nm且|Rth(590)|為0-400nm的光學各向異性層。
(17)一種偏振片,其包含 在偏振片的液晶單元側(cè)上的起偏振器保護膜,其中所述起偏振器保護膜為如(15)所述的?;w維素膜。
(18)一種偏振片,其包含 起偏振器;和 一對將起偏振器夾在中間的起偏振器保護膜,其中至少一個起偏振器保護膜為如(15)所述的酰化纖維素膜。
(19)一種包含如(15)所述的?;w維素膜的液晶顯示器。

具體實施例方式 以下詳細地描述本發(fā)明 <?;w維素膜的光學性質(zhì)> [酰化纖維素膜的延遲] 在本發(fā)明的?;w維素膜中,在25℃和60%RH的條件下在590nm波長處的面內(nèi)延遲值Re(590)滿足下式(I)。在該式中,Re的單位為nm。
式(I)0≤Re(590)≤10 Re(590)值優(yōu)選0-7nm,更優(yōu)選0-5nm,還更優(yōu)選0-2nm。
此外,在25℃和60%RH的條件下在590nm波長處的厚度方向的延遲值Rth(590)滿足下式(II)。在該式中,Rth的單位是nm。
式(II)-25≤Rth(590)≤25 Rth(590)值優(yōu)選-20nm至20nm,更優(yōu)選-15nm至15nm,還更優(yōu)選-10nm至10nm。
本發(fā)明的在厚度方向具有小延遲的?;w維素膜具有如下獨特特征在膜厚度方向不會造成不需要的雙折射,并且液晶顯示器的光學設(shè)計范圍可以通過使用本發(fā)明的酰化纖維素膜而顯著加強。尤其在面內(nèi)延遲和厚度方向的延遲均小的?;w維素膜用作偏振片保護膜或光學補償膜的支撐體時,可以利用光學補償膜中的其它構(gòu)件或光學補償層的雙折射而不會阻礙它們的光學補償能力。
本發(fā)明的酰化纖維素膜的面內(nèi)延遲Re和厚度方向的延遲Rth由于濕度均優(yōu)選進行小的變化并且優(yōu)選滿足下式(III)和(IV) 式(III)|Re10%-Re80%|≤25 式(IV)|Rth10%-Rth80%|≤35 其中,式(III)中的Re10%和Re80%分別為在25℃和10%RH的條件下和在25℃和80%RH的條件下在590nm波長處的面內(nèi)延遲值,并且式(IV)中的Rth10%和Rth80%分別為在25℃和10%RH的條件下和在25℃和80%RH的條件下在590nm波長處的厚度方向的延遲值。
|Re10%-Re80%|優(yōu)選0-20nm,更優(yōu)選0-15nm。
|Rth10%-Rth80%|優(yōu)選0-25nm,更優(yōu)選0-15nm。
在本發(fā)明的?;w維素膜中,|Re(400)-Re(700)|和|Rth(400)-Rth(700)|,即分別為400nm波長處與700nm波長處的Re差和Rth差,優(yōu)選為小的,并且優(yōu)選|Re(400)-Re(700)|≤10且|Rth(400)-Rth(700)|≤35,更優(yōu)選|Re(400)-Re(700)|≤5且|Rth(400)-Rth(700)|≤25,還更優(yōu)選|Re(400)-Re(700)|≤3且|Rth(400)-Rth(700)|≤15。
各個延遲均在25℃和60%RH的條件下測量。
在本說明書中,Re(λ)和Rth(λ)分別表示在波長λ處的面內(nèi)延遲和厚度方向的延遲。Re(λ)通過在KOBRA 21ADH(由Oji Scientific Instruments制造)中使用垂直方向的入射到膜中的波長λnm的光測量。對于Rth(λ),Re(λ)通過使用與膜垂直方向傾斜的波長λnm的入射光以面內(nèi)慢軸(由KOBRA 21ADH判定)作為傾斜軸(旋轉(zhuǎn)軸)10°幅度由-50°旋轉(zhuǎn)至50°而在11個點上測量,并且通過KOBRA 21ADH基于所測量的延遲值、輸入的估計的平均折光指數(shù)值和膜厚度值進行計算。這里對于估計的平均折光指數(shù)值,可以使用描述于PolymerHandbook(John wiley & Sons,Inc)中的那些。對于未知的平均折光指數(shù)值可以通過阿貝折光儀測量。主要的光學膜的平均折光指數(shù)值如下?;w維素(1.48),環(huán)烯烴聚合物(1.52),聚碳酸酯(1.59),聚甲基丙烯酸甲酯(1.49)和聚苯乙烯(1.59)。當輸入估計的平均折光指數(shù)值和膜厚度時,KOBRA 21ADH計算nx、ny和nz,由這些計算的nx、ny和nz來進而計算Nz=(nx-nz)/(nx-ny)。
[延遲的波動] 延遲值的波動為在寬度方向的5個點(中心、邊緣部分(位于與兩邊距離整個寬度的5%)和2個在中心與各邊緣部分之間的中點)上,在每100m縱向方向上取樣值中的最大值與最小值的差,并且優(yōu)選10nm或更小,更優(yōu)選5nm或更小,還更優(yōu)選1nm或更小。
[膜的透明性] 本發(fā)明的?;w維素膜具有高透明性并且優(yōu)選作為光學用途的膜。在590nm波長處的光束透過率優(yōu)選88%或更多,更優(yōu)選90%或更多。
[膜的雜質(zhì)] 在本發(fā)明的酰化纖維素膜的一個實施方案中,每m2中的長軸為50-200μm的雜質(zhì)的數(shù)量為0-20個/m2。通過使用放大鏡、光學顯微鏡、偏振顯微鏡等,可以把雜質(zhì)看作以下區(qū)域透射光、反射光和偏振光中的任何一種與周邊正常區(qū)域不同。雜質(zhì)包括來自工藝之外的物質(zhì)例如灰塵、在澆鑄用的原料中的不溶物質(zhì)(例如具有低取代度的酰化纖維素或不反應的纖維素,它們是當因為在酰化纖維素合成中形成微細晶體而不發(fā)生足夠的反應時產(chǎn)生的)、不純物(其包含在添加劑如增塑劑中)、澆鑄溶液中的起皮、以及凝固成分如反應物。作為光學用途的膜,優(yōu)選更少數(shù)量的雜質(zhì),并且雜質(zhì)的數(shù)量優(yōu)選10個/m2或更少,更優(yōu)選5個/m2或更少,還更優(yōu)選3個/m2或更少。
[膜澆鑄不均勻體] 在本發(fā)明的?;w維素膜的一個實施方案中,寬度為10-100μm的澆鑄不均勻體的數(shù)量在寬度方向上為0-10個/m。膜澆鑄不均勻體可以使用放大鏡、光學顯微鏡、偏光顯微鏡等而將膜澆鑄不均勻體作為其中透過光、反射光和偏振光任何之一與周圍區(qū)域不同的區(qū)域而確認,并且澆鑄不均勻體為厚度、Re或Rth延遲、面內(nèi)慢軸方向、表面處理程度等不連續(xù)地變化的區(qū)域。作為用于光學應用的膜,優(yōu)選更少數(shù)量的膜澆鑄不均勻體,但是本發(fā)明的?;w維素膜具有高的光束透過率并且在正面及傾斜方向的延遲小,因此易于識別膜澆鑄不均勻體。膜澆鑄不均勻體的數(shù)量優(yōu)選10個/m或更少,更優(yōu)選5個/m或更少,還更優(yōu)選3個/m或更少。
[膜刮痕] 在本發(fā)明的?;w維素膜的一個實施方案中,在澆鑄方向上每米的寬度為10-100μm的膜刮痕的數(shù)量為0-10個/m。膜刮痕可以使用放大鏡、光學顯微鏡、偏光顯微鏡等而將膜刮痕作為凹面體或凸面體而確認,其具有3mm或更大的長度和0.1μm或更大的高度,并且其中透過光、反射光和偏振光任何之一與周圍區(qū)域不同。作為用于光學應用的膜,優(yōu)選更少數(shù)量的刮痕,但是本發(fā)明的?;w維素膜具有高的光束透過率并且在前面及傾斜方向的延遲小,因此易于識別膜刮痕。膜刮痕的數(shù)量優(yōu)選10個/m或更少,更優(yōu)選5個/m或更少,還更優(yōu)選3個/m或更少。
[膜的平面性] 在本發(fā)明的?;w維素膜的一個實施方案中,對于膜表面,根據(jù)JISB0601-1994的表面凹面體和凸面體的最大高度(Ry)優(yōu)選3.0μm或更小。Ry優(yōu)選0.5-2.5μm,并更優(yōu)選0.5-2.0μm。膜表面上的凹面體或凸面體的性質(zhì)可以通過原子力顯微鏡(AFM)評價。
另外,根據(jù)JIS B0601-1994的表面凹面體和凸面體之間的平均距離(Sm)優(yōu)選為1μm至1mm,更優(yōu)選10μm至1mm,還更優(yōu)選100μm至1mm。
[?;w維素膜的原料] 對于本發(fā)明的酰化纖維素膜的原料,可以合適地使用以下所述的?;w維素以及下述的各種化合物和其它組分如添加劑。
(?;w維素) 形成纖維素的葡萄糖單元具有三個能夠鍵接的羥基。例如,在三乙酸纖維素中,當葡萄糖單元的所有三個羥基與乙?;B接時,乙酰基的取代度為3.0。?;w維素的取代度越高,可以有利地使厚度方向的延遲越小。?;w維素在取代度變大時,具有固有雙折射由正向負變化的性質(zhì)。當?;w維素具有高取代度和負的固有雙折射時,可以通過拉伸來降低厚度方向的延遲。
可以根據(jù)ASTM-D817-96測量所述酰基的取代度。
對于酰化纖維素的?;〈?,假設(shè)乙酸的乙酰取代度為X且除乙酸外如丙酸或丁酸的酰基取代度為Y,則優(yōu)選酰化纖維素滿足下式(10) 式(10)2.6<X+Y≤3.0 為降低Rth,X+Y優(yōu)選大于2.6且小于等于3.0,更優(yōu)選2.70-3.00,還更優(yōu)選2.85-2.98,還更優(yōu)選2.91-2.98。
在用于本發(fā)明的酰化纖維素中,酰化纖維素的原料纖維素可以來自棉絨或者木漿。此外,還可以使用源自棉絨的纖維素和源自木漿的纖維素的混合物,或者除棉絨或木漿外的包含洋麻的纖維素等。
用于本發(fā)明的?;w維素的實例包括脂族羧酸或無機酸,例如三乙酰纖維素(TAC)、二乙酰纖維素(DAC)、乙酸丙酸纖維素(CAP)、乙酸丁酸纖維素(CAB)、乙酸鄰苯二甲酸纖維素、乙酸偏苯三酸纖維素和硝酸纖維素;具有芳環(huán)的酸酸;多元羧酸,例如二羧酸或三羧酸;和纖維素酯如多元羧酸的部分取代酯。
用于本發(fā)明的?;w維素具有吸水性且優(yōu)選具有的含濕量為0.4-4.4%。優(yōu)選該范圍內(nèi)的含濕量,以便控制酰化纖維素溶液中的固含量。
用于本發(fā)明的酰化纖維素的聚合度,以其粘均聚合度計,優(yōu)選為200-800,更優(yōu)選250-650。粘均聚合度可以根據(jù)Uda等提出的固有粘度方法(參見,KazuoUda和HideoSaito,F(xiàn)iber,第18卷,第1期,第105-120頁(1962))測量。粘均聚合度的測量方法也描述于JP-A-9-95538中。
當?;w維素的分子量高時,膜的模量可以較大,但是若分子量極度增加時,則?;w維素溶液的粘度變得太高,因此易于產(chǎn)生遮蔽(shading)等使生產(chǎn)率下降。?;w維素的分子量,以其數(shù)均分子量(Mn)計,優(yōu)選50,000-200,000,更優(yōu)選100,000-200,000。在用于本發(fā)明的?;w維素中,Mw/Mn的比例優(yōu)選1.6-4.5,更優(yōu)選2.4-3.6。
?;w維素的平均分子量和分子量分布可使用高性能液相色譜測量。在通過高效液相色譜測量數(shù)均分子量(Mn)和重均分子量(Mw)之后,可以計算它們間的比例。
測量條件如下 溶劑二氯甲烷 柱Shodex K806,K805和K803G(由Showa Denko K.K.制造,連接并使用三個柱) 柱溫25℃ 樣品濃度0.1質(zhì)量% 檢測器RI Model 504(由GL Science Inc.制造) 泵L6000(由Hitachi Ltd.制造) 流速1.0ml/min 校準曲線使用13個Mw為1,000,000-500的標準聚苯乙烯樣品STKStandard Polystyrene(由Tosoh Corp.生產(chǎn))而得到校準曲線,優(yōu)選以接近規(guī)則的間隔使用13個樣品。
<延遲降低劑> 用于本發(fā)明的延遲降低劑為降低厚度方向延遲的化合物,其具體實例包括但不限于由下式(1)和(2)表示的化合物。
式(1)
式(2)
在式(1)中,R11代表烷基或芳基,R12和R13各自獨立地代表氫原子、烷基或芳基。在R11、R12和R13中的碳原子的總數(shù)優(yōu)選10個或更多。在R11、R12和R13中,烷基和芳基各自可以帶有取代基。
烷基或芳基的取代基優(yōu)選氟原子、烷基、芳基、烷氧基、砜基或氨磺?;?,更優(yōu)選烷基、芳基、烷氧基、砜基或氨磺酰基。所述烷基可以為線性、支化或環(huán)狀的并且優(yōu)選具有1-25個,更優(yōu)選6-25個,還更優(yōu)選6-20個碳原子的烷基(例如甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、叔丁基、戊基、異戊基、叔戊基、己基、環(huán)己基、庚基、辛基、雙環(huán)辛基、壬基、金剛烷基、癸基、叔辛基、十一烷基、十二烷基、十三烷基、十四烷基、十五烷基、十六烷基、十七烷基、十八烷基、十九烷基、二十烷基)。所述芳基優(yōu)選具有6-30個,更優(yōu)選6-24個碳原子的芳基(例如苯基、聯(lián)苯基、三聯(lián)苯基、萘基、聯(lián)萘基、三苯基苯基)。
由式(1)表示的化合物的優(yōu)選實例列于如下,但是本發(fā)明并不限于這些具體實例。



由式(2)代表的化合物如下所述。
在該式中,R14代表烷基或芳基,R15和R16各自獨立地代表氫原子、烷基或芳基。所述烷基和芳基可以各自帶有取代基。
更優(yōu)選R14、R15和R16各自獨立地代表烷基或芳基。這里烷基可以為線性、支化或環(huán)狀的并且優(yōu)選具有1-20個,更優(yōu)選1-15個,最優(yōu)選1-12個碳原子的烷基。環(huán)烷基優(yōu)選環(huán)己基。芳基優(yōu)選具有6-36個,更優(yōu)選6-24個碳原子的芳基。
所述烷基和芳基可以各自帶有取代基。取代基優(yōu)選鹵原子(例如氯、溴、氟、碘)、烷基、芳基、烷氧基、芳氧基、酰基、烷氧羰基、芳氧羰基、酰氧基、氨磺?;⒘u基、氰基、氨基或酰胺基,更優(yōu)選鹵原子、烷基、芳基、烷氧基、芳氧基、氨磺?;蝓0坊?,還更優(yōu)選烷基、芳基、氨磺?;蝓0坊?。
由式(2)表示的化合物的優(yōu)選實例列于如下,但是本發(fā)明并不限于這些具體實例。








該類延遲降低劑具有降低光學各向異性的作用。
由于含有能夠使延遲降低的該化合物,通過使用防止?;w維素膜中的聚合物在面內(nèi)和厚度方向取向的所述化合物,可以令人滿意地降低光學各向異性,因此可以使Re接近零且可以使Rth為負。有利的是用于降低延遲的化合物與聚合物充分相容并且化合物本身不具有桿狀結(jié)構(gòu)或平面結(jié)構(gòu)。具體而言,在化合物具有多個平面官能團如芳基時,具有這些官能團的結(jié)構(gòu)不在相同平面內(nèi)而是以非平面方式是有利的。
用于本發(fā)明的延遲降低劑的含濕量優(yōu)選2%或更低。
(LogP值) 在本發(fā)明?;w維素膜的制備中,在所述能夠通過防止膜中?;w維素在面內(nèi)取向和厚度方向取向而使延遲降低的化合物中,優(yōu)選辛醇-水的分配系數(shù)(LogP值)為有0-7的化合物。優(yōu)選LogP值為7或更小的化合物,這因為與?;w維素的高相容性且不太產(chǎn)生白色混濁膜或模糊膜。此外,優(yōu)選LogP值為0或更大的化合物,這因為親水性不太高且?guī)缀醪皇挂阴@w維素膜的防水性變壞。更優(yōu)選LogP值為1-6,還更優(yōu)選為1.5-5。
辛醇-水的分配系數(shù)(LogP值)可以通過描述于JIP(日本工業(yè)標準)Z-7260-107(2000)的燒瓶振搖法測量。也可以通過計算化學技術(shù)或經(jīng)驗方法代替實際測量而對辛醇-水的分配系數(shù)(LogP值)進行估計。關(guān)于計算方法,例如優(yōu)選Crippen的破碎方法(參見J.Chem.Inf.Comput.Sci.,27,21(1987)),Viswanadhan的破碎方法(參見J.Chem.Inf.Comput.Sci.,29,163(1987))和Broto的破碎方法(參見Eur.J.Med.Chem.Chim.Theor.,19,71(1984)),更優(yōu)選Crippen的破碎方法(參見J.Chem.Inf.Comput.Sci.,27,21(1987))。在特定化合物的LogP值隨測量方法或計算方法而不同的情況下,無論是否化合物的LogP值在本發(fā)明范圍內(nèi),優(yōu)選通過Crippen的破碎方法進行判斷。
本發(fā)明的?;w維素膜優(yōu)選含有至少一種能夠使光學各向異性降低至滿足下式(a)和(b)范圍內(nèi)的化合物(延遲降低劑)。
