陽(yáng)光控制鍍膜玻璃的制備方法
【專利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了一種陽(yáng)光控制鍍膜玻璃的制備方法，包括如下步驟：以厚度為20-30mm的綠色玻璃為玻璃基片；在拉引速度為100-120m/h的浮法玻璃生產(chǎn)線的錫槽窄段內(nèi)，通入硅烷、乙烯和氮?dú)猓龉柰榕c乙烯的流量比為2-3:1，錫槽窄段的溫度控制在700-720℃，錫槽內(nèi)的壓強(qiáng)控制在35-40Pa，采用化學(xué)氣相沉積方法在玻璃基片上沉積厚度為5-10mm的硅系納米膜層，得到所述陽(yáng)光控制鍍膜玻璃；所述硅系納米膜層的沉積過(guò)程采用光學(xué)在線檢測(cè)系統(tǒng)進(jìn)行監(jiān)測(cè)。本發(fā)明提供的陽(yáng)光控制鍍膜玻璃的制備方法，其制備的陽(yáng)光控制鍍膜玻璃，玻璃基片表面的膜層為單層納米結(jié)構(gòu)，具有極高的抗酸耐堿性和耐磨性，具有較長(zhǎng)的使用壽命。
【專利說(shuō)明】陽(yáng)光控制鍍膜玻璃的制備方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及陽(yáng)光控制鍍膜玻璃的制備方法。
【背景技術(shù)】
[0002]目前，在線陽(yáng)光控制鍍膜工藝難以控制、生產(chǎn)效率低下，且鍍制的薄膜層組成一般都為金屬氧化物膜層，無(wú)保護(hù)層，膜層受潮容易氧化、耐酸堿及耐磨性能較差，使用壽命短，顏色單一，滿足不了對(duì)建筑樓宇的裝飾美觀要求。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的在于提供一種陽(yáng)光控制鍍膜玻璃的制備方法，其制備的陽(yáng)光控制鍍膜玻璃，玻璃基片表面的膜層為單層納米結(jié)構(gòu)，具有極高的抗酸耐堿性和耐磨性，具有較長(zhǎng)的使用壽命。[0004]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的技術(shù)方案是設(shè)計(jì)一種陽(yáng)光控制鍍膜玻璃的制備方法，包括如下步驟:
以厚度為20-30mm的綠色玻璃為玻璃基片；
在拉引速度為100-120m/h的浮法玻璃生產(chǎn)線的錫槽窄段內(nèi)，通入硅烷、乙烯和氮?dú)猓龉柰榕c乙烯的流量比為2-3:1，錫槽窄段的溫度控制在700-720°C，錫槽內(nèi)的壓強(qiáng)控制在35-40Pa，采用化學(xué)氣相沉積方法在玻璃基片上沉積厚度為5-10mm的硅系納米膜層，得到所述陽(yáng)光控制鍍膜玻璃；
所述硅系納米膜層的沉積過(guò)程采用光學(xué)在線檢測(cè)系統(tǒng)進(jìn)行監(jiān)測(cè)。
[0005]本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)和有益效果在于:提供一種陽(yáng)光控制鍍膜玻璃的制備方法，其制備的陽(yáng)光控制鍍膜玻璃，玻璃基片表面的膜層為單層納米結(jié)構(gòu)，具有極高的抗酸耐堿性和耐磨性，具有較長(zhǎng)的使用壽命。
【具體實(shí)施方式】
[0006]下面結(jié)合實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】作進(jìn)一步描述。以下實(shí)施例僅用于更加清楚地說(shuō)明本發(fā)明的技術(shù)方案，而不能以此來(lái)限制本發(fā)明的保護(hù)范圍。
[0007]本發(fā)明具體實(shí)施的技術(shù)方案是:
實(shí)施例1