(a)(Rth(A)-Rth(0))/A≤-1.0 (b)0.01≤A≤100 其中Rth(A)為含有A%能夠使Rth降低的化合物的膜的Rth(nm),Rth(0)為不含能夠使Rth降低的化合物的膜的Rth(nm),并且A是假定聚合物的固含量質(zhì)量為100時的化合物的質(zhì)量%。
式(a)和(b)優(yōu)選 (a1)(Rth(A)-Rth(0))/A≤-2.0 (b1)0.05≤A≤50, 更優(yōu)選 (a2)(Rth(A)-Rth(0))/A≤-3.0 (b2)0.1≤A≤20。
Rth為在25℃和60%RH下在590nm處的值。
<波長分散調(diào)節(jié)劑> 在本發(fā)明的?;w維素膜中,Re和Rth對波長的依賴性,即波長分散優(yōu)選較小。在本發(fā)明中,有效是指通過將能夠調(diào)節(jié)波長分散的化合物(下文中有時指“波長分散調(diào)節(jié)劑”)加入?;w維素膜中而使波長分散下降。
波長分散調(diào)節(jié)劑優(yōu)選能夠降低由下式(c)表示的Rth的波長分散ΔRth=|Rth(400)-Rth(700)|的化合物,并且本發(fā)明的?;w維素膜含有至少一種滿足下式(d)和(e)的該類化合物。
(c)ΔRth=|Rth(400)-Rth(700)| (d)(ΔRth(B)-ΔRth(0))/B≤-2.0 (e)0.01≤B≤30 其中ΔRth(B)為含有B%能夠調(diào)節(jié)Rth波長分散的化合物的膜的ΔRth(nm),ΔRth(0)為不含能夠調(diào)節(jié)Rth波長分散的化合物的膜的ΔRth(nm),并且B為假定聚合物的固含量質(zhì)量為100時的化合物的質(zhì)量%。
式(d)和(e)優(yōu)選為 (d1)(ΔRth(B)-ΔRth(0))/B≤-3.0 (e1)0.05≤B≤25 更優(yōu)選為 (d2)(ΔRth(B)-ΔRth(0))/B≤-4.0 (e2)0.1≤B≤20 波長調(diào)節(jié)劑優(yōu)選是在紫外區(qū)的吸收為200-400nm且使膜的ΔRe=|Re(400)-Re(700)|和ΔRth=|Rth(400)-Rth(700)|降低的化合物。由于含有至少一種該類化合物,可以更有效地調(diào)節(jié)?;w維素膜的Re和Rth的波長分散。
?;w維素膜通常的波長分散特性為其Re和Rth值在長波長側(cè)比在短波長側(cè)大。因此,需要使在短波長側(cè)的較小Re和Rth變大,從而平滑波長分散。另一方面,在紫外區(qū)的200-400nm具有吸收的化合物的波長分散特性為在短波長側(cè)的吸收比在長波長側(cè)大。在該化合物本身各向同性地存在于?;w維素膜內(nèi)時,假定化合物本身在短波長側(cè)的雙折射以及Re和Rth的波長分散大,這與吸收的波長分散類似。
因此,使用上述化合物可以調(diào)節(jié)?;w維素膜的波長分散Re和Rth,其中所述化合物在紫外區(qū)的200-400nm具有吸收且假定該化合物本身的Re和Rth的波長分散在短波長側(cè)更大。為此,需要所述能夠調(diào)節(jié)波長分散的化合物與聚合物固體內(nèi)容物充分且均勻相容。該化合物在紫外區(qū)的吸收帶為200-400nm,更優(yōu)選220-395nm,還更優(yōu)選240-390nm。
近來,在電視機、筆記本型個人電腦和移動終端等的液晶顯示器中要求用于液晶顯示器的光學元件優(yōu)異的透射率以在較少的電功率下增強亮度。為此,在將波長分散調(diào)節(jié)劑加入?;w維素膜的情況中,優(yōu)選使用具有優(yōu)異的光譜透射率。關(guān)于波長分散調(diào)節(jié)劑的光譜透射率,優(yōu)選在380nm波長處的光譜透射率為45-95%,并且在350nm波長處的光譜透射率優(yōu)選10%或更小。
在?;w維素膜制備中的濃液澆鑄和干燥過程中優(yōu)選波長分散調(diào)節(jié)劑為不揮發(fā)性,為此,其分子量優(yōu)選250-1000,更優(yōu)選260-800,還更優(yōu)選270-800,還更優(yōu)選300-800。只要分子量在該范圍內(nèi),化合物可以具有特殊的單體結(jié)構(gòu),或可以具有多個單體相連接的低聚物結(jié)構(gòu)或聚合物結(jié)構(gòu)。
波長分散調(diào)節(jié)劑的加入量基于聚合物的固體含量優(yōu)選為0.01-30重量%,更優(yōu)選0.1-20重量%,還更優(yōu)選0.2-10重量%。
可以獨立使用這些波長分散調(diào)節(jié)劑之一,或者以任意比例混合兩種或更多種化合物并使用。
此外,波長調(diào)節(jié)劑的含濕量優(yōu)選2%或更小。
優(yōu)選用于本發(fā)明的波長分散調(diào)節(jié)劑的具體實例包括基于苯并三唑的化合物、基于二苯酮的化合物、含氰基的化合物、基于羥二苯酮的化合物、基于水楊酸酯的化合物和基于鎳絡合物鹽的化合物,但是本發(fā)明并不限于這些化合物。
基于苯并三唑的化合物優(yōu)選由下式(101)表示的化合物 式(101)Q101-Q102-OH 其中,Q101代表含氮的芳雜環(huán),Q102代表芳環(huán)。
Q101代表含氮的芳雜環(huán)并且優(yōu)選五元至七元的含氮芳雜環(huán),更優(yōu)選五元或六元的含氮芳雜環(huán)。其實例包括咪唑、吡唑、三唑、四唑、噻唑、噁唑、硒唑、苯并三唑、苯并噻唑、苯并噁唑、苯并硒唑、噻二唑、噁二唑、萘噻唑、萘噁唑、氮雜苯并咪唑、嘌呤、吡啶、吡嗪、嘧啶、噠嗪、三嗪、三氮雜茚(triazaindene)和四氮雜茚(tetrazaindene)。在這些之中,還更優(yōu)選五元的含氮芳雜環(huán),尤其是咪唑、吡唑、三唑、四唑、噻唑、噁唑、苯并三唑、苯并噻唑、苯并噁唑、噻二唑和噁二唑,并且還更優(yōu)選苯并三唑。
由Q101代表的含氮芳雜環(huán)還可以帶有取代基,并且在下面所述的取代基T可用作該取代基。此外,在存在多個取代基時,這些取代基各自可以稠合以進一步形成環(huán)。
對由Q102代表的芳環(huán)沒有特別限制,并且可以是芳烴環(huán)或芳雜環(huán),但是優(yōu)選芳烴環(huán)。所述芳環(huán)還可以是單環(huán),或者還可與其它環(huán)形成稠環(huán)。
芳烴環(huán)優(yōu)選具有6-30個碳原子數(shù)的單環(huán)或雙環(huán)芳烴環(huán)(例如苯環(huán)、萘環(huán)),更優(yōu)選具有6-20個碳原子數(shù)的芳烴環(huán),還更優(yōu)選具有6-12個碳原子數(shù)的芳烴環(huán),還更優(yōu)選萘環(huán)或苯環(huán),最優(yōu)選苯環(huán)。
對芳雜環(huán)沒有特別限制,但是優(yōu)選含有氮原子或硫原子的芳雜環(huán)。芳雜環(huán)的具體實例包括噻吩、咪唑、吡唑、吡啶、吡嗪、噠嗪、三唑、三嗪、吲哚、吲唑、嘌呤、噻唑啉、噻唑、噻二唑、噁唑啉、噁唑、噁二唑、喹啉、異喹啉、2,3-二氮雜萘、亞萘基、喹喔啉、喹唑啉、噌啉、蝶啶、吖啶、菲咯啉、吩嗪、四唑、苯并咪唑、苯并噁唑、苯并噻唑、苯并三唑和四氮雜茚。在這些之中優(yōu)選吡啶、三嗪和喹啉。
Q102還可以帶有取代基,并且優(yōu)選以下取代基T。
取代基T的實例包括烷基(優(yōu)選具有1-20個,更優(yōu)選1-12個,還更優(yōu)選1-8個碳原子數(shù),例如甲基、乙基、異丙基、叔丁基、正辛基、正癸基、正十六烷基、環(huán)丙基、環(huán)戊基或環(huán)己基),烯基(優(yōu)選具有2-20個,更優(yōu)選2-12個,還更優(yōu)選2-8個碳原子數(shù),例如乙烯基、烯丙基、2-丁烯基或3-戊烯基),炔基(優(yōu)選具有2-20個,更優(yōu)選2-12個,還更優(yōu)選2-8個碳原子數(shù),例如炔丙基或3-戊炔基),芳基(優(yōu)選具有6-30個,更優(yōu)選6-20個,還更優(yōu)選6-12個碳原子數(shù),例如苯基、對甲苯基或萘基),取代或未取代的氨基(優(yōu)選具有0-20個,更優(yōu)選0-10個,還更優(yōu)選0-6個碳原子數(shù),例如氨基、甲氨基、二甲基氨基、二乙基氨基或二芐基氨基),烷氧基(優(yōu)選具有1-20個,更優(yōu)選1-12個,還更優(yōu)選1-8個碳原子數(shù),例如甲氧基、乙氧基或丁氧基),芳氧基(優(yōu)選具有6-20個,更優(yōu)選6-16個,還更優(yōu)選6-12個碳原子數(shù),例如苯氧基,2-萘氧基),酰基(優(yōu)選具有1-20個,更優(yōu)選1-16個,還更優(yōu)選1-12個碳原子數(shù),例如乙?;?、苯甲?;?、甲?;?、三甲基乙?;?,烷氧羰基(優(yōu)選具有2-20個,更優(yōu)選2-16個,還更優(yōu)選2-12個碳原子數(shù),例如甲氧基羰基、乙氧基羰基),芳氧羰基(優(yōu)選具有7-20個,更優(yōu)選7-16個,還更優(yōu)選7-10個碳原子數(shù),例如苯氧基羰基),酰氧基(優(yōu)選具有2-20個,更優(yōu)選2-16個,還更優(yōu)選2-10個碳原子數(shù),例如乙酰氧基或苯甲酰氧基),酰胺基(優(yōu)選具有2-20個,更優(yōu)選2-16個,還更優(yōu)選2-10個碳原子數(shù),例如乙酰胺基、苯甲酰胺基),烷氧酰胺基(優(yōu)選具有2-20個,更優(yōu)選2-16個,還更優(yōu)選2-12個碳原子數(shù),例如甲氧基酰胺基),芳氧基酰胺基(優(yōu)選具有7-20個,更優(yōu)選7-16個,還更優(yōu)選7-12個碳原子數(shù),例如苯氧基酰胺基),磺酰胺基(優(yōu)選具有1-20個,更優(yōu)選1-16個,還更優(yōu)選1-12個碳原子數(shù),例如甲磺酰胺基、苯磺酰胺基),氨磺?;?優(yōu)選具有0-20個,更優(yōu)選0-16個,還更優(yōu)選0-12個碳原子數(shù),例如氨磺?;?、甲基氨磺酰基、二甲基氨磺?;?、苯基氨磺?;?,氨基甲?;?優(yōu)選具有1-20個,更優(yōu)選1-16個,還更優(yōu)選1-12個碳原子數(shù),例如氨基甲?;?、甲基氨基甲酰基、二乙基氨基甲?;⒈交被柞;?,烷基硫基(優(yōu)選具有1-20個,更優(yōu)選1-16個,還更優(yōu)選1-12個碳原子數(shù),例如甲硫基、乙硫基),芳基硫基(優(yōu)選具有6-20個,更優(yōu)選6-16個,還更優(yōu)選6-12個碳原子數(shù),例如苯硫基),磺?;?優(yōu)選具有1-20個,更優(yōu)選1-16個,還更優(yōu)選1-12個碳原子數(shù),例如甲磺?;?、甲苯磺?;?,亞磺酰基(優(yōu)選具有1-20個,更優(yōu)選1-16個,還更優(yōu)選1-12個碳原子數(shù),例如甲亞磺酰基、苯亞磺?;?,脲基(優(yōu)選具有1-20個,更優(yōu)選1-16個,還更優(yōu)選1-12個碳原子數(shù),例如脲基、甲基脲基或苯基脲基),磷酰胺基(優(yōu)選具有1-20個,更優(yōu)選1-16個,還更優(yōu)選1-12個碳原子數(shù),例如二乙基磷酰胺基、苯基磷酰胺基),羥基,巰基,鹵原子(例如氟、氯、溴或碘),氰基,硫基,羧基,硝基,異羥肟酸基,亞磺基,聯(lián)氨基,亞氨基,雜環(huán)基(優(yōu)選具有1-30個,更優(yōu)選1-12個碳原子數(shù),雜原子的實例包括氮原子、氧原子和硫原子,雜環(huán)的具體實例包括咪唑基、吡啶基、喹啉基、呋喃基、哌啶基、嗎啉基、苯并噁唑基、苯并咪唑基或苯并噻唑基),甲硅烷基(優(yōu)選具有3-40個,更優(yōu)選3-30個,還更優(yōu)選3-24個碳原子數(shù),例如三甲基甲硅烷基、三苯基甲硅烷基)。
這些取代基各自還可以被取代。在存在兩個或更多個取代基時,可能的話,取代基可以相同或彼此不同并且可以相互連接以形成環(huán)。
式(101)優(yōu)選由下式(101-A)表示的化合物 式(101-A)
其中R101、R102、R103、R104、R105、R106、R107和R108各自獨立地代表氫原子或取代基。
R101、R102、R103、R104、R105、R106、R107和R108各自獨立地代表氫原子或取代基,并且對于取代基,可以將上述取代基T用作取代基。所述取代基各自可以還由其它取代基取代且取代基可以相互稠合以形成環(huán)結(jié)構(gòu)。
R101和R103各自優(yōu)選氫原子、烷基、烯基、炔基、芳基、取代或未取代氨基、烷氧基、芳氧基、羥基或鹵原子,更優(yōu)選氫原子、烷基、芳基、烷氧基、芳氧基或鹵原子,還更優(yōu)選氫原子或具有1-12個碳原子數(shù)的烷基,還更優(yōu)選具有1-12個碳原子數(shù)(優(yōu)選4-12個碳原子數(shù))的烷基。
R102和R104各自優(yōu)選氫原子、烷基、烯基、炔基、芳基、取代或未取代的氨基、烷氧基、芳氧基、羥基或鹵原子,更優(yōu)選氫原子、烷基、芳基、烷氧基、芳氧基或鹵原子,還更優(yōu)選氫原子或具有1-12個碳原子數(shù)的烷基,還更優(yōu)選氫原子或甲基,最優(yōu)選氫原子。
R105和R108各自優(yōu)選氫原子、烷基、烯基、炔基、芳基、取代或未取代的氨基、烷氧基、芳氧基、羥基或鹵原子,更優(yōu)選氫原子、烷基、芳基、烷氧基、芳氧基或鹵原子,還更優(yōu)選氫原子或具有1-12個碳原子數(shù)的烷基,還更優(yōu)選氫原子或甲基,最優(yōu)選氫原子。
R106和R107各自優(yōu)選氫原子、烷基、烯基、炔基、芳基、取代或未取代的氨基、烷氧基、芳氧基、羥基或鹵原子,更優(yōu)選氫原子、烷基、芳基、烷氧基、芳氧基或鹵原子,還更優(yōu)選氫原子或鹵原子,還更優(yōu)選氫原子或氯原子。
式(101)的化合物更優(yōu)選由下式(101-B)表示的化合物 式(101-B)
其中R101、R103、R106和R107具有與式(101-A)相同的意義,而且優(yōu)選范圍也相同。
由式(101)表示的化合物的實例如下列出,但是本發(fā)明并不限于這些具體實施例。


在這些基于苯并三唑的化合物之中,當所制備的酰化纖維素膜不含有分子量為320或更小的化合物時,由于保持性它是有利的。
用作波長分散調(diào)節(jié)劑的基于二苯酮的化合物優(yōu)選由下式(102)表示的化合物 式(102)
其中Q111和Q112各自獨立地代表芳環(huán),并且X111代表NR110(R110代表氫原子或取代基),氧原子或硫原子。
由Q111和Q112代表的芳環(huán)可以是芳烴環(huán)或者是芳雜環(huán)。所述芳環(huán)還可以是單環(huán)或者可以與其它環(huán)形成稠環(huán)。
由Q111和Q112代表的芳烴環(huán)優(yōu)選單環(huán)或雙環(huán)芳烴環(huán)(優(yōu)選具有6-30個碳原子數(shù))(例如苯環(huán)、萘環(huán)),更優(yōu)選具有6-20個碳原子數(shù)的芳烴環(huán),還更優(yōu)選具有6-12個碳原子數(shù)的芳烴環(huán),還更優(yōu)選苯環(huán)。
由Q111和Q112代表的芳雜環(huán)優(yōu)選是含有氧原子、氮原子和硫原子中至少一個的芳雜環(huán)。雜環(huán)的具體實例包括呋喃、吡咯、噻吩、咪唑、吡唑、吡啶、吡嗪、噠嗪、三唑、三嗪、吲哚、吲唑、嘌呤、噻唑啉、噻唑、噻二唑、噁唑啉、噁唑、噁二唑、喹啉、異喹啉、2,3-二氮雜萘、亞萘基、喹喔啉、喹唑啉、噌啉、蝶啶、吖啶、菲咯啉、吩嗪、四唑、苯并咪唑、苯并噁唑、苯并噻唑、苯并三唑和四氮雜茚。所述芳雜環(huán)優(yōu)選吡啶、三嗪或喹啉。
由Q111和Q112代表的芳環(huán)優(yōu)選芳烴環(huán),更優(yōu)選具有6-10個碳原子數(shù)的芳烴環(huán),還更優(yōu)選取代或未取代的苯環(huán)。
Q111和Q112各自還可以具有取代基,并且取代基優(yōu)選上述取代基T,但是羧酸、磺酸和季銨鹽不包括在取代基中??赡艿脑?,取代基可以相互鍵接以形成環(huán)狀結(jié)構(gòu)。
X111代表NR110(R110代表氫原子或取代基,至于取代基,可以應用取代基T)、氧原子或硫原子。當X111為NR110時,R110優(yōu)選?;蚧酋;?,并且這些取代基各自還可以被取代。X111優(yōu)選NR110或氧原子,更優(yōu)選氧原子。
關(guān)于取代基T,可以使用與式(101)相同的那些。
式(102)的化合物優(yōu)選由下式(102-A)代表的化合物 式(102-A)
其中R111、R112、R113、R114、R115、R116、R117、R118和R119各自獨立地代表氫原子或取代基。
R111、R112、R113、R114、R115、R116、R117、R118和R119各自獨立地代表氫原子或取代基,并且關(guān)于取代基,可以使用上述取代基T。所述取代基還可以由其他取代基取代并且可以相互稠合以形成環(huán)狀結(jié)構(gòu)。
R111、R112、R113、R114、R115、R116、R117、R118和R119各自優(yōu)選氫原子、烷基、烯基、炔基、芳基、取代或未取代的氨基、烷氧基、芳氧基、羥基或鹵原子,更優(yōu)選氫原子、烷基、芳基、烷氧基、芳氧基或鹵原子,還更優(yōu)選氫原子或具有1-12個碳原子數(shù)的烷基,還更優(yōu)選氫原子或甲基,最優(yōu)選氫原子。
R112優(yōu)選氫原子、烷基、烯基、炔基、芳基、取代或未取代的氨基、烷氧基、芳氧基、羥基或鹵原子,更優(yōu)選氫原子、具有1-20個碳原子數(shù)的烷基、具有0-20個碳原子數(shù)的氨基、具有1-12個碳原子數(shù)的烷氧基、具有6-12個碳原子數(shù)的芳氧基或羥基,還更優(yōu)選具有1-20個碳原子數(shù)的烷氧基,還更優(yōu)選具有1-12個碳原子數(shù)的烷氧基。
R117優(yōu)選氫原子、烷基、烯基、炔基、芳基、取代或未取代的氨基、烷氧基、芳氧基、羥基或鹵原子,更優(yōu)選氫原子、具有1-20個碳原子數(shù)的烷基、具有0-20個碳原子數(shù)的氨基、具有1-12個碳原子數(shù)的烷氧基、具有6-12個碳原子數(shù)的芳氧基或羥基,還更優(yōu)選氫原子或具有1-20個碳原子數(shù)的烷基(優(yōu)選具有1-12個碳原子數(shù)的烷基,更優(yōu)選具有1-8個碳原子數(shù)的烷基,還更優(yōu)選甲基),還更優(yōu)選甲基或氫原子。
式(102)代表的化合物更優(yōu)選由下式(102-B)代表的化合物 式(102-B)
其中R120代表氫原子、取代或未取代的烷基、取代或未取代的烯基、取代或未取代的炔基、或者取代或未取代的芳基。
R120代表氫原子、取代或未取代的烷基、取代或未取代的烯基、取代或未取代的炔基、或者取代或未取代的芳基,關(guān)于取代基,可以使用上述取代基T。
R120優(yōu)選是取代或未取代的烷基,更優(yōu)選具有5-20個碳原子的取代或未取代的烷基,還更優(yōu)選具有5-12個碳原子的取代或未取代的烷基(如正己基、2-乙基己基、正辛基、正癸基、正十二烷基、芐基),還更優(yōu)選具有6-12個碳原子的取代或未取代的烷基(例如2-乙基己基、正辛基、正癸基、正十二烷基、芐基)。
由式(102)表示的化合物可以通過描述于JP-A-11-12219中的方法合成。
由式(102)表示的化合物的具體實例列于如下,但是本發(fā)明并不限于這些具體實例。



用作波長分散調(diào)節(jié)劑的含氰基化合物優(yōu)選為由下式(103)表示的化合物 式(103)
其中,Q121和Q122各自獨立地代表芳環(huán),X121和X122各自代表氫原子或取代基,并且X121和X122中的至少一個代表氰基。
由Q121和Q122代表的芳環(huán)可以是芳烴環(huán)或芳雜環(huán)。另外,芳環(huán)可以是單環(huán)或者可以與其它環(huán)形成稠環(huán)。
所述芳烴環(huán)優(yōu)選是單環(huán)或雙環(huán)芳烴環(huán)(優(yōu)選具有6-30個碳原子數(shù))(例如苯環(huán)、萘環(huán)),更優(yōu)選具有6-20個碳原子數(shù)的芳烴環(huán),還更優(yōu)選具有6-12個碳原子數(shù)的芳烴環(huán),還更優(yōu)選苯環(huán)。
所述芳雜環(huán)優(yōu)選含有氮原子或硫原子的芳雜環(huán)。雜環(huán)的具體實例包括噻吩、咪唑、吡唑、吡啶、吡嗪、噠嗪、三唑、三嗪、吲哚、吲唑、嘌呤、噻唑啉、噻唑、噻二唑、噁唑啉、噁唑、噁二唑、喹啉、異喹啉、2,3-二氮雜萘、亞萘基、喹喔啉、喹唑啉、噌啉、蝶啶、吖啶、菲咯啉、吩嗪、四唑、苯并咪唑、苯并噁唑、苯并噻唑、苯并三唑和四氮雜茚。芳雜環(huán)優(yōu)選吡啶、三嗪或喹啉。
由Q121和Q122代表的芳環(huán)優(yōu)選芳烴環(huán),更優(yōu)選苯環(huán)。
Q121和Q122各自還可以帶有取代基,并且取代基優(yōu)選是取代基T。該取代基T與式(101)中的取代基T相同。
X121和X122各自代表氫原子或取代基,并且X121和X122中的至少一個為氰基。關(guān)于由X121和X122代表的取代基,可以應用上述取代基T。另外,由X121和X122代表的取代基可以由其它取代基取代并且X121和X122各自可以稠合形成環(huán)結(jié)構(gòu)。
X121和X122各自優(yōu)選氫原子、烷基、芳基、氰基、硝基、羰基、磺?;蚍茧s環(huán),更優(yōu)選氰基、羰基、磺酰基或芳雜環(huán),還更優(yōu)選氰基或羰基,還更優(yōu)選氰基或烷氧羰基(-C(=O)OR’(R’為具有1-20個碳原子數(shù)的烷基、具有6-12個碳原子數(shù)的芳基或其組合)。
式(103)的化合物優(yōu)選是由下式(103-A)表示的化合物 式(103-A)
其中R121、R122、R123、R124、R125、R126、R127、R128、R129和R130各自獨立地代表氫原子或取代基;并且X121和X122與式(103)具有相同意義且優(yōu)選范圍也相同。
R121、R122、R123、R124、R125、R126、R127、R128、R129和R130各自獨立地代表氫原子或取代基,并且關(guān)于取代基,可以應用上述取代基T。該取代基可以由其它取代基取代并且取代基可以相互稠合形成環(huán)結(jié)構(gòu)。原子、烷基、烯基、炔基、芳基、取代或未取代的氨基、烷氧基、芳氧基、羥基或鹵原子,更優(yōu)選氫原子、烷基、芳基、烷氧基、芳氧基或鹵原子,還更優(yōu)選氫原子或具有1-12個碳原子數(shù)的烷基,還更優(yōu)選氫原子或甲基,最優(yōu)選氫原子。
R123和R128各自優(yōu)選氫原子、烷基、烯基、炔基、芳基、取代或未取代的氨基、烷氧基、芳氧基、羥基或鹵原子,更優(yōu)選氫原子、具有1-20個碳原子數(shù)的烷基、具有0-20個碳原子數(shù)的氨基、具有1-12個碳原子數(shù)的烷氧基、具有6-12個碳原子數(shù)的芳氧基或羥基,還更優(yōu)選氫原子、具有1-12個碳原子數(shù)的烷基或具有1-12碳原子數(shù)的烷氧基,還更優(yōu)選氫原子。
式(103)的化合物更優(yōu)選由下式(103-B)表示的化合物 式(103-B)
其中R123和R128與式(103-A)具有相同的意義而且優(yōu)選范圍也相同;并且X123代表氫原子或取代基。
X123代表氫原子或取代基,并且關(guān)于取代基,可以應用上述取代基T。另外,可能的話,該取代基可以由其它取代基取代。X123優(yōu)選氫原子、烷基、芳基、氰基、硝基、羰基、磺酰基或芳雜環(huán),更優(yōu)選氰基、羰基、磺酰基或芳雜環(huán),還更優(yōu)選氰基或羰基,還更優(yōu)選氰基或烷氧羰基(-C(=O)OR”(R”為具有1-20個碳原子數(shù)的烷基、具有6-12個碳原子數(shù)的芳基或其組合)。
式(103)的化合物還更優(yōu)選由式(103-C)表示的化合物 式(103-C)
其中R123和R128與式(103-A)具有相同的意義而且優(yōu)選范圍也相同;并且R131代表具有1-20個碳原子數(shù)的烷基。
當R123和R128均為氫原子時,R131優(yōu)選具有2-12個碳原子數(shù)的烷基,更優(yōu)選具有4-12碳原子數(shù)的烷基,還更優(yōu)選具有6-12個碳原子數(shù)的烷基,還更優(yōu)選正辛基、叔辛基、2-乙基己基、正癸烷或正十二烷基,最優(yōu)選2-乙基己基。
當R123和R128均不是氫原子時,R131優(yōu)選具有20個或更少碳原子數(shù)的烷基并且使由式(103-C)表示的化合物的分子量為300或更大。
由式(103)表示的化合物可以通過Journal of American Chemical Society,第63卷,第3452頁(1941)中所述的方法合成。
由式(103)表示的化合物的具體實例列舉如下,但是本發(fā)明并不限于這些具體實例。



<膜性質(zhì)> [膜的厚度] 本發(fā)明?;w維素膜的厚度優(yōu)選30-120μm,并且在作為光學補償膜或偏振片保護膜的使用中,厚度優(yōu)選40-100μm,更優(yōu)選60-80μm,還更優(yōu)選65-75μm。
[膜的濁度] 本發(fā)明的?;w維素膜的濁度優(yōu)選0.01-2.0%,更優(yōu)選0.05-1.5,還更優(yōu)選0.1-1.0%。?;w維素膜的膜透明性是重要的。濁度通過在25℃和60%RH下依據(jù)JIS K-6714借助濁度計(由Suga Test Instruments Co.,Ltd.制造的HGM-2DP)測量本發(fā)明的酰化纖維素膜樣品(40mm×80mm)而確定。
[膜的卷曲性質(zhì)] 本發(fā)明?;w維素膜的卷曲值在MD方向(澆鑄方向)和TD方向(寬度方向)在25℃-10%%RH至25℃-80%RH的整個溫度-濕度條件下優(yōu)選為-21至+21/m,更優(yōu)選-15至+15/m,還更優(yōu)選-10至+10/m,還更優(yōu)選-5至+5/m。
本發(fā)明?;w維素膜的卷曲度優(yōu)選不隨溫度或濕度而變化,并且優(yōu)選在25℃-80%RH下的MD方向上的卷曲值CMD,80與在25℃-10%RH下的MD方向上的卷曲值CMD,10的差(CMD,80-CMD,10)為-14至+14/m,同時在25℃-80%RH下的TD方向上的卷曲值CTD,80與在25℃-10%RH下的TD方向上的卷曲值CTD,10的差(CTD,80-CTD,10)為-14至+14/m。差值(CMD,80-CMD,10)和(CTD,80-CTD,10)均更優(yōu)選-11至+11/m,還更優(yōu)選-7至+7/m,還更優(yōu)選-5至+5/m。
在25℃-10%RH下的卷曲值與在45℃-10%RH下的卷曲值的差在MD方向和TD方向上均優(yōu)選-19至+19/m,更優(yōu)選-14至+14/m,還更優(yōu)選-9至+9/m。此外,在25℃-60%RH下的卷曲值與在45℃-60%RH下的卷曲值的差和在25℃-80%RH下的卷曲值與在45℃-80%RH下的卷曲值的差在MD方向和TD方向上均優(yōu)選-19至+19/m,更優(yōu)選-14至+14/m,還更優(yōu)選-9至+9/m。
在將本發(fā)明?;w維素膜層壓在取向膜上作為偏振片保護膜的情況下,尤其在將極長的取向膜和極長的?;w維素膜有效地層壓,或例如在酰化纖維素膜的表面處理或涂敷光學各向異性層中使用長膜進行摩擦處理或者涂敷光學各向異性層或各種功能層時,若本發(fā)明的?;w維素膜的卷曲值不在上述范圍,則膜在處理中會有問題,并且可能出現(xiàn)膜破裂的問題。另外,膜與傳輸輥在膜的邊緣或中心部分強力接觸以造成雜質(zhì)在膜上的分散和吸附有所增加,因此,摩擦刮痕、點缺陷或涂敷條紋的頻率可能超過光學膜如光學補償膜的容許值。通過將卷曲值設(shè)定在上述范圍,可以防止層壓時氣泡進入取向膜并且可以降低在應用光學各向異性時易出現(xiàn)的斑點顏色失效。
卷曲值可以根據(jù)由American National Standard Institute規(guī)定的測量方法(ANSI/ASCPH1.29-1985)進行測量。
[膜的平衡濕量] 對于本發(fā)明的?;w維素膜的平衡濕量,在將膜用作偏振片的保護膜時,不論膜的厚度,在25℃和80%RH下的平衡濕量優(yōu)選為3.0%或更小以減弱與水溶性聚合物如聚乙烯醇的粘合性。在將膜用作光學補償膜的載體時,由于延遲對濕度變化的依賴性,平衡濕量優(yōu)選0.1-2.5%,更優(yōu)選1-2%。
對于水含量的測量方法,本發(fā)明的?;w維素膜樣品(7mm×35mm)通過Karl Fischer方法使用水含量測量計和樣品干燥裝置(由Mitsubishi ChemicalCorp.制造的CA-03和VA-05)來測量。濕量可以通過將水含量(g)除以樣品質(zhì)量(g)而計算。
[膜的透濕性] 本發(fā)明?;w維素膜在60℃的溫度和95%RH濕度的條件下根據(jù)Japanese Industrial Standards JIS Z0208測量的透濕性(膜厚度為80μm的透濕性)優(yōu)選100-2,000g/m2.24hr,更優(yōu)選200-1,200g/m2.24hr,還更優(yōu)選300-1,000g/m2.24hr。若透濕性超過2,000g/m2.24hr,則膜的Re值和Rth值對濕度的依賴性趨于超過0.3nm/%RH(絕對值)。另外,在光學各向異性層堆疊在本發(fā)明的酰化纖維素膜上以制備光學補償膜時,Re值和Rth值對濕度的依賴性非常趨于超過0.3nm/%RH(絕對值),并且這并不優(yōu)選。當將這種光學補償膜或偏振片引入液晶顯示器時,可能造成色彩變化或視角的降低。另一方面,若?;w維素膜的透濕性低于100g/m2.24hr,并且通過將膜層壓到取向膜的兩個表面等來制備偏振片時,?;w維素膜可以防止粘合劑的干燥從而造成粘合失效。
隨酰化纖維素膜的厚度越大,透濕性變小,并且隨膜的厚度越小,透濕性變大。因此,不論樣品厚度,需要通過將基數(shù)設(shè)定為80μm而轉(zhuǎn)化所測量的透濕性。通過厚度的轉(zhuǎn)化可以由下式確定(80μm-減低的透濕性=測量的透濕性×測量的膜厚度(μm)/80μm). 關(guān)于透濕性的測量方法,可以應用描述于Kobunshi Jikken Koza 4,Kobunshi no Bussei II(Polymer Experiment Lecture 4,Physical Properties II ofPolymers)第285-294頁,Kyoritsu Shuppan中的“Measurement of Amount ofWater Vapor Permeated(weighing method,thermometer method,water vaporpressure method,adsorption amount method)”。本發(fā)明的?;w維素樣品(70mmФ)分別在25℃-90%RH和60℃-95%RH下濕化調(diào)節(jié)24小時,通過透濕性檢測器(由Toyo Seiki Seisaku-Sho,Ltd.制造的KK-709007)根據(jù)JIS Z-0208來計算每單位面積的水含量(g/m2),并且由下式確定透濕性(透濕性=濕化調(diào)節(jié)之后的質(zhì)量-濕化調(diào)節(jié)之前的質(zhì)量)。
[膜的添加劑] 本發(fā)明的?;w維素膜可以含有各種添加劑。對添加劑沒有特殊限制,只要添加劑在確保了厚度方向的所需延遲的范圍內(nèi)。添加劑的實例除上述延遲降低劑(能夠降低光學各向異性的化合物)和波長分散調(diào)節(jié)劑外還包括其它光學性質(zhì)調(diào)節(jié)劑、紫外線抑制劑、增塑劑、劣化抑制劑和微細顆粒。
可以在制備的各個步驟中加入各種添加劑。對添加添加劑的時間沒有特殊限制。添加劑可以在聚合物溶液(下文有時稱為“濃液”)的制備步驟中加入。此時,添加添加劑和制備濃液的步驟可以作為濃液制備步驟的最后步驟。