一種陽(yáng)光控制鍍膜玻璃的制備方法，包括如下步驟:
以厚度為20mm的綠色玻璃為玻璃基片；
在拉引速度為100m/h的浮法玻璃生產(chǎn)線的錫槽窄段內(nèi)，通入硅烷、乙烯和氮?dú)?，所述硅烷與乙烯的流量比為2:1，錫槽窄段的溫度控制在700°C，錫槽內(nèi)的壓強(qiáng)控制在35Pa，采用化學(xué)氣相沉積方法在玻璃基片上沉積厚度為5_的硅系納米膜層，得到所述陽(yáng)光控制鍍膜玻璃；
所述硅系納米膜層的沉積過(guò)程采用光學(xué)在線檢測(cè)系統(tǒng)進(jìn)行監(jiān)測(cè)。[0008]實(shí)施例1
一種陽(yáng)光控制鍍膜玻璃的制備方法，包括如下步驟:
以厚度為30mm的綠色玻璃為玻璃基片；
在拉引速度為120m/h的浮法玻璃生產(chǎn)線的錫槽窄段內(nèi)，通入硅烷、乙烯和氮?dú)猓龉柰榕c乙烯的流量比為3:1，錫槽窄段的溫度控制在720°C，錫槽內(nèi)的壓強(qiáng)控制在40Pa，采用化學(xué)氣相沉積方法在玻璃基片上沉積厚度為IOmm的硅系納米膜層，得到所述陽(yáng)光控制鍍膜玻璃； 所述硅系納米膜層的沉積過(guò)程采用光學(xué)在線檢測(cè)系統(tǒng)進(jìn)行監(jiān)測(cè)。
[0009]實(shí)施例1
一種陽(yáng)光控制鍍膜玻璃的制備方法，包括如下步驟:
以厚度為25mm的綠色玻璃為玻璃基片；
在拉引速度為110m/h的浮法玻璃生產(chǎn)線的錫槽窄段內(nèi)，通入硅烷、乙烯和氮?dú)?，所述硅烷與乙烯的流量比為2.5:1，錫槽窄段的溫度控制在710°C，錫槽內(nèi)的壓強(qiáng)控制在38Pa，采用化學(xué)氣相沉積方法在玻璃基片上沉積厚度為7_的硅系納米膜層，得到所述陽(yáng)光控制鍍膜玻璃；
所述硅系納米膜層的沉積過(guò)程采用光學(xué)在線檢測(cè)系統(tǒng)進(jìn)行監(jiān)測(cè)。
[0010]以上所述僅是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對(duì)于本【技術(shù)領(lǐng)域】的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在不脫離本發(fā)明技術(shù)原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和潤(rùn)飾，這些改進(jìn)和潤(rùn)飾也應(yīng)視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。
【權(quán)利要求】
1.陽(yáng)光控制鍍膜玻璃的制備方法，其特征在于，包括如下步驟: 以厚度為20-30mm的綠色玻璃為玻璃基片； 在拉引速度為100-120m/h的浮法玻璃生產(chǎn)線的錫槽窄段內(nèi)，通入硅烷、乙烯和氮?dú)?，所述硅烷與乙烯的流量比為2-3:1，錫槽窄段的溫度控制在700-720°C，錫槽內(nèi)的壓強(qiáng)控制在35-40Pa，采用化學(xué)氣相沉積方法在玻璃基片上沉積厚度為5-10mm的硅系納米膜層，得到所述陽(yáng)光控制鍍膜玻璃； 所述硅系納米膜層的沉積過(guò)程采用光學(xué)在線檢測(cè)系統(tǒng)進(jìn)行監(jiān)測(cè)。
【文檔編號(hào)】C03C17/22GK103641329SQ201310608803
【公開(kāi)日】2014年3月19日 申請(qǐng)日期:2013年11月27日 優(yōu)先權(quán)日:2013年11月27日
【發(fā)明者】陶耀軍 申請(qǐng)人:常熟市賽蒂鑲嵌玻璃制品有限公司