[添加劑的含量] 本發(fā)明的?;w維素膜中的添加劑含量基于?;w維素優(yōu)選為0.3質(zhì)量%或更大,例如0.3-45質(zhì)量%。通過添加劑,膜的各種性質(zhì)如樹脂材料的光學或物理性質(zhì)可以在比僅含有樹脂材料的膜更寬的范圍內(nèi)進行調(diào)節(jié)。添加劑的含量更優(yōu)選為5-40質(zhì)量%,還更優(yōu)選10-30質(zhì)量%。如上所述,該化合物例如為光學各向異性降低劑、交聯(lián)的結(jié)構(gòu)成型化合物、波長分散調(diào)節(jié)劑、紫外線抑制劑、增塑劑、劣化抑制劑、微細顆粒、分離劑或紅外吸收劑。它們的分子量優(yōu)選3000或更小,更優(yōu)選2000或更小,還更優(yōu)選1000或更小。若這些化合物的總量小于0.3質(zhì)量%,則基礎(chǔ)樹脂的性質(zhì)作為單一材料易于占控制地位并且這引起光學性能或物理強度易于隨溫度或濕度的變化而波動的問題。另一方面,若這些化合物的總量超過45質(zhì)量%,則超過了化合物在?;w維素膜中相容的上限并且易于引起如在膜表面沉淀而造成膜的白色混濁(由膜滲出)的問題。
[添加劑在厚度方向的分布] 本發(fā)明的?;w維素膜基于構(gòu)成?;w維素膜的樹脂材料的質(zhì)量優(yōu)選含有0.3%或更多的至少一種分子量為3000或更小的化合物作為添加劑,并且通過將?;w維素膜在厚度方向除以10等份而形成的區(qū)域中,在除最外層外的8個區(qū)域中之一的添加劑量優(yōu)選為整個?;w維素膜的平均添加劑量(通過將膜的全部添加劑量除以10而得到的值)的80-120%。若添加劑分布以此方式是均勻的,則認為?;w維素膜的卷曲值不僅在正常溫度-正常濕度、低濕度或高濕度下而且在低溫或高溫下可以接近0,并且由于濕度或由于溫度變化的卷曲值波動可以減小。在每個區(qū)域中的添加劑量基于膜的平均量更優(yōu)選85-115%,還更優(yōu)選90-110%。
添加劑在厚度方向的分布可以使用由ION-TOF制造的TOF-SIMSIV(Au1+作為主要離子,25keV)評估。計算通過將在膜澆鑄時由載體表面至空氣表面(與載體表面相反的表面)的區(qū)域在厚度方向除以10等份而得到的每個層的添加劑強度,并且由計算值估計分布。在含有多種添加劑的情況下,計算每種添加劑的添加劑強度,計算整個膜中所含的添加劑量并根據(jù)其比例計算每層中添加劑的量。
[分離劑] 在樹脂材料中,例如在用于本發(fā)明的?;w維素膜中優(yōu)選加入分離劑以降低分離時的負荷。
關(guān)于分離劑,使用已知的表面活性劑是有效的。對表面活性劑沒有特殊限制,并且可以使用諸如磷酸型、磺酸型、羧酸型、非離子型或陽離子型的表面活性劑。這里可以使用的表面活性劑的實例包括描述于JP-A-61-243837中的那些。
對分離劑而言,JP-A-055501描述了通過將?;w維素溶于不含氯的溶劑而制備的酰化纖維素溶液,其中所述酰化纖維素溶液含有選自酸解離指數(shù)pKA為1.93-4.5的部分?;亩嘣?、堿金屬鹽和堿土金屬鹽,并且其中酰化纖維素溶液的白色混濁得以防止并改進了膜制備中的脫模性和膜的表面狀態(tài)。
順便提及,對分離劑而言,JP-A-2003-128838中描述了?;w維素濃液,其中基于酰化纖維素含有0.1-10質(zhì)量%的具有兩個或更多個能夠與至少一種活潑氫反應的基團的交聯(lián)劑,并且提高了剝離性、表面狀態(tài)和膜的強度。
此外,在JP-A-2003-165868中提出了通過加入添加劑而保證良好的透濕性和優(yōu)異的尺寸穩(wěn)定性的膜。
在本發(fā)明中,可以使用描述于這些專利公開中的分離劑。
[微細的消光劑顆粒] 在本發(fā)明的酰化纖維素膜中,優(yōu)選加入微細顆粒作為消光劑。用于本發(fā)明的微細顆粒的實例包括二氧化硅、二氧化鈦、氧化鋁、氧化鋯、碳酸鈣、滑石、粘土、煅燒的高嶺土、煅燒的硅酸鈣、水合硅酸鈣、硅酸鋁、硅酸鎂和磷酸鈣。在這些之中,優(yōu)選含硅的微細顆粒,由于給出低的濁度,更優(yōu)選二氧化硅。微細二氧化硅顆粒優(yōu)選平均初級粒徑為20nm或更小且表觀比重為70g/升或更大的微細顆粒。初級顆粒優(yōu)選具有小至5-16nm的平均直徑,這因為可以降低膜的濁度。表觀比重優(yōu)選90-200g/升或更大,更優(yōu)選100-200g/升或更大。隨表觀比重的增加,可以制備更高濃度的液體分散體并且由于濁度和聚集這是優(yōu)選的。
該微細顆粒通常形成平均粒徑為0.1-3.0μm的次級顆粒,并且在膜中該類顆粒作為初級顆粒的聚集體存在而在膜表面上形成了0.1-3.0μm的不規(guī)則。平均次級粒徑優(yōu)選為0.2-1.5μm,更優(yōu)選0.4-1.2μm,最優(yōu)選0.6-1.1μm。對于初級粒徑和次級粒徑,通過掃描電鏡觀測膜中的顆粒,并且將顆粒的圓形外切的直徑定義為粒徑。另外通過改變觀測點而觀測200顆粒并且將其平均值定義為平均粒徑。
所用的微細二氧化硅顆??梢詾槭匈彯a(chǎn)品如Aerosil R972、R972V、R974、R812、200、200V、300、R202、OX50和TT600(均由Nihon Aerosil Co.,Ltd.生產(chǎn))。微細氧化鋯顆粒例如以Aerosil R976或R811的商品名市購(均由NihonAerosil Co.,Ltd.生產(chǎn))并且可以使用這些。
在這些之中,優(yōu)選Aerosil 200V和Aerosil R972V,因為它們是平均初級粒徑為20nm或更小切表觀比重為70/g升或更大的微細二氧化硅顆粒,并且它們在保持?;w維素膜的低濁度時提供了使摩擦系數(shù)下降的高效果。
在本發(fā)明中,為了獲得含有小平均次級粒徑的顆粒的酰化纖維素膜,在制備微細顆粒液體分散體時可以使用幾種技術(shù)。例如在一種方法中,在攪拌下混合溶劑和微細顆粒以首先制備微細顆粒的液體分散體,將所得的微細顆粒液體分散體加入少量的分離制備的?;w維素溶液中,然后在攪拌下溶解,并且將所得溶液進一步與主要的?;w維素濃液混合。該制備方法由于確保了微細二氧化硅顆粒的良好分散性和幾乎不發(fā)生微細二氧化硅顆粒的再聚集而為優(yōu)選的。在另一個方法中,將少量?;w維素加入溶劑中,然后在攪拌下溶解,向其中加入微細顆粒并通過分配器使其分散以獲得加入微細顆粒的溶液,并且通過管線混合器將與加入微細顆粒的溶液與濃液完全混合。本發(fā)明并不限于這些方法,但是在將微細二氧化硅顆粒與溶劑等混合及分散時,二氧化硅的濃度優(yōu)選5-30質(zhì)量%,更優(yōu)選10-25質(zhì)量%,最優(yōu)選15-20質(zhì)量%。優(yōu)選更高的分散濃度,這因為加入量的液體濁度變低且改善了濁度和聚集。在最終的?;w維素濃液中,加入的消光劑的量優(yōu)選0.01-0.1g/m2、0.03-0.3g/m2、0.08-0.16g/m2。
關(guān)于這里所用的溶劑,優(yōu)選的低級醇的實例包括甲醇、乙醇、丙醇、異丙醇和丁醇。對除低級醇以外的溶劑沒有特殊限制,但是優(yōu)選使用在?;w維素膜形成中所用的溶劑。
[增塑劑、劣化抑制劑] 除延遲降低化合物、波長分散調(diào)節(jié)劑等,根據(jù)用途可以在各個制備步驟中將各種添加劑(例如增塑劑、紫外線抑制劑、劣化抑制劑和紅外吸收劑)加入本發(fā)明的?;w維素膜中。該添加劑可以為固體物質(zhì)或者為油狀產(chǎn)品。即對熔點或沸點沒有特殊限制。例如,可以使用熔點為20℃或更低的紫外吸收化合物與熔點為20℃或更高的紫外吸收化合物的混合物或者類似的增塑劑的混合物,并在這些描述于JP-A-2001-151901等之中。另外,紅外吸收染料例如描述于JP-A-2001-194522中。可以在濃液制備步驟的任何時間加入添加劑,或者可以將加入添加劑和制備濃液的步驟作為濃液制備步驟中的最后制備步驟。對每種材料的加入量沒有特殊限制,只要可以帶來其作用。在酰化纖維素膜由多層形成的情況下,添加劑的種類或加入量可以隨層而變化。這是公知的技術(shù),例如描述于JP-A-2001-151902中。優(yōu)選使用詳細描述于JIII Journalof Technical Disclosure,第2001-1745期,第16-22頁,Japan Institute of Inventionand Innovation(March 15,2001)中的材料。
[酰化纖維素膜的制備方法] (?;w維素溶液的制備) 本發(fā)明的酰化纖維素膜的制備方法如下所述。根據(jù)本發(fā)明的制備方法,可以合適地得到本發(fā)明的?;w維素膜,但是本發(fā)明的?;w維素膜并不限于此。
本發(fā)明的酰化纖維素膜通過溶液澆鑄法進行,并且可以使用常用于乙酰纖維素膜制備的溶液澆鑄成膜方法和裝置 用于制備本發(fā)明酰化纖維素膜的?;w維素溶液(濃液)為通過在25-95℃下使?;w維素和有機溶劑混合及溶解的步驟,在-55℃至20℃下冷卻溶液的步驟和在40-115℃下加熱而使冷卻材料再次溶解的步驟來制備。通過將酰化纖維素在溶解機器(容器)中溶解而制備的濃液儲存在儲存容器中以除去濃液中所含的起泡,由此可以最終制得濃液。
酰化纖維素的溶解過程假設(shè)如下。
在25-95℃下溶脹并溶解以后,通過冷卻形成微細晶體以利于有機溶劑滲透入例如具有小的?;〈磻俾实膱鏊?,并且通過隨后的加熱使微細晶體易于溶解,由此?;w維素的溶解態(tài)成為分子分散態(tài)。
由于使用由此溶解的酰化纖維素溶液,雜質(zhì)在膜中的數(shù)量可以落入希望的范圍內(nèi)并且澆鑄不均勻體的數(shù)量也可以落入希望的范圍內(nèi)。
關(guān)于優(yōu)選的溶解溫度,第一次加熱的溫度更優(yōu)選30-90℃,還更優(yōu)選40-85℃,冷卻溫度更優(yōu)選-50℃至10℃,還更優(yōu)選-50℃至0℃,并且再次加熱的溫度更優(yōu)選40-105℃,還更優(yōu)選45-95℃。
在本發(fā)明的?;w維素中,?;w維素的原料纖維素可以源自棉絨或木漿。此外,也可以使用源自棉絨的纖維素和源自木漿的纖維素的混合物,或者除棉絨或木漿以外的含有洋麻的纖維素等。
在溶解機器中,除?;w維素以外,可以使紫外吸收劑溶液、延遲調(diào)節(jié)劑溶液、波長分散調(diào)節(jié)劑、分離劑溶液、增塑劑溶液等首先混合。
將由此制備的濃液由濃液出料口通過壓力型定量齒輪泵運送,所述齒輪泵能夠例如通過旋轉(zhuǎn)數(shù)將液體以恒定量高度準確地供入,需要的話通過過量除去不溶物質(zhì),并且需要的話,在鑄模以前將預先制備的消光劑溶液、UV吸收劑溶液、延遲調(diào)節(jié)劑溶液、波長分散調(diào)節(jié)劑、分離劑溶液、增塑劑溶液等在管線內(nèi)混合。這些添加劑溶液的混合可以以連續(xù)方式進行。
制備的每個溶液,例如?;w維素主溶液和消光劑溶液優(yōu)選進行過濾以除去不溶物質(zhì)或聚集體,并且過濾可以在鑄模或管線內(nèi)混合每種添加劑溶液如消光劑溶液之前進行。只要可以控制雜質(zhì)的數(shù)量,優(yōu)選進行鑄模之前的過濾或管線內(nèi)混合之前的過濾之一或兩種過濾均進行。
(酰化纖維素溶液的有機溶劑) 優(yōu)選用作本發(fā)明的主溶劑的有機溶劑優(yōu)選為選自具有3-12個碳原子數(shù)的酯、醚、酮和具有1-7個碳原子數(shù)的鹵代烴的溶劑。所述酯、酮或醚可以具有環(huán)狀結(jié)構(gòu)。含有兩個或更多個酯、酮和醚官能團(即-O-、-CO-和-COO-)之一的官能團的化合物也可用作所述主溶劑,并且該化合物可含有其它官能團如醇羥基。在主溶劑含有兩種或更多種官能團的情況下,該溶劑的碳原子數(shù)若在所述含有這些官能團之一的化合物的范圍之內(nèi),溶劑的碳原子數(shù)可以是足夠的。
對本發(fā)明的?;w維素膜而言,可以將含氯的鹵代烴用作助溶劑,或者如JIII Journal of Technical Disclosure,第2001-1745期(12-16頁)所述將不含氯的溶劑用作主溶劑。在這方面,對本發(fā)明的?;w維素膜沒有特殊限制。
其它用于本發(fā)明的酰化纖維素溶液或膜的溶劑(包括溶解方法)描述于以下專利公開中并且這些為優(yōu)選的實施方案。溶劑例如描述于JP-A-2000-95876、JP-A-12-95877、JP-A-10-324774、JP-A-8-152514、JP-A-10-330538、JP-A-9-95538、JP-A-9-95557、JP-A-10-235664、JP-A-12-63534、JP-A-11-21379、JP-A-10-182853、JP-A-10-278056、JP-A-10-279702、JP-A-10-323853、JP-A-10-237186、JP-A-11-60807、JP-A-11-152342、JP-A-11-292988、JP-A-11-60752和JP-A-11-60752中。在這些專利發(fā)表中,不僅描述了優(yōu)選用于本發(fā)明?;w維素的溶劑而且描述了它們的物理性質(zhì)和一起存在的共存物質(zhì)的物理性質(zhì),并且這些也適用于本發(fā)明。
(濃液的透明性) 本發(fā)明的?;w維素溶液的濃液透明性優(yōu)選85%或更多,更優(yōu)選88%或更多,還更優(yōu)選90%或更多。在本發(fā)明中,證實各種添加劑充分溶解于?;w維素濃液中。關(guān)于計算濃液透明性的具體方法,將濃液傾注在1cm見方的玻璃池中,并且使用分光光度計(由Shimadzu Corp.制造的UV-3150)測量550nm處的吸收。單獨溶劑的吸收作為空白首先測量,?;w維素溶液的透明性由與空白吸收的比例而計算。
(澆鑄) 澆鑄溶液的方法例如包括由壓模將制得的濃液均勻擠出到環(huán)形金屬支撐體上的方法;使用刮刀的方法,其中借助刮刀調(diào)節(jié)澆鑄載金屬支撐體上的濃液的厚度;以及使用逆轉(zhuǎn)輥涂敷機的方法,其中借助逆向旋轉(zhuǎn)的涂敷機調(diào)節(jié)膜厚。在這些方法中,優(yōu)選使用壓模法的方法。壓模例如包括coat hunger型的壓模和T-塑模型的壓模,并且可以優(yōu)選使用所有這些。除上述方法外,可以使用各種已知的三乙酸纖維素溶液的澆鑄和成膜方法,并且通過考慮所用溶劑的沸點等的差別而設(shè)定條件可以得到與各個發(fā)表所述相同的效果。關(guān)于用于制備本發(fā)明?;w維素膜的環(huán)形金屬支撐體,使用由不銹鋼板制成的環(huán)形轉(zhuǎn)筒(drum)或帶(band),其表面通過鍍鉻進行鏡面加工或通過拋光進行加工至表面的粗糙度為0.05μm或更小。金屬支撐體的表面溫度通常為0-35℃。在冷卻-凝膠化澆鑄法中,表面溫度為-50℃至0℃,優(yōu)選-35℃至-3℃,更優(yōu)選-25℃至-5℃。關(guān)于用于制備本發(fā)明的?;w維素膜的壓模,在所述金屬支撐體上可以具有一個單元(unit)或者兩個或更多個單元。優(yōu)選使用一個或兩個單元。
在具有兩個或更多個單元的情況下,可以在各個壓模間將粘稠澆鑄溶液的量分為不同部分,或者可以將濃液通過多個精確的定量齒輪泵以各自比例供入壓模中。用于澆鑄的?;w維素溶液的溫度優(yōu)選-10℃至55℃,更優(yōu)選25-50℃。優(yōu)選使用比溶劑的沸點低5-15℃的溫度。?;w維素溶液的溫度在步驟的所有點可以相同,或者在步驟的不同點可以不同。在溫度變化的情況下,若在澆鑄以前的溫度在上述范圍內(nèi)即可。
可以優(yōu)選使用寬度為0.8-2.5m,長度為5-120m且厚度為0.8-3.5mm的環(huán)形金屬支撐體。澆鑄寬度為40cm至2.3m,并且金屬支撐體的移動速率(即澆鑄速率)可以為0.5-300m/min,該速率可以隨濃液的固含量、制成的膜的厚度、環(huán)形金屬支撐體的長度、支撐體溫度等而變化。
此外,在本發(fā)明中可以應用描述于JP-A-2001-129838、JP-A-2000-317960、JP-A-2000-301555、JP-A-2000-301558、JP-A-11-221833、JP-A-07-032391、JP-A-05-185445、JP-A-05-086212、JP-A-03-193316、JP-A-02-276607、JP-A-02-111511、JP-A-02-208650、JP-A-62-037113、JP-A-62-115035、JP-A-55-014201和JP-A-52-10362中的技術(shù)。
(多層澆鑄) ?;w維素溶液可以在作為金屬支撐體在光滑帶或轉(zhuǎn)筒上澆鑄單層溶液,或者可以以兩層或更多層澆鑄多個?;w維素溶液。在澆鑄多個酰化纖維素溶液的情況下,可以由在金屬支撐體前進方向帶有間隔物的多個澆鑄口澆鑄各個含有酰化纖維素的溶液以制備堆疊在另一個之上的膜,例如可以使用描述于JP-A-61-158414、JP-A-1-122419和JP-A-11-198285中方法。另外,可以從兩個澆鑄口澆鑄?;w維素溶液并且成膜,這可以通過例如描述于JP-B-60-27562(這里所用的術(shù)語“JP-B”指“經(jīng)審查的日本專利公開”)、JP-A-61-94724、JP-A-61-947245、JP-A-61-104813、JP-A-61-158413和JP-A-6-134933中的方法進行。另外,也可以使用描述于JP-A-56-162617中的?;w維素膜澆鑄方法,其中高粘度的?;w維素溶液流由低粘度的酰化纖維素溶液包圍并且將高粘度的?;w維素溶液和低粘度的?;w維素溶液同時擠出。這種澆鑄方法在使用高粘度溶液的冷卻-凝膠化澆鑄法中尤其優(yōu)選。將大量醇組分作為不良溶劑引入外測溶液而不引入內(nèi)側(cè)溶液的方法也是優(yōu)選的實施方案,所述方法描述于JP-A-61-94724和JP-A-61-94725中。此外,也可以使用兩個澆鑄口通過將澆鑄膜與第一個澆鑄口分離并在金屬支撐體上形成,并且在與金屬支撐體表面接觸的一側(cè)進行第二次澆鑄來制備膜,該方法例如描述于JP-B-44-20235中。對酰化纖維素的澆鑄溶液是否相同沒有特殊限制。為了賦予多層?;w維素以功能,可以根據(jù)功能從每個澆鑄口將?;w維素溶液擠出。還可以將?;w維素溶液與其它功能層(例如粘合劑層、染料層、抗靜電層、抗暈層、UV吸收層和取向?qū)?同時擠出。
常規(guī)的單層溶液具有必需擠出高濃度且高粘度酰化纖維素溶液以獲得所需膜厚的問題,并且由于酰化纖維素溶液的差穩(wěn)定性,形成了固體物質(zhì)造成了顆粒失敗或有缺陷的平面性。為了解決該問題,從澆鑄口澆鑄多個?;w維素溶液,由此可以將高粘度溶液同時擠出在金屬支撐體上,不僅提高了平面性以能夠制得具有優(yōu)異表面狀態(tài)的膜而且由于使用了厚的?;w維素溶液可以降低干燥負荷并可以提高膜的制備速度。在共澆鑄(co-casting)的情況下,對在內(nèi)側(cè)和外側(cè)上的層厚沒有特殊限制,但是外側(cè)上的厚度優(yōu)選占總膜厚的1-50%,更優(yōu)選2-30%。這里在共澆鑄三層或更多層的情況下,將與金屬支撐體接觸的層和與空氣側(cè)接觸的層的總厚度定義為外測上的厚度。在共澆鑄的情況下,具有層狀結(jié)構(gòu)的?;w維素膜也可以通過將具有不同濃度的上述添加劑的?;w維素溶液共澆鑄而制備,其中所述添加劑例如為延遲調(diào)節(jié)劑、波長分散調(diào)節(jié)劑、消光劑、分離劑、增塑劑和紫外吸收劑。例如可以制備具有外皮層/芯層/外皮層的?;w維素膜。此時,例如可以將消光劑以更大量引入外皮層中或者僅引入外皮層中。可以將增塑劑或紫外吸收劑以比外皮層大的量引入芯層中,或者可以僅引入芯層中。在芯層和外皮層之間的延遲調(diào)節(jié)劑、波長分散調(diào)節(jié)劑、增塑劑和紫外吸收劑的種類可以變化。例如可以將各個具有低揮發(fā)性的延遲調(diào)節(jié)劑、波長分散調(diào)節(jié)劑增塑劑和/或紫外吸收劑引入外皮層中,而將延遲調(diào)節(jié)劑、波長分散調(diào)節(jié)劑和各個具有優(yōu)異可塑性的增塑劑及具有優(yōu)異的紫外吸收性的紫外吸收劑加入芯層。僅將分離劑引入在金屬支撐體側(cè)上的外皮層也是優(yōu)選的實施方案。另外,可以將作為不良溶劑的醇以比芯層更大的量加入外皮層并且這對在冷卻-凝膠化法中將金屬支撐體冷卻并因此使溶液凝膠化是優(yōu)選的。在外皮層和芯層之間的Tg可以不同,并且芯層的Tg優(yōu)選低于外皮層的Tg。
優(yōu)選在澆鑄和分離(將于后面進行描述)之間進行干燥,從而當澆鑄膜的殘留溶劑量基于固體含量為220-100質(zhì)量%時,使殘留溶劑量的下降的平均速率為0.1-20質(zhì)量%/sec。在該范圍內(nèi),膜的表面粗糙體可以為適當值。殘留溶劑量的下降的平均速率更優(yōu)選1-18質(zhì)量%/sec,還更優(yōu)選1.2-15質(zhì)量%/sec,還更優(yōu)選1.5-12質(zhì)量%/sec. (分離) 然后通過干燥或冷卻使?jié)茶T在作為環(huán)形金屬支撐體的光滑帶或轉(zhuǎn)筒上的?;w維素溶液凝膠化,然后與支撐體分離。
從澆鑄至分離的時間優(yōu)選5-150秒,更優(yōu)選7-135秒,還更優(yōu)選8-120秒。
(冷卻-凝膠化) 關(guān)于在本發(fā)明中進行的冷卻-凝膠化,由于快速的干燥和極好的生產(chǎn)率,優(yōu)選使用描述于JP-A-62-115035中的冷卻-凝膠化方法。在該方法中,將金屬支撐體冷卻至0℃或更低,并且優(yōu)選通過在不會造成支撐體表面溫度升高的溫度和空氣流量下將干空氣吹2秒鐘或更長而進行干燥。根據(jù)該方法,由于主要通過冷卻或冷卻-凝膠化使粘度提高而賦予膜以自支持性質(zhì),從而甚至在膜具有高的殘留溶劑含量時也可以進行分離。分離時殘留溶劑的含量優(yōu)選80-300%,更優(yōu)選150-280%。分離時膜的溫度優(yōu)選-50℃至5℃,更優(yōu)選-25℃至0℃。在該方法中,可以縮短支撐體的一個表面需要干燥的時間,從而可以大大縮短總的干燥時間,因此實現(xiàn)了降低成本和環(huán)境負荷的較大作用。在冷卻-凝膠化澆鑄中,在許多情況下將轉(zhuǎn)筒用作金屬支撐體。通過將冷卻液密封在轉(zhuǎn)筒中可以有效地使液體膜進行冷卻和凝膠化。轉(zhuǎn)筒的外周長優(yōu)選2-20m,澆鑄塑料優(yōu)選0.5-300m/min。對每m的轉(zhuǎn)筒外周長的澆鑄速率更優(yōu)選2-20m/min,還更優(yōu)選5-15m/min。
(拉幅干燥) 在從支撐體分離膜的時候,將膜以支撐體速率的1.01-1.4倍拉伸。隨拉伸速度比例的增加,可以使在膜澆鑄方向上的模量變大。使分離膜干燥,所述膜的兩端由寬度調(diào)節(jié)裝置(例如拉幅裝置)固定而且例如如JP-A-62-115035所述調(diào)節(jié)膜的收縮或在膜寬度方向上拉伸膜。在寬度調(diào)節(jié)裝置的入口和出口的膜寬度的比例優(yōu)選0.75-1.4。當在寬度方向拉伸膜時,可以使寬度方向上的膜的模量大并且這是優(yōu)選的。通過在40-150℃下吹熱空氣而進行干燥。優(yōu)選將寬度調(diào)節(jié)裝置的內(nèi)部分為多個部分并從底部至高處順序改變干燥空氣的溫度。干燥速率的設(shè)定優(yōu)選應使拉伸區(qū)域中的殘留溶劑下降的平均速率為0.01-3質(zhì)量%/sec,更優(yōu)選0.03-2質(zhì)量%/sec。
(干燥,卷膜) 在膜中的殘留溶劑含量基于膜的固體含量成為20質(zhì)量%或更少以后,優(yōu)選將膜與寬度調(diào)節(jié)裝置分離并在100-150℃進一步干燥。在將通過寬度調(diào)節(jié)裝置而變形的兩邊部分切下以后,優(yōu)選將膜卷起并在兩端部壓花(knurling)。壓花的寬度為3-50mm,優(yōu)選5-30mm且高度為0.5-500μm,優(yōu)選1-200μm。壓花可以為單壓(single pressing)或雙壓(double pressing)。每卷的卷膜長度優(yōu)選100-10000m,更優(yōu)選500-6000m,還更優(yōu)選1000-4000m。
本發(fā)明酰化纖維素膜在切掉邊緣部分以后相接觸的軋輥的Ra(膜凹面體和凸面體的算術(shù)平均粗糙度)的表面粗糙體設(shè)為0.1-10μm,因此可以降低膜的刮痕。
(偏振片) 偏振片由起偏振器和兩個排列在起偏振器兩側(cè)的透明保護膜組成。本發(fā)明的?;w維素膜可以用作透明保護膜。本發(fā)明的?;w維素膜可以用于起偏振器的兩側(cè)上或者可以僅用于一側(cè)上。起偏振器例如包括基于碘的起偏振器、基于使用兩色染料的染料的起偏振器和基于多烯烴的起偏振器。基于碘的起偏振器和基于染料的起偏振器通常使用基于聚乙烯醇的膜制備。在將本發(fā)明的?;w維素膜用作起偏振器保護膜的情況下,優(yōu)選將酰化纖維素膜用于液晶單元側(cè)。對偏振片的制備方法沒有特殊限制并且可以通過常用方法生產(chǎn)。已知的方法為將得到的酰化纖維素膜用堿處理并使用完全皂化的聚乙烯醇的水溶液,通過將聚乙烯醇膜在碘溶液中浸漬并拉伸而將堿處理過的膜層壓到得到的偏振片的兩個表面上。代替堿處理,可以應用描述于JP-A-6-94915和JP-A-6-118232中的易于粘合的方法。用于將保護膜的處理表面層壓當偏振片上的粘合劑的實例包括基于聚乙烯醇的粘合劑如聚乙烯醇和聚乙烯醇縮丁醛,以及基于乙烯的橡膠如丙烯酸丁酯。偏振片由起偏振器和保護起偏振器的兩個表面的起偏振器保護膜組成。將偏振片保護膜進一步層壓在偏振片的一個表面上并且相反表面上層壓上分離膜。為了例如在偏振片的發(fā)貨或在產(chǎn)品檢查時保護偏振片而使用偏振片保護膜和分離膜。此時,為了保護偏振片表面而將保護膜層壓并在將偏振片層壓到液晶片上的表面的相反表面上使用。分離膜用于覆蓋粘附于液晶片的粘合劑層,并且在將偏振片層壓到液晶片上的表面上使用。
對將本發(fā)明的?;w維素膜層壓到偏振片上的方法中的與偏振片的光學軸的層壓角度沒有特殊限制。酰化纖維素膜的慢軸和偏振片的透射軸可以平行排列或者可以直角交叉或者可以以適當?shù)拈g角排列。
在本發(fā)明的偏振片中,在25℃和60RH%下的單片透射率TT、平行透射率PT、交叉透射率CT和極化度P優(yōu)選滿足下式(A)-(D)中的至少一個 (A)40.0≤TT≤45.0 (B)30.0≤PT≤40.0 (C)CT≤2.0 (D)95.0≤P 單片透射率TT、平行透射率PT和交叉透射率CT按該順序更優(yōu)選40.5≤TT≤45,32≤PT≤39.5和CT≤1.5,還更優(yōu)選41.0≤TT≤44.5,34≤PT≤39.0和CT≤1.3。極化度P優(yōu)選95.0%或更大,更優(yōu)選96.0或更大,還更優(yōu)選97.0%或更大。
在本發(fā)明的偏振片中,假設(shè)在波長λ處的交叉透射率為CT(λ),CT(380)、CT(410)和CT(700)優(yōu)選滿足下式(E)-(G)中的至少一個 (E)CT(380)≤2.0 (F)CT(410)≤1.0 (G)CT(700)≤0.5 它們更優(yōu)選CT(380)≤1.95,CT(410)≤0.9和CT(700)≤0.49,還更優(yōu)選CT(380)≤1.90,CT(410)≤0.8和CT(700)≤0.48。
在60℃和95RH%的條件下將本發(fā)明的偏振片靜置500小時時,交叉透射率的變化量ΔCT和極化度的變化量ΔP優(yōu)選滿足下式(J)和(K)中的至少一個 (J)-6.0≤ΔCT≤6.0 (K)-10.0≤ΔP≤0.0 (該變化量表示通過將測試以前的測量值減去測量以后的測量值而得到的值)。
它們更優(yōu)選-5.8≤ΔCT≤5.8和-9.5≤ΔP≤0.0,還更優(yōu)選-5.6≤ΔCT≤5.6和-9.0≤ΔP≤0.0。
在60℃和90RH%的條件下將本發(fā)明的偏振片靜置500小時時,交叉透射率的變化量ΔCT和極化度的變化量ΔP優(yōu)選滿足下式(H)和(i)中的至少一個 (H)-3.0≤ΔCT≤3.0 (i)-5.0≤ΔP≤0.0 在80℃的條件下將本發(fā)明的偏振片靜置500小時時,交叉透射率的變化量ΔCT和極化度的變化量ΔP優(yōu)選滿足下式(L)和(M)中的至少一個 (L)-3.0≤ΔCT≤3.0 (M)-2.0≤ΔP≤0.0 在380-780nm通過使用UV3100PC(由Shimadzu Corporation制造)測量單片透射率TT、平行透射率PT和叉透射率CT,并且將10次測量的平均值(在400-700nm的平均值)用于所有的TT、PT和CT。極化度P可以根據(jù)下式確定極化度(%)=100×{(平行透射率-交叉透射率)/(平行透射率+交叉透射率)}1/2。偏振片的耐久性測量以如下兩個模式進行,即(1)偏振片自身和(2)通過壓力敏感的粘合劑層壓到玻璃上的偏振片。在僅測量偏振片時,偏振片的結(jié)合應使本發(fā)明的?;w維素膜夾在兩個起偏振器之間,并且制備兩個具有相同交叉的樣品并測量。對于玻璃層壓模式,將偏振片層壓在玻璃上以使本發(fā)明的?;w維素膜在玻璃側(cè),并制備兩個樣品(約5cm×5cm)。通過將該樣品的膜側(cè)面對光源來測量單片透射率。測量兩個樣品并將所得值的平均值用作單片透射率。
[使用(光學補償膜)] 本發(fā)明的?;w維素膜可以用于多種應用,并且在用作液晶顯示器的光學補償膜時尤其有效。順便提及,光學補償膜指常用于液晶顯示器以補償相差的光學材料并且與延遲片、光學補償片等具有相同意義。光學補償膜具有雙折射性質(zhì)并且用于除去液晶顯示器的顯示屏的著色或用于改善視角性質(zhì)。本發(fā)明的酰化纖維素膜具有低的延遲并且不會造成無用的各向異性,并且在與具有雙折射的光學各向異性層結(jié)合使用時,僅光學各向異性層的光學性能可以顯示出。
因此,在將本發(fā)明的酰化纖維素膜用作液晶顯示器的光學補償膜的情況下,結(jié)合使用的光學各向異性層的Re和Rth優(yōu)選Re(590)=0-20nm且|Rth(590)|=0-400nm。在該范圍內(nèi),可以使用任何光學各向異性層。對使用本發(fā)明的酰化纖維素膜的液晶顯示器的液晶單元的光學性能和驅(qū)動系統(tǒng)沒有限制,并且可以結(jié)合使用任何作為光學補償膜所需的光學各向異性層。結(jié)合使用的光學各向異性層可以由含有液晶化合物的組合物形成或者可以由具有雙折射的聚合物膜形成。
液晶化合物優(yōu)選盤狀液晶化合物或桿狀液晶化合物。
(盤狀液晶化合物) 可用于本發(fā)明的盤狀液晶化合物的實例包括描述于多種出版物(例如C.Destrade等,Mol.Crysr.Liq.Cryst.,第71卷,第111頁(1981);Kikan KagakuSosetsu(Quarterly Chemistry Survey),第22期,“Ekisho no Kagaku(TheChemistry of Liquid Crystal)”,第5章和第10章,第2節(jié),Nippon KagakuKai(compiler)(1994);B.Kohne等,Angew.Chem.Soc.Chem.Comm.,第1794頁(1985);J.Zhang等,J.Am.Chem.Soc.,第116卷,第2655頁(1994))中的化合物。
在光學各向異性層中,優(yōu)選將盤狀液晶分子以取向態(tài)固定,最優(yōu)選通過聚合反應固定。盤狀液晶分子的聚合物描述于JP-A-8-27284中。為了通過聚合將盤狀液晶分子固定,需要將可聚合基團作為取代基連接到盤狀液晶分子的盤狀核心上。然而,若將可聚合基團直接連接于盤狀核心,則幾乎不可以在聚合反應中保持取向態(tài)。因此,在盤狀核心和可聚合基團之間引入連接基團。具有可聚合基團的盤狀液晶分子公開于JP-A-2001-4387中。
(桿狀液晶化合物) 可用于本發(fā)明的盤狀液晶化合物的實例包括偶氮甲堿、氧化偶氮、氰基聯(lián)苯、氰基苯基酯、苯甲酸酯、環(huán)己酸苯酯、氰基苯基環(huán)己烷、氰基取代的苯基嘧啶、烷氧基取代的苯基嘧啶、苯基二噁烷、二苯乙炔和烯基環(huán)己基苯基氰。除這些低分子的液晶化合物,也可以使用高分子液晶化合物。
在光學各向異性層中,優(yōu)選將桿狀液晶分子以取向態(tài)固定,最優(yōu)選通過聚合反應進行固定。可用于本發(fā)明的可聚合桿狀液晶化合物的實例包括描述于Makromol.Chem.,第190卷,第2255頁(1989),Advanced Materials第5卷,第107頁(1993),美國專利4,683,327、5,622,648和5,770,107,國際公開(WO)95/22586、95/24455、97/00600、98/23580和98/52905,JP-A-1-272551,JP-A-6-16616,JP-A-7-110469,JP-A-11-80081和JP-A-2001-328973。
(包含聚合物膜的光學各向異性層) 如上所述,光學各向異性層可以由聚合物膜形成。聚合物膜由能夠顯示光學各向異性的聚合物形成。該類聚合物的實例包括聚烯烴(例如聚乙烯、聚丙烯、基于降冰片烯的聚合物)、聚碳酸酯、polyarylate、聚砜、聚乙烯醇、聚甲基丙烯酸酯、聚丙烯酸酯和纖維素酯(例如三乙酸纖維素、二乙酸纖維素)。另外可以使用該類聚合物的共聚物或這些聚合物的混合物。
聚合物膜的光學各向異性優(yōu)選通過拉伸得到。拉伸優(yōu)選單軸拉伸或雙軸拉伸。更具體而言,優(yōu)選利用兩個或更多個輥的圓周速度差的縱向單軸拉伸、通過夾住兩邊而在寬度方向拉伸聚合物膜的拉幅拉伸或使用這些組合的雙軸拉伸。還優(yōu)選使用兩個或更多個聚合物膜片以使包含兩個或更多個聚合物膜片的整個膜的光學性質(zhì)滿足上述條件。聚合物膜優(yōu)選通過溶劑澆鑄法制備以降低雙折射的不均勻體。聚合物膜的厚度優(yōu)選20-500μm,最優(yōu)選40-100μm. (液晶顯示器的構(gòu)成實例) 在將本發(fā)明的?;w維素膜用作光學補償膜的情況下,包含?;w維素膜的光學補償膜的偏振元件的透射軸和慢軸可以以任意角度排列。液晶顯示器包括在兩個電極基底之間的帶有液晶的液晶單元,其構(gòu)成應使兩個偏振元件排列在液晶單元的兩側(cè)上并且使至少一個光學補償膜排列在液晶單元和偏振元件之間。
液晶單元的液晶層通常通過將間隔物置于兩個基底之間并使液晶被所形成的空間包圍而形成。透明電極層作為含有導電物質(zhì)的透明膜在基底上形成。在液晶單元中,還可以具有氣體阻擋層、硬殼層和底漆層(用于透明電極層的粘合)。這些層通常在基底上。液晶單元的基底的厚度通常為50μm至2mm。
(液晶顯示器的種類) 本發(fā)明的?;w維素膜可以用于多種顯示模式的液晶單元中。還提出了多種顯示模式如TN(扭曲向列型)、IPS(面內(nèi)轉(zhuǎn)變型)、FLC(鐵電型液晶)、AFLC(反鐵電型液晶)、OCB(光學補償彎曲型)、STN(超扭曲向列型)、VA(垂直排列型)、ECB(電控雙折射型)和HAN(混合排列向列型)。本發(fā)明的?;w維素膜對任何顯示模式的液晶顯示器是有效的并且也對透過型、反射型或透過反射型的任何液晶顯示器是有效的。
(TN型液晶顯示器) 本發(fā)明的?;w維素膜可以用作含有TN模式液晶單元的TN型液晶顯示器中的光學補償片載體或者偏振片的保護膜。TN模式的液晶單元和TN型液晶顯示器是公知的。用于TN型液晶顯示器的光學補償片描述于JP-A-3-9325、JP-A-6-148429、JP-A-8-50206、JP-A-9-26572和Mori等的文章(Jpn.J.Appl.Phys.,第36卷,第143頁(1997),Jpn.J.Appl.Phys.,第36卷,第1068頁(1997))中。
(STN型液晶顯示器) 本發(fā)明的?;w維素膜可以用作含有STN模式液晶單元的STN型液晶顯示器中的光學補償片載體或者偏振片的保護膜。在STN型液晶顯示器中,通常使液晶單元中的桿狀液晶分子扭曲90-360°,并且折光指數(shù)各向異性(Δn)與桿狀液晶分子的間隙(d)的乘積(Δnd)為300-1500nm。用于STN型液晶顯示器的光學補償片描述于JP-A-2000-105316。
(VA型液晶顯示器) 本發(fā)明的?;w維素膜有利地用作含有VA模式液晶單元的VA型液晶顯示器中的光學補償片載體或者偏振片的保護膜。優(yōu)選將用于VA型液晶顯示器的光學補償片調(diào)節(jié)至Re延遲值為0-150nm且Rth延遲值為70-400nm。Re延遲值更優(yōu)選20-70nm。在將兩個光學各向異性聚合物膜的片用于VA型液晶顯示器的情況下,膜的Rth延遲值優(yōu)選70-250nm。在將一個光學各向異性聚合物膜的片用于VA型液晶顯示器的情況下,膜的Rth延遲值優(yōu)選150-400nm。VA型液晶顯示器可以使用定向分離體系(orientation-divided system),該系統(tǒng)例如描述于JP-A-10-123576。
(IPS型液晶顯示器和ECB型液晶顯示器) 本發(fā)明的酰化纖維素膜尤其有利地用作含有IPS模式液晶單元的IPS型液晶顯示器和含有ECB模式液晶單元的ECB型液晶顯示器的光學補償片載體或者偏振片的保護膜。這些模式為在暗顯示時間下使液晶材料近乎平行排列的模式,其中在未施加電壓的狀態(tài)下液晶分子與基底平面平行排列以提供暗顯示。在這些模式中,使用本發(fā)明的酰化纖維素膜的偏振片使得視角增大且提高了對比度。在這些模式中,優(yōu)選將偏振片保護膜和排列在保護層與液晶單元之間的光學各向異性層的延遲值設(shè)為液晶層的Δn·d值(折光指數(shù)差×厚度)的2倍或更小且優(yōu)選將Rth值的絕對值|Rth|設(shè)為25nm或更小,更優(yōu)選20nm或更小,還更優(yōu)選15nm或更小。因此,有利地使用本發(fā)明的酰化纖維素膜。
(OCB型液晶顯示器和HAN型液晶顯示器) 本發(fā)明的酰化纖維素膜還有利地用作含有OCB模式液晶單元的OCB型液晶顯示器和含有HAN模式液晶單元的HAN型液晶顯示器中的光學補償片載體或者偏振片的保護膜。在用于OCB型液晶顯示器或HAN型有液晶顯示器的光學補償片中,具有最小延遲絕對值的方向優(yōu)選既不在光學補償片的平面中,也不在光學補償片的垂直方向中。用于OCB型液晶顯示器或HAN型有液晶顯示器的光學補償片的光學性質(zhì)也通過光學各向異性層的光學性質(zhì)、載體的光學性質(zhì)及光學各向異性層和載體的結(jié)構(gòu)而確定。用于OCB型液晶顯示器或HAN型有液晶顯示器的光學補償片描述于JP-A-9-197397和Mori等的文章(Jpn.J.Appl.Phys.,第38卷,第2837頁(1999))中。
(反射式液晶顯示器) 本發(fā)明的?;w維素膜還有利地用作TN型、STN型、HAN型或GH(客體-主體)型反射式液晶顯示器中的光學補償片載體或者偏振片的保護膜。這些顯示模式已經(jīng)長時間為熟知。TN型反射式液晶顯示器描述于JP-A-10-123478、WO9848320和日本專利3022477中,并且用于反射式液晶顯示器的光學補償片描述于WO00-65384中。
(其它液晶顯示器) 本發(fā)明的?;w維素膜還有利地用作含有ASM(軸對稱排列的小池)模式液晶單元的ASM型液晶顯示器中的光學補償片載體或者偏振片的保護膜。ASM型液晶單元的特征在于池的厚度通過可調(diào)節(jié)位置的樹脂間隔物而保持。其它性質(zhì)與TN模式液晶單元相同。ASM模式液晶單元和ASM型液晶顯示器描述于Kume等的文章(Kume等,SID 98 Digest,1089(1998))中。
(硬殼膜、防眩膜、抗反射膜) 本發(fā)明的?;w維素膜也優(yōu)選用于硬殼膜、防眩膜或抗反射膜。硬殼膜、防眩膜和抗反射膜之一或全部可以在本發(fā)明的?;w維素膜的一個表面上或兩個表面上,從而加強LCD、PDP、CRT、EL等的平板顯示的可見度。這些防眩膜和抗反射膜的優(yōu)選實施方案詳細描述于JIII Journal ofTechnical Disclosure,第2001-1745期,第54-57頁,Japan Institute ofInvention and Innovation(2001年3月15日)中,并且也優(yōu)選使用本發(fā)明的?;w維素膜。
[實施例] 以下將參考實施例更詳細地說明本發(fā)明,但是本發(fā)明并不限于此。
在本發(fā)明中,?;w維素膜的性質(zhì)評價如下進行。
在將樣品(30mm×40mm)在25℃-60RH%下濕化調(diào)節(jié)2小時后測量面內(nèi)延遲值Re和厚度方向的延遲值Rth。Re(590)通過在KOBRA 21ADH自動雙折射計(由Oji Test Instruments制造)使波長為590nm的光以垂直方向入射于膜上而測量。另外,Rth(590)通過將基于上述Re(590)的平均折光指數(shù)和膜厚度以及延遲值輸入而計算,其中所述延遲值通過使590nm的光入射而同時將樣品以面內(nèi)慢軸為傾斜軸以10°的幅度由與膜垂直方向為0°至50°傾斜而測量。
平面性通過基于JIS B0601-1994由表面粗糙計測量膜表面凹面體和凸面體的最大高度(Ry)和表面凹面體和凸面體間的平均距離而測量。
[實施例1] (酰化纖維素溶液的制備) 將如下所示的組合物加入混合塔中并且攪拌以混合各組分。在93℃下將混合物攪拌溶解3小時。將塔的內(nèi)部以2℃/min冷卻至5℃,并且在2小時后加熱至70℃,并再次攪拌溶液,然后通過齒輪泵供入熱交換器中。將該溶液在73℃的溫度下放置10分鐘,然后通過熱交換器冷卻至35℃,并且通過平均孔徑為47μm的濾紙進一步過濾。緩慢發(fā)生堵塞。此外,將溶液通過孔徑為10μm的金屬網(wǎng)過濾器過濾以制備乙酸纖維素溶液(LA1),并將所得溶液儲存于存放槽中。
<乙酸纖維素溶液(LA1)的組成> ?;w維素(源自棉絨,乙?;〈?.94 100質(zhì)量份 (?;〈?.94),粘度6%,343mPa.s, 含濕量2.8%) 二氯甲烷 433質(zhì)量份 乙醇 75質(zhì)量份 能夠降低延遲的化合物(A19)(純度98.0%, 12質(zhì)量份 含濕量1.4%) 檸檬酸乙酯0.003質(zhì)量份 (消光劑溶液的制備) 在攪拌下將20質(zhì)量份的平均粒徑為16nm的二氧化硅顆粒(由NihonAerosil Co.,Ltd.生產(chǎn)的AEROSIL R972)和80質(zhì)量份的甲醇徹底混合以制備二氧化硅顆粒液體分散體。將該液體分散體與如下所示的組合物一起加入分散器中并再攪拌30分鐘或更長時間以溶解各組分,并且通過平均孔徑為20μm的非織物過濾器將所得溶液過濾以制備消光劑溶液(LC1)。
<消光劑溶液(LC1)的組成> 平均粒徑為16nm的二氧化硅顆粒液體分散體 12.0質(zhì)量份 二氯甲烷68.5質(zhì)量份 乙醇11.8質(zhì)量份 ?;w維素溶液(LA1) 11.3質(zhì)量份 (添加劑溶液的制備) 制備具有如下組成的液體并且通過平均孔徑為47μm的濾紙過濾以制備添加劑溶液(LD1)。
<添加劑溶液(LD1)的組成> 波長分散調(diào)節(jié)劑(UV-102) 7.3質(zhì)量份 二氯甲烷55.3質(zhì)量份 乙醇9.5質(zhì)量份 酰化纖維素溶液(LA1) 12.8質(zhì)量份 (本發(fā)明?;w維素膜(F1)的制備) 將76.2質(zhì)量份的?;w維素溶液(LA1)、1.8質(zhì)量份的消光劑溶液(LC1)和2.6質(zhì)量份的添加劑溶液(LD1)在靜態(tài)混合機中進行混合并且均勻澆鑄在表面溫度為20℃的不銹鋼帶上。此時,將LA1溶液在存放槽中儲存36小時。通過將殘留溶劑量由220質(zhì)量%降至100質(zhì)量%所需的干燥時間設(shè)為40秒且使殘留溶劑含量變?yōu)橹敝?0-50%而將澆鑄膜進行干燥,然后以60m/min的速率將膜從不銹鋼帶上分離并固定在拉幅機中。由澆鑄至分離的時間為60秒。將拉幅機中的干燥溫度由70℃逐漸變?yōu)?30℃。干燥速率為0.2質(zhì)量%/sec。使拉幅機出口處的膜寬度為入口處膜寬度的1.01倍。將離開拉幅機的膜在130-140℃下進一步干燥并且以62m/min的速率卷起。以此方式,得到厚度為80μm的?;w維素膜(F1)。切下邊緣以后的軋輥的表面粗糙體為0.3μm。
取下時的殘留溶劑量為0.07%。
膜在590nm波長下的光束透過率為91.6%,膜的表面粗糙體Ry為0.6μm,并且表面凹面體和凸面體之間的平均距離為217μm。膜中心的Re(590)延遲為1.2nm,并且Rth(590)延遲為-2nm。當在澆鑄方向上通過取1m的樣品而進行測量時,膜中長軸為50-200μm的雜質(zhì)的數(shù)量為2,并且每m2的雜質(zhì)數(shù)量為1.4個/m2。
[實施例2] (?;w維素溶液的制備) 將如下所示的組合物加入混合塔中并且攪拌以混合各組分。在33℃下將混合物攪拌溶解6小時。將塔的內(nèi)部以2℃/min冷卻至5℃,并且在2小時后加熱至90℃,并再次攪拌溶液,然后通過齒輪泵供入熱交換器中。將該溶液在93℃的溫度下放置10分鐘,然后通過熱交換器冷卻至35℃,并且通過平均孔徑為47μm的濾紙進一步過濾。緩慢堵塞。此外,將溶液通過孔徑為10μm的金屬網(wǎng)過濾器過濾以制備乙酸纖維素溶液(LA2),并將所得溶液儲存于存放槽中。
<乙酰纖維素溶液(LA2)的組成> ?;w維素(源自木漿,乙?;〈?100質(zhì)量份 2.92(?;〈?.92),粘度6%,313mPa.s, 含濕量2.2%) 二氯甲烷438質(zhì)量份 甲醇70質(zhì)量份 1-丁醇 4質(zhì)量份 能夠降低延遲的化合物(A19)(純度98.0%,12質(zhì)量份 含濕量1.4%) 檸檬酸乙酯 0.003質(zhì)量份 (消光劑溶液的制備) 消光劑溶液(LC2)以與實施例1中相同的方式制備,不同之處為按如下改變了液體分散體的組成。
<消光劑溶液(LC2)的組成> 平均粒徑為16nm的二氧化硅顆粒液體分散體 12.0質(zhì)量份 二氯甲烷 76.6質(zhì)量份 甲醇 3.7質(zhì)量份 1-丁醇 0.8質(zhì)量份 酰化纖維素溶液(LA2)11.3質(zhì)量份 (添加劑溶液的制備) 制備具有如下組成的液體并且通過平均孔徑為47μm的濾紙過濾以制備添加劑溶液(LD2)。
<添加劑溶液(LD2)的組成> 波長分散調(diào)節(jié)劑(UV-102) 7.3質(zhì)量份 二氯甲烷 55.2質(zhì)量份 甲醇9.6質(zhì)量份 1-丁醇 0.6質(zhì)量份 酰化纖維素溶液(LA2) 12.8質(zhì)量份 (本發(fā)明?;w維素膜(F2)的制備) 將76.2質(zhì)量份的?;w維素溶液(LA2)、1.8質(zhì)量份的消光劑溶液(LC2)和2.6質(zhì)量份的添加劑溶液(LD2)在靜態(tài)混合機中進行混合并且均勻澆鑄在表面溫度為20℃的不銹鋼帶上。此時,將LA2溶液在存放槽中儲存36小時。通過將殘留溶劑量由220質(zhì)量%降至100質(zhì)量%所需的干燥時間設(shè)為40秒且使殘留溶劑含量變?yōu)橹敝?0-50%而將澆鑄膜進行干燥,然后以60m/min的速率將膜從不銹鋼帶上分離并固定在拉幅機中。由澆鑄至分離的時間為60秒。將拉幅機中的干燥溫度由70℃逐漸變?yōu)?30℃。干燥速率為0.2質(zhì)量%/sec。使拉幅機出口處的膜寬度為入口處膜寬度的1.01倍。將離開拉幅機的膜在130-140℃下進一步干燥并且以62m/min的速率卷起。以此方式,得到厚度為70μm的?;w維素膜(F2)。切下邊緣以后的軋輥的表面粗糙體為0.3μm。
膜在590nm波長下的光束透過率為92.8%,膜的表面粗糙體Ry為2.6μm,并且表面凹面體和凸面體之間的平均距離為91μm。膜中心的Re延遲為1.2nm,并且Rth延遲為-5nm。當在澆鑄方向上通過取1m的樣品而進行測量時,膜刮痕數(shù)為1,并且每m的膜刮痕數(shù)為1.0個/m。
[實施例3] (?;w維素溶液的制備) 將如下所示的組合物加入混合塔中并且攪拌以混合各組分。在83℃下將混合物攪拌溶解3小時。將塔的內(nèi)部以2℃/min冷卻至5℃,并且在2小時后加熱至80℃,并再次攪拌溶液,然后通過齒輪泵供入熱交換器中。將該溶液在83℃的溫度下放置10分鐘,然后通過熱交換器冷卻至35℃,并且通過平均孔徑為47μm的濾紙進一步過濾。緩慢堵塞。此外,將溶液通過孔徑為10μm的金屬網(wǎng)過濾器過濾以制備乙酸纖維素溶液(LA3),并將所得溶液儲存于存放槽中。
<乙酰纖維素溶液(LA3)的組成> ?;w維素(源自棉絨,乙?;〈? 60質(zhì)量份 2.94(?;〈?.94),粘度6%,343mPa.s, 含濕量2.3%) ?;w維素(源自木漿,乙?;〈? 40質(zhì)量份 2.91(?;〈?.91),粘度6%,243mPa.s, 含濕量2.5%) 二氯甲烷 391質(zhì)量份 甲醇 70質(zhì)量份 1-丁醇 15質(zhì)量份 能夠降低延遲的化合物(A-19)(純度98.0%,12質(zhì)量份 含濕量1.3%) 檸檬酸乙酯 0.003質(zhì)量份 (消光劑溶液的制備) 消光劑溶液(LC3)以與實施例1中相同的方式制備,不同之處為按如下改變了液體分散體的組成。
<消光劑溶液(LC3)的組成> 平均粒徑為16nm的二氧化硅顆粒液體分散體12.0質(zhì)量份 二氯甲烷 67.3質(zhì)量份 甲醇 12.0質(zhì)量份 1-丁醇2.4質(zhì)量份 ?;w維素溶液(LA3) 11.3質(zhì)量份 (添加劑溶液的制備) 制備具有如下組成的液體并且通過平均孔徑為47μm的濾紙過濾以制備添加劑溶液(LD3)。
<添加劑溶液(LD3)的組成> 波長分散調(diào)節(jié)劑(UV-102) 7.3質(zhì)量份 二氯甲烷 53.8質(zhì)量份 甲醇 9.7質(zhì)量份 1-丁醇 2.0質(zhì)量份 ?;w維素溶液(LA3)12.8質(zhì)量份 (本發(fā)明?;w維素膜(F3)的制備) 將76.2質(zhì)量份的?;w維素溶液(LA3)、1.8質(zhì)量份的消光劑溶液(LC3)和2.6質(zhì)量份的添加劑溶液(LD3)在靜態(tài)混合機中進行混合并且均勻澆鑄在表面溫度為20℃的不銹鋼帶上。此時,將LA3溶液在存放槽中儲存36小時。通過將殘留溶劑量由220質(zhì)量%降至100質(zhì)量%所需的干燥時間設(shè)為40秒且使殘留溶劑含量變?yōu)橹敝?0-50%而將澆鑄膜進行干燥,然后以60m/min的速率將膜從不銹鋼帶上分離并固定在拉幅機中。由澆鑄至分離的時間為60秒。將拉幅機中的干燥溫度由70℃逐漸變?yōu)?30℃。干燥速率為0.2質(zhì)量%/sec。使拉幅機出口處的膜寬度為入口處膜寬度的1.01倍。將離開拉幅機的膜在130-140℃下進一步干燥并且以62m/min的速率卷起。以此方式,得到厚度為61μm的?;w維素膜(F3)。切下邊緣以后的軋輥的表面粗糙體為0.3μm。
膜在590nm波長下的光束透過率為92.2%,膜的表面粗糙體Ry為1.8μm,并且表面凹面體和凸面體之間的平均距離為67μm。膜中心的Re延遲為1.1nm,并且Rth延遲為+2nm。當在澆鑄方向上通過取1m的樣品而進行測量時,澆鑄不均勻體數(shù)為2,并且每1m寬度的膜不均勻體數(shù)為1.4個/m。
[實施例4] (?;w維素溶液的制備) 將如下所示的組合物加入混合塔中并且攪拌以混合各組分。在92℃下將混合物攪拌溶解3小時。將塔的內(nèi)部以3℃/min冷卻至-10℃,并且在2小時后在45℃加熱12小時,并再次攪拌溶液,然后通過齒輪泵供入熱交換器中。將該溶液在48℃的溫度下放置10分鐘,然后通過熱交換器冷卻至35℃,并且通過平均孔徑為47μm的濾紙進一步過濾。緩慢堵塞。此外,將溶液通過孔徑為10μm的金屬網(wǎng)過濾器過濾以制備乙酸纖維素溶液(LA4),并將所得溶液儲存于存放槽中。
<乙酰纖維素溶液(LA4)的組成> ?;w維素(源自木漿,乙?;〈?0質(zhì)量份 2.88(?;〈?.88),粘度6%,328mPa.s, 含濕量2.7%) ?;w維素(源自木漿,乙?;〈? 60質(zhì)量份 2.89(酰基取代度2.89),粘度6%,95mPa.s, 含濕量2.8%) 二氯甲烷 391質(zhì)量份 甲醇 70質(zhì)量份 1-丁醇15質(zhì)量份 能夠降低延遲的化合物(A-19)(純度98.0%, 12質(zhì)量份 含濕量1.5%) (消光劑溶液的制備) 消光劑溶液(LC4)以與實施例1中相同的方式制備,不同之處為按如下改變了液體分散體的組成。
<消光劑溶液(LC4)的組成> 平均粒徑為16nm的二氧化硅顆粒液體分散體12.0質(zhì)量份 二氯甲烷 67.3質(zhì)量份 甲醇 12.0質(zhì)量份 1-丁醇2.4質(zhì)量份 ?;w維素溶液(LA4) 11.3質(zhì)量份 (添加劑溶液的制備) 制備具有如下組成的液體并且通過平均孔徑為47μm的濾紙過濾以制備添加劑溶液(LD4)。
<添加劑溶液(LD4)的組成> 波長分散調(diào)節(jié)劑(UV-102)7.3質(zhì)量份 二氯甲烷 53.8質(zhì)量份 甲醇 9.7質(zhì)量份 1-丁醇2.0質(zhì)量份 ?;w維素溶液(LA4) 12.8質(zhì)量份 (用于稀釋的混合溶劑溶液的制備) 制備具有如下組成的液體并且通過平均孔徑為44μm的濾紙過濾以制備用于稀釋的混合溶劑溶液(LE4)。
<用于稀釋的混合溶劑溶液(LE4)的組成> 二氯甲烷 82質(zhì)量份 甲醇 15質(zhì)量份 1-丁醇3質(zhì)量份 (本發(fā)明?;w維素膜(F4)的制備) 將80質(zhì)量份的酰化纖維素溶液(LA4)和2.6質(zhì)量份的添加劑溶液(LD4)供入靜態(tài)混合機中并且混合。將所得混合溶液供入用于三層膜澆鑄的壓模中心部分的切口中以使干燥厚的膜厚為49μm。同時將80質(zhì)量份的?;w維素溶液(LA4)、2.4質(zhì)量份的消光劑溶液(LC4)、2.6質(zhì)量份的添加劑溶液(LD4)和5質(zhì)量份的用于稀釋的混合溶劑溶液(LE4)供入靜態(tài)混合機中并且混合,并且將所得混合溶液供入用于三層膜澆鑄的壓模兩端部分的每個切口中以使干燥厚的膜厚為3μm。以此方式,將三層膜均勻澆鑄在表面溫度為20℃的不銹鋼帶上。此時,將LA4溶液在存放槽中儲存36小時。通過將殘留溶劑量由220質(zhì)量%降至100質(zhì)量%所需的干燥時間設(shè)為45秒且使殘留溶劑含量變?yōu)橹敝?0-50%而將澆鑄膜進行干燥,然后以60m/min的速率將膜從不銹鋼帶上分離并固定在拉幅機中。由澆鑄至分離的時間為60秒。
將拉幅機中的干燥溫度由70℃逐漸變?yōu)?30℃。干燥速率為0.2質(zhì)量%/sec。使拉幅機出口處的膜寬度為入口處膜寬度的1.02倍。將離開拉幅機的膜在130-140℃下進一步干燥并且以62m/min的速率卷起。以此方式,得到厚度為80μm的?;w維素膜(F4)。切下邊緣以后的軋輥的表面粗糙體為0.3μm。
膜在590nm波長下的光束透過率為91.6%,膜的表面粗糙體Ry為2.6μm,并且表面凹面體和凸面體之間的平均距離為9μm。膜中心的Re延遲為0.3nm,并且Rth延遲為1nm。當在澆鑄方向上通過取1m的樣品而進行測量時,膜中每m2的雜質(zhì)數(shù)量為4.2個/m2。當在澆鑄方向上通過取1m的樣品而進行測量時,膜的刮痕數(shù)為3,并且每m的膜刮痕數(shù)為3個/m。
[實施例5] (?;w維素溶液的制備) 將如下所示的組合物加入混合塔中并且攪拌以混合各組分。在33℃下將混合物攪拌溶解6小時。將塔的內(nèi)部以3℃/min冷卻至-10℃,并且在2小時后加熱至90℃,并再次攪拌溶液,然后通過齒輪泵供入熱交換器中。將該溶液保持在93℃的溫度下,然后通過熱交換器冷卻至35℃,并且通過平均孔徑為47μm的濾紙進一步過濾。緩慢堵塞。此外,將溶液通過孔徑為10μm的金屬網(wǎng)過濾器過濾以制備乙酰纖維素溶液(LA5),并將所得溶液儲存于存放槽中。
<乙酸纖維素溶液(LA5)的組成> ?;w維素(源自木漿,乙?;〈?0質(zhì)量份 2.92(?;〈?.92),粘度6%,322mPa.s, 含濕量3.1%) ?;w維素(源自木漿,乙?;〈?0質(zhì)量份 2.89(?;〈?.89),粘度6%,95mPa.s, 含濕量2.8%) 二氯甲烷391質(zhì)量份 甲醇70質(zhì)量份 1-丁醇 15質(zhì)量份 能夠降低延遲的化合物(A-19)(純度98.0%, 12質(zhì)量份 含濕量1.5%) (本發(fā)明酰化纖維素膜(F5)的制備) 將80質(zhì)量份的?;w維素溶液(LA5)和2.6質(zhì)量份的添加劑溶液(LD4)供入靜態(tài)混合機中并且混合。將所得混合溶液供入用于三層膜澆鑄的壓模中心部分的切口中以使干燥厚的膜厚為79μm。同時將80質(zhì)量份的?;w維素溶液(LA4)、2.4質(zhì)量份的消光劑溶液(LC4)、2.6質(zhì)量份的添加劑溶液(LD4)和5質(zhì)量份的用于稀釋的混合溶劑溶液(LE4)供入靜態(tài)混合機中并且混合,并且將所得混合溶液供入用于三層膜澆鑄的壓模兩端部分的每個切口中以使干燥厚的膜厚為3μm。以此方式,將三層膜均勻澆鑄在表面溫度為20℃的不銹鋼帶上。此時,將LA5溶液在存放槽中儲存36小時。通過將殘留溶劑量由220質(zhì)量%降至100質(zhì)量%所需的干燥時間設(shè)為45秒且使殘留溶劑含量變?yōu)橹敝?0-50%而將澆鑄膜進行干燥,然后以60m/min的速率將膜從不銹鋼帶上分離并固定在拉幅機中。由澆鑄至分離的時間為60秒。
將拉幅機中的干燥溫度由70℃逐漸變?yōu)?30℃。干燥速率為0.2質(zhì)量%/sec。使拉幅機出口處的膜寬度為入口處膜寬度的1.02倍。將離開拉幅機的膜在130-140℃下進一步干燥并且以62m/min的速率卷起。以此方式,得到厚度為78μm的?;w維素膜(F5)。切下邊緣以后的軋輥的表面粗糙體為0.3μm。
膜在590nm波長下的光束透過率為91.2%,膜的表面粗糙體Ry為2.5μm,并且表面凹面體和凸面體之間的平均距離為8μm。膜中心的Re延遲為8.5nm,并且Rth延遲為22nm。當在澆鑄方向上通過取1m的樣品而進行測量時,膜中的雜質(zhì)數(shù)量為1,并且每m2的雜質(zhì)數(shù)量為0.7個/m2。當在澆鑄方向上通過取1m的樣品而進行測量時,膜的澆鑄不均勻體數(shù)為1,并且每m寬度的澆鑄不均勻體數(shù)為0.7個/m。
[實施例6] 將如下所示的組合物加入混合塔中并且攪拌以混合各組分。在80℃下將混合物攪拌溶解6小時。將塔的內(nèi)部以5℃/min冷卻至-50℃,并且在2小時后加熱至80℃,并再次攪拌溶液,然后通過齒輪泵供入熱交換器中。將該溶液保持在83℃的溫度下,然后通過熱交換器冷卻至35℃,并且通過平均孔徑為47μm的濾紙進一步過濾。緩慢堵塞。此外,將溶液通過孔徑為10μm的金屬網(wǎng)過濾器過濾以制備乙酸纖維素溶液(LA6),并將所得溶液儲存于存放槽中。
<乙酸纖維素溶液(LA6)的組成> ?;w維素(源自木漿,乙酰基取代度1.96,70質(zhì)量份 丙?;〈?.88(?;〈?.84),粘 度6%,322mPa.s,含濕量3.1%) ?;w維素(源自木漿,乙?;〈? 30質(zhì)量份 2.89(?;〈?.89),粘度6%,95mPa.s, 含濕量2.8%) 二氯甲烷 391質(zhì)量份 甲醇 70質(zhì)量份 1-丁醇 15質(zhì)量份 能夠降低延遲的化合物(A-19)(純度98.0%,12質(zhì)量份 含濕量1.5%) (本發(fā)明?;w維素膜(F6)的制備) 將80質(zhì)量份的酰化纖維素溶液(LA6)和2.6質(zhì)量份的添加劑溶液(LD4)供入靜態(tài)混合機中并且混合。將所得混合溶液供入用于三層膜澆鑄的壓模中心部分的切口中以使干燥厚的膜厚為59μm。同時將80質(zhì)量份的?;w維素溶液(LA4)、2.4質(zhì)量份的消光劑溶液(LC4)、2.6質(zhì)量份的添加劑溶液(LD4)和5質(zhì)量份的用于稀釋的混合溶劑溶液(LE4)供入靜態(tài)混合機中并且混合,并且將所得混合溶液供入用于三層膜澆鑄的壓模兩端部分的每個切口中以使干燥后的膜厚為3μm。以此方式,將三層膜均勻澆鑄在表面溫度為20℃的不銹鋼帶上。此時,將LA6溶液在存放槽中儲存36小時。通過將殘留溶劑量由220質(zhì)量%降至100質(zhì)量%所需的干燥時間設(shè)為45秒且使殘留溶劑含量變?yōu)橹敝?0-50%而將澆鑄膜進行干燥,然后以60m/min的速率將膜從不銹鋼帶上分離并固定在拉幅機中。由澆鑄至分離的時間為60秒。
將拉幅機中的干燥溫度由70℃逐漸變?yōu)?30℃。干燥速率為0.2質(zhì)量%/sec。使拉幅機出口處的膜寬度為入口處膜寬度的1.02倍。將離開拉幅機的膜在130-140℃下進一步干燥并且以62m/min的速率卷起。以此方式,得到厚度為61μm的?;w維素膜(F6)。切下邊緣以后的軋輥的表面粗糙體為0.3μm。
膜在590nm波長下的光束透過率為91.4%,膜的表面粗糙體Ry為2.7μm,并且表面凹面體和凸面體之間的平均距離為12μm。膜中心的Re延遲為6.6nm且Rth延遲為20nm。當在澆鑄方向上通過取1m的樣品而進行測量時,膜中的雜質(zhì)數(shù)量為7且每m2的雜質(zhì)數(shù)量為5.0個/m2。當在澆鑄方向上通過取1m的樣品而進行測量時,膜中的澆鑄不均勻體數(shù)為5且每1m寬度的澆鑄不均勻體數(shù)為3.5個/m。當在澆鑄方向上通過取1m的樣品而進行測量時,膜的刮痕數(shù)為6且每m的膜刮痕數(shù)為6.0個/m。
[實施例7] (本發(fā)明?;w維素膜(F7)的制備) 將各個由實施例1中制備的76.2質(zhì)量份的酰化纖維素溶液(LA1)、1.6質(zhì)量份的消光劑溶液(LC1)和2.3質(zhì)量份的添加劑溶液(LD1)在靜態(tài)混合機中混合并且均勻澆鑄在冷卻至-15℃的不銹鋼轉(zhuǎn)筒上。此時,將LA1溶液在存放槽中儲存36小時。將澆鑄膜冷卻至液體溫度為約-10℃,并且以75m/min的速率將膜從轉(zhuǎn)筒上分離并固定在拉幅機中。將拉幅機中的干燥溫度由70℃逐漸變?yōu)?30℃。使拉幅機出口處的膜寬度為入口處膜寬度的1.02倍。將離開拉幅機的膜在130-140℃下進一步干燥并且以78m/min的速率卷起。以此方式,得到厚度為82μm的?;w維素膜(F7)。取下時的殘留溶劑量為0.05%。
膜在590nm波長下的光束透過率為91.8%,膜的表面粗糙體Ry為0.5μm,并且表面凹面體和凸面體之間的平均距離為111μm。膜中心的Re延遲為1.3nm且Rth延遲為-3nm。當在澆鑄方向上通過取1m的樣品而進行測量時,膜中的雜質(zhì)數(shù)量為3且每m2的雜質(zhì)數(shù)量為2.1個/m2。當在澆鑄方向上通過取1m的樣品而進行測量時,膜中的澆鑄不均勻體數(shù)為4且每1m寬度的澆鑄不均勻體數(shù)為2.8個/m。當在澆鑄方向上通過取1m的樣品而進行測量時,膜的刮痕數(shù)為2且每m的膜刮痕數(shù)為1.4個/m。
[對比例1] (?;w維素溶液的制備) 將實施例1中所示的組合物加入混合塔中并且攪拌以混合各組分。在83℃下將混合物攪拌溶解3小時。將塔的內(nèi)部以2℃/min冷卻至15℃,并且在2小時后加熱至30℃,并再次攪拌溶液,然后通過齒輪泵供入熱交換器中。將該溶液在33℃的溫度下放置10分鐘,然后通過熱交換器調(diào)節(jié)至35℃,并且通過平均孔徑為47μm的濾紙進一步過濾。緩慢堵塞。此外,將溶液通過孔徑為10μm的金屬網(wǎng)過濾器過濾以制備乙酸纖維素溶液(LH1),并將所得溶液儲存于存放槽中。
(對比?;w維素膜(H1)的制備) 將76.2質(zhì)量份的酰化纖維素溶液(LH1)、1.8質(zhì)量份的消光劑溶液(LC1)和2.6質(zhì)量份的添加劑溶液(LD1)在靜態(tài)混合機中混合并且均勻澆鑄在表面溫度為20℃的不銹鋼帶上。此時,將LA1溶液在存放槽中儲存36小時。通過將殘留溶劑量由220質(zhì)量%降至100質(zhì)量%所需的干燥時間設(shè)為5秒且使殘留溶劑含量變?yōu)橹敝?0-50%而將澆鑄膜進行干燥,然后以40m/min的速率將膜從不銹鋼帶上分離并固定在拉幅機中。由澆鑄至分離的時間為20秒。將拉幅機中的干燥溫度由70℃逐漸變?yōu)?30℃。干燥速率為0.2質(zhì)量%/sec。使拉幅機出口處的膜寬度為入口處膜寬度的1.01倍。將離開拉幅機的膜在130-140℃下進一步干燥并且以42m/min的速率卷起。以此方式,得到厚度為60μm的酰化纖維素膜(H1)。切下邊緣以后的軋輥的表面粗糙體為0.07μm。
膜在590nm波長下的光束透過率為87.6%,膜的表面粗糙體Ry為3.7μm,并且表面凹面體和凸面體之間的平均距離為0.8μm。膜中心的Re延遲為3.3nm且Rth延遲為4.9nm。當在澆鑄方向上通過取1m的樣品而進行測量時,膜中的雜質(zhì)數(shù)量為32且每m2的雜質(zhì)數(shù)量為23個/m2。當在澆鑄方向上通過取1m的樣品而進行測量時,膜中的澆鑄不均勻體數(shù)為16且每1m寬度的澆鑄不均勻體數(shù)為11.4個/m。當在澆鑄方向上通過取1m的樣品而進行測量時,膜的刮痕數(shù)為232且每m的膜刮痕數(shù)為166個/m。
[對比例2] 將實施例1中所示的組合物加入混合塔中并且攪拌以混合各組分。在83℃下將混合物攪拌溶解3小時。將塔的內(nèi)部以2℃/min冷卻至30℃,并且在2小時后再次攪拌溶液,然后通過齒輪泵供入熱交換器中。將該溶液在33℃的溫度下放置10分鐘,然后通過熱交換器調(diào)節(jié)至35℃,并且通過平均孔徑為47μm的濾紙進一步過濾。堵塞進行得略快。此外,將溶液通過孔徑為10μm的金屬網(wǎng)過濾器過濾以制備乙酸纖維素溶液(LH2),并將所得溶液儲存于存放槽中。
(對比酰化纖維素膜(H2)的制備) 將76.2質(zhì)量份的?;w維素溶液(LH2)、1.8質(zhì)量份的消光劑溶液(LC1)和2.6質(zhì)量份的添加劑溶液(LD1)在靜態(tài)混合機中混合并且均勻澆鑄在表面溫度為20℃的不銹鋼帶上。此時,將LA1溶液在存放槽中儲存36小時。通過將殘留溶劑量由220質(zhì)量%降至100質(zhì)量%所需的干燥時間設(shè)為5秒且使殘留溶劑含量變?yōu)橹敝?0-50%而將澆鑄膜進行干燥,然后以58m/min的速率將膜從不銹鋼帶上分離并固定在拉幅機中。由澆鑄至分離的時間為40秒。將拉幅機中的干燥溫度由70℃逐漸變?yōu)?30℃。干燥速率為0.2質(zhì)量%/sec。使拉幅機出口處的膜寬度為入口處膜寬度的1.01倍。將離開拉幅機的膜在130-140℃下進一步干燥并且以62m/min的速率卷起。以此方式,得到厚度為60μm的?;w維素膜(H2)。切下邊緣以后的軋輥的表面粗糙體為30μm。
膜在590nm波長下的光束透過率為86.9%,膜的表面粗糙體Ry為3.8μm,并且表面凹面體和凸面體之間的平均距離為0.9μm。膜中心的Re延遲為2.6nm且Rth延遲為4.2nm。當在澆鑄方向上通過取1m的樣品而進行測量時,膜中的雜質(zhì)數(shù)量為35且每m2的雜質(zhì)數(shù)量為25個/m2。當在澆鑄方向上通過取1m的樣品而進行測量時,膜中的澆鑄不均勻體數(shù)為18且每1m寬度的澆鑄不均勻體數(shù)為12.9個/m。當在澆鑄方向上通過取1m的樣品而進行測量時,膜的刮痕數(shù)為51且每m的膜刮痕數(shù)為36個/m。
[實施例8] (底漆層的制備) 將具有如下組合物的涂敷溶液涂敷于實施例1的?;w維素膜載體上以達到28cm3/m2的覆蓋度并且干燥以形成0.1μm厚的明膠層(第一底漆層)
然后進一步將具有如下組成的涂敷組合物涂敷其上以達到7cm3/m2的覆蓋度并且干燥以形成第二底漆層。

陰離子共聚物
(取向膜層的制備) 在?;w維素膜的明膠層上,通過#16繞線式涂敷器來涂敷具有如下組成的涂敷溶液以達到28ml/m2的覆蓋度,在25℃下干燥60秒,然后用熱空氣在60℃下干燥60秒并且在90℃的熱空氣下干燥150秒。
干燥后的取向膜的厚度為1.1μm。
然后,對所形成的?;w維素膜在面內(nèi)慢軸(在632.8nm波長處測量)方向上施加拋光處理。

改性聚乙烯醇
(光學各向異性層的形成) 在取向膜上,將通過使41.01g如下所示的盤狀化合物(液晶)、4.06g氧化乙烯改性的三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(V#360,由Osaka Organic ChemicalIndustry Ltd.制備)、0.90g乙酸丁酸纖維素(CAB551-0.2,由Eastman Chemical制備)、0.23g乙酸丁酸纖維素(CAB531-1,由Eastman Chemical制備)、1.35g光聚合引發(fā)劑(Irgacure 907,由Ciba Geigy制備)和0.45g增感劑(kayacureDETX,由Nippon Kayaku Co.,Ltd.制備)溶解于102g甲乙酮中而得到的溶液通過#4繞線式涂敷器涂敷。將該涂層層壓在金屬框上,在130℃的恒溫浴中加熱2分鐘以使盤狀液體化合物取向,通過使用120W/cm的高壓汞燈在130℃下進行UV輻照以使盤狀化合物聚合,然后使冷卻至室溫,因此形成光學各向異性層。以此方式,制備光學補償膜(KHF1)。
在633nm波長下測得的光學各向異性層的Re延遲值為48nm,盤狀平面與第一透明載體平面間的角度(傾斜角)平均為42°。
盤狀液晶化合物
當使用放大鏡在100放大倍率下觀察取向缺陷的數(shù)量時,50μm或更大的缺陷的數(shù)量為1.3個/m2。由于在本實施例中所用的?;w維素膜(F1)具有0.6μm的表面粗糙體Ry且表面凹面體與凸面體間的距離為217μm,可以得到取向缺陷數(shù)量少的光學補償膜。
分別使用在實施例2-7中制備的?;w維素膜(F2)-(F7)以相同方式制備光學補償膜(KHF2)-(KHF7)。使用本發(fā)明酰化纖維素膜的光學補償膜具有所需的表面粗糙體和所需的表面凹面體與凸面體間的距離,因此可以得到取向缺陷數(shù)量少的光學補償膜 [對比例3] 根據(jù)實施例8中所述的方法制備光學補償膜(KHFH1)和(KHFH2),其中通過使用對比例1和2中制備的?;w維素膜(H1)和(H2)來代替實施例8中所用的本發(fā)明酰化纖維素膜而形成光學各向異性層。光學各向異性層的Re延遲值為48nm,盤狀平面與第一透明載體平面間的角度(傾斜角)平均為42°,這與實施例8中的數(shù)值相同。
然而,當通過與實施例8相同的方法觀察取向缺陷的數(shù)量時,50μm或更大的缺陷的數(shù)量大至20.3個/m2或24.7個/m2??磥砭哂猩倭咳∠蛉毕莸牧己霉鈱W補償膜不可以由具有大的表面粗糙體和窄的表面凹面體與凸面體間距的?;w維素膜得到。
[實施例9] 將由實施例1得到的本發(fā)明?;w維素膜(F1)在55℃下在1.5N氫氧化鈉水溶液浸漬2分鐘,然后在室溫下在水的洗浴中清洗,并且在30℃下用0.1N硫酸中和。在室溫下將膜再次在水的洗浴中清洗,然后在100℃下用熱空氣干燥。以相同方式對市購的?;w維素膜TD 80UF(Fuji Photo Film Co.,Ltd.制備)施以表面皂化處理以制備膜(F100)。
然后,將呈卷筒形的80μm厚的聚乙烯醇膜在含水碘溶液中連續(xù)拉伸5次并干燥以得到取向膜。通過將3%聚乙烯醇(PVA-117H,由Kuraray Co.,Ltd.制備)含水溶液用作粘合劑而將膜(F11)和膜(F100)作為保護膜分別層壓在取向膜的一個表面和相反表面上,由此得到偏振片(P1)。此時,將膜(F11)和膜(F100)層壓以使它們的慢軸與取向膜的透射軸平行。
另外,以相同方式通過分別使用實施例2-7中制備的本發(fā)明酰化纖維素膜(F2)-(F7)和對比例1和2中制備的?;w維素膜(H1)和(H2)而制備偏振片(P2)-(P7)和(PH1)及(PH2)。本發(fā)明的?;w維素膜和對比例的?;w維素膜均對拉伸的聚乙烯醇具有良好的層壓性并且非常適于加工到偏振片中。
[實施例10] (引入液晶顯示器中) <相對偏振片的制備> 以與實施例9相同的方式制備偏振片(P0),不同之處為將經(jīng)過皂化的市購乙酸纖維素膜(由Fuji Photo Film Co.,Ltd.制備)用于層壓到取向膜兩個表面上的膜。
<IPS模式液晶單元的制備> 將電極放在一個玻璃基底上以使相鄰電極間的距離為20μm,并且將聚酰亞胺作為取向膜放在其上并經(jīng)過拋光處理。分離制備一個玻璃基底,并且將聚酰亞胺放在其上并經(jīng)過拋光處理以作為取向膜。將這兩個基底放在一起并且層壓,從而使取向膜彼此面對,在基底間的空隙為3.9μm,并且兩個玻璃的拋光方向是平行的。然后,將折光指數(shù)各向異性(Δn)為0.0769且正介電常數(shù)各向異性(Δε)為4.5的向列型液晶組合物封于所述空隙中。液晶層的d.Δn值為300nm。
將實施例9中制備的本發(fā)明偏振片P1通過使其吸收軸與液晶單元的拋光方向平行而層壓在在所制得的IPS模式液晶單元的背光側(cè)上,并且同時將本發(fā)明的酰化纖維素膜(F1)置于液晶單元側(cè)上。然后,將偏振片P0以交叉偏光安排(cross-Nicol arrangemen t)層壓在IPS模式液晶單元的另一側(cè)上。
在極角為60°的所有方位角方向上觀察由此制得的液晶顯示器的黑色,但是幾乎沒有觀察到色彩變化。另外,在右/左和上/下方向上確保了膜的優(yōu)異視角。而且,沒有觀察到由于膜的雜質(zhì)、膜刮痕和澆鑄不均勻體所致的圖形質(zhì)量的失敗。以此方式證實了本發(fā)明?;w維素膜是用于光學用途的優(yōu)異膜。
以相同方式通過使用偏振片(P2)-(P7)和偏振片(PH1)和(PH2)而制備了液晶顯示器并且對其進行了評估。在使用偏振片(P2)-(P7)的所有液晶顯示器中得到良好結(jié)果。
[對比例4] 以與實施例10相同的方式通過使用偏振片PH1和PH2而制備IPS模式液晶顯示器,其中偏振片PH1和PH2使用了在對比例1和2中制備的?;w維素膜(H1)和(H2)。在極角為60°的所有方位角方向上觀察由此制得的液晶顯示器的黑色,但是幾乎沒有觀察到色彩變化。另外,在右/左和上/下方向上確保了膜的優(yōu)異視角。然而,在使用PH1的100個液晶顯示器單元的8個單元之中和在使用PH2的100個液晶顯示器單元的4個單元之中產(chǎn)生了認作是雜質(zhì)所致的不正常亮點。而且,在使用PH1的100個液晶顯示器單元的2個單元之中和在使用PH2的100個液晶顯示器單元的3個單元之中產(chǎn)生了由于澆鑄不均勻體所致的屏幕不均勻體。另外,在使用PH1的100個液晶顯示器單元的7個單元之中和在使用PH2的100個液晶顯示器單元的3個單元之中產(chǎn)生了認作是膜刮痕所致的屏幕失敗。
如上所述,通過控制用于溶液澆鑄方法中的?;w維素溶液的溶解方法、澆鑄時的干燥條件以及拉伸區(qū)域和在切下邊緣后與膜相接觸的軋輥的表面形狀,?;w維素中的雜質(zhì)、澆鑄不均勻體和刮痕可以降低并且可以得到具有改善平面性的良好膜。此外,已經(jīng)證實使用該膜的液晶顯示器具有更少的不正常光點或由于澆鑄不均勻體所致的顯示質(zhì)量的下降。
根據(jù)本發(fā)明,可以得到確保高透明性和優(yōu)異的光學各項同性(Re、Rth)以及降低的外來物質(zhì)缺陷、不均勻體和刮痕的便宜?;w維素膜,并且可以得到便宜且優(yōu)異的光學補償膜、偏振片和液晶顯示器。
為了完整闡述,在此將各個本發(fā)明已要求了外來優(yōu)先權(quán)的權(quán)益的外部專利申請引入作為參考。
權(quán)利要求
1.一種具有如下特性的?;w維素膜
Re(590)和Rth(590)滿足式(I)和(II);并且
在590nm波長處的光束透過率為88%或更大,
其中長軸為50-200μm的雜質(zhì)的數(shù)量為20個/m2或更少
式(I)0≤Re(590)≤10
式(II)-25≤Rth(590)≤25
其中Re(590)代表在25℃和60%RH下在590nm波長處的面內(nèi)延遲值(單位nm);和
Rth(590)代表在25℃和60%RH下在590nm波長處的厚度方向的延遲值(單位nm)。
2.一種具有如下特性的?;w維素膜
Re(590)和Rth(590)滿足式(I)和(II);并且
在590nm波長處的光束透過率為88%或更大,
其中寬度為10-100μm的澆鑄不均勻體的數(shù)量在寬度方向上為10個/m或更少
式(I)0≤Re(590)≤10
式(II)-25≤Rth(590)≤25
其中Re(590)代表在25℃和60%RH下在590nm波長處的面內(nèi)延遲值(單位nm);和
Rth(590)代表在25℃和60%RH下在590nm波長處的厚度方向的延遲值(單位nm)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1的?;w維素膜
其中寬度為10-100μm的澆鑄不均勻體的數(shù)量在寬度方向上為10個/m或更少。
4.一種具有如下特性的?;w維素膜
Re(590)和Rth(590)滿足式(I)和(II);并且
在590nm波長處的光束透過率為88%或更大,
其中表示表面凹面體和凸面體的最大高度的Ry為3.0μm或更小;和
表示表面凹面體和凸面體之間的平均距離的Sm為1μm至1mm
式(I)0≤Re(590)≤10
式(II)-25≤Rth(590)≤25
其中Re(590)代表在25℃和60%RH下在590nm波長處的面內(nèi)延遲值(單位nm);和
Rth(590)代表在25℃和60%RH下在590nm波長處的厚度方向的延遲值(單位nm)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1的?;w維素膜
其中表示表面凹面體和凸面體的最大高度的Ry為3.0μm或更小;和
表示表面凹面體和凸面體之間的平均距離的Sm為1μm至1mm。
6.一種具有如下特性的?;w維素膜
Re(590)和Rth(590)滿足式(I)和(II);并且
在590nm波長處的光束透過率為88%或更大,
其中寬度為10-100μm的膜刮痕的數(shù)量在澆鑄方向上為0-10個/m
式(I)0≤Re(590)≤10
式(II)-25≤Rth(590)≤25
其中Re(590)代表在25℃和60%RH下在590nm波長處的面內(nèi)延遲值(單位nm);和
Rth(590)代表在25℃和60%RH下在590nm波長處的厚度方向的延遲值(單位nm)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1的?;w維素膜
其中寬度為10-100μm的膜刮痕的數(shù)量在澆鑄方向上為0-10個/m。
8.一種通過包括以下過程的溶液澆鑄法制備?;w維素膜的方法
(I)制備?;w維素溶液的過程;
(II)澆鑄?;w維素溶液以形成澆鑄膜的過程;
(III)使?jié)茶T膜在分離前干燥的過程;
(IV)分離澆鑄膜的過程;
(V)拉幅干燥所述澆鑄膜的過程,以及
(VI)切掉澆鑄膜的邊緣部分并卷起該澆鑄膜的過程,
其中(I)的制備酰化纖維素溶液的過程包括
(i)在25-95℃下將?;w維素在有機溶劑中混合并溶解的過程;
(ii)將在步驟(i)中制得的溶液冷卻至-55℃至20℃的過程;和
(iii)將在步驟(ii)中制得的溶液加熱至40-115℃的過程。
9.根據(jù)權(quán)利要求8的制備?;w維素膜的方法,
其中進行(III)使?jié)茶T膜在分離前干燥的過程,使得當澆鑄膜的剩余溶劑量基于固體含量為220-100質(zhì)量%時,剩余溶解量的平均降低速率為1-18質(zhì)量%/秒。
10.根據(jù)權(quán)利要求8的制備?;w維素膜的方法,
其中進行(V)拉幅干燥所述澆鑄膜的過程,使得當拉幅機拉伸所述澆鑄膜時,在40-150℃下通過干燥空氣來干燥澆鑄膜,并且剩余溶解量的平均降低速率為0.01-3質(zhì)量%/秒。
11.根據(jù)權(quán)利要求8的制備?;w維素膜的方法,
其中在卷膜時與膜接觸的軋輥的表面粗糙體為0.5μm或更低。
12.通過根據(jù)權(quán)利要求8的方法制備的?;w維素膜。
13.根據(jù)權(quán)利要求1的?;w維素膜,其通過包括如下過程的溶液澆鑄法制備
(I)制備?;w維素溶液的過程;
(II)澆鑄?;w維素溶液以形成澆鑄膜的過程;
(III)使?jié)茶T膜在分離前干燥的過程;
(IV)分離澆鑄膜的過程;
(V)拉幅干燥所述澆鑄膜的過程,以及
(VI)切掉澆鑄膜的邊緣部分并卷起該澆鑄膜的過程,
其中(I)制備?;w維素溶液的過程包括
(i)在25-95℃下將?;w維素在有機溶劑中混合并溶解的過程;
(ii)將在過程(i)中制得的溶液冷卻為低至-55℃至20℃的過程;和
(iii)將在過程(ii)中制得的溶液加熱為至多40-115℃的過程。
14.根據(jù)權(quán)利要求1的?;w維素膜,其具有滿足式(10)的?;〈?X+Y)
式(10)2.6<X+Y≤3.0
其中X表示乙?;〈龋琘表示除乙?;獾孽;〈?。
15.根據(jù)權(quán)利要求1的酰化纖維素膜,其厚度為30-120μm。
16.一種光學補償膜,其包含
根據(jù)權(quán)利要求1的酰化纖維素膜;和
Re(590)為0-200nm且|Rth(590)|為0-400nm的光學各向異性層。
17.一種偏振片,其包含
在偏振片的液晶單元側(cè)上的起偏振器保護膜,其中所述起偏振器保護膜為根據(jù)權(quán)利要求15的?;w維素膜。
18.一種偏振片,其包含
起偏振器;和
一對將起偏振器夾在中間的起偏振器保護膜,
其中至少一個起偏振器保護膜為根據(jù)權(quán)利要求15的?;w維素膜。
19.一種液晶顯示器,其包含根據(jù)權(quán)利要求15的?;w維素膜。
全文摘要
本發(fā)明涉及Re(590)和Rth(590)滿足式(Ⅰ)和(Ⅱ)且在590nm波長處的光束透過率為88%或更大的?;w維素膜,其中長軸為50-200μm的雜質(zhì)的數(shù)量為20片/m2或更少式(Ⅰ)0≤Re(590)≤10,式(Ⅱ)-25≤Rth(590)≤25,其中Re(590)代表在25℃和60%RH下在590nm波長處的面內(nèi)延遲值(單位nm),并且Rth(590)代表在25℃和60%RH下在590nm波長處的厚度方向的延遲值(單位nm)。
文檔編號G02B1/04GK101196572SQ200710105139
公開日2008年6月11日 申請日期2007年5月24日 優(yōu)先權(quán)日2006年5月24日
發(fā)明者本隆裕 申請人:富士膠片株式會社
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