專利名稱：四銀低輻射鍍膜玻璃及其制造工藝的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及建筑和汽車用鍍膜玻璃領(lǐng)域，具體是一種四銀低輻射鍍膜玻璃及其制
造工藝ο
背景技術(shù)：
低輻射鍍膜玻璃是一種既能像普通玻璃一樣讓室外的太陽能、可見光透過，又能像紅外反射鏡一樣(尤其對中遠(yuǎn)紅外線)將物體二次輻射熱反射回去的新一代鍍膜玻璃， 在任何氣候環(huán)境下使用，均能達(dá)到控制光線、節(jié)約能源熱量、控制調(diào)節(jié)及改善環(huán)境的作用。 傳統(tǒng)低輻射玻璃包括單銀、雙銀鍍膜玻璃，為了獲得更低的U值、SC(遮陽系數(shù))和良好的光熱比(LSG)，只有通過不斷增加銀層的厚度，但是銀層厚度的增加，就意味著可見光透過的降低、顏色選擇受限，無法滿足不同客戶的需求，于是就出現(xiàn)了更加復(fù)雜的三銀甚至四銀低輻射鍍膜玻璃。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的技術(shù)目的解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題，在銀層中間增設(shè)間隔電介質(zhì)層， 通過其疊加效果抵消由于銀層厚度的增加而降低的可見光透過率。本發(fā)明的技術(shù)方案是一種四銀低輻射鍍膜玻璃，在玻璃基板上設(shè)有鍍膜，其特征在于，所述鍍膜的膜層結(jié)構(gòu)自玻璃基板向外依次為第一電介質(zhì)組合層、第一銀層、第一間隔層電介質(zhì)組合層、第二銀層、第二間隔層電介質(zhì)組合層、第三銀層、第三間隔層電介質(zhì)組合層、第四銀層、第二電介質(zhì)組合層。作為優(yōu)選，所述第一電介質(zhì)組合層、第二電介質(zhì)組合層、第一間隔層電介質(zhì)組合層、第二間隔層電介質(zhì)組合層、第三間隔層電介質(zhì)組合層由SSTOx、CrNx, CdO、MnO2, InSbO, TxO、SnO2> ZnO> ZnSnOx> ZnSnPbOx> ZrO2> AZO> Si3N4^ Si02、SiOxNy> Bi02、A1203、Nb2O5^ Ta2O5^ In2O3^MoO3, TiO2材料膜層中的一種或幾種組成。所述第一電介質(zhì)組合層、第二電介質(zhì)組合層的厚度為10-80nm。所述第一間隔層電介質(zhì)組合層、第二間隔層電介質(zhì)組合層、第三間隔層電介質(zhì)組合層的厚度為10-200nm。所述第一銀層、第二銀層、第三銀層、第四銀層的厚度為5-40nm。一種四銀低輻射鍍膜玻璃的制造工藝，采用真空磁控濺射鍍膜，其特征在于，包括以下步驟在玻璃基板上依次鍍制第一電介質(zhì)組合層、第一銀層、第一間隔層電介質(zhì)組合層、 第二銀層、第二間隔層電介質(zhì)組合層、第三銀層、第三間隔層電介質(zhì)組合層、第四銀層、第二電介質(zhì)組合層。所述第一電介質(zhì)組合層、第二電介質(zhì)組合層、第一間隔層電介質(zhì)組合層、第二間隔層電介質(zhì)組合層、第三間隔層電介質(zhì)組合層可采用雙旋轉(zhuǎn)陰極、中頻反應(yīng)磁控濺射方式或者平面陰極、直流磁控濺射的方式沉積膜層。所述第一銀層、第二銀層、第三銀層、第四銀層采用平面陰極、直流濺射的方式沉積膜層。所述雙旋轉(zhuǎn)陰極、中頻反應(yīng)磁控濺射的方式在氬氧、氬氮或氬氧氮氛圍中進(jìn)行。所述平面陰極、直流濺射的方式在氬氧、氬氮或純氬氛圍中進(jìn)行。本發(fā)明所提供的四銀低輻射鍍膜玻璃及其制造工藝，具有獨特的膜層結(jié)構(gòu)，對傳統(tǒng)的低輻射鍍膜玻璃進(jìn)行了改進(jìn)，解決傳統(tǒng)低輻射玻璃在銀層厚度和層數(shù)增加后產(chǎn)生的可見光透過率降低、外觀顏色呈現(xiàn)干擾色、顏色選擇受限等問題，特別是使用新型材料的電介質(zhì)層代替金屬阻擋層的阻擋保護作用，從而取消了金屬阻擋層，使得可見光透過大幅提升。 本發(fā)明的玻璃具有具很高的可見光透過率、極低的輻射率、良好的光熱比，具有良好的光學(xué)穩(wěn)定性、耐候性和顏色多樣，可滿足不同客戶的需求，隔熱保溫效果好，紫外線阻擋率高，適宜廣泛應(yīng)用到汽車玻璃和建筑玻璃市場。


圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施例方式為了闡明本發(fā)明的技術(shù)方案及技術(shù)目的，下面結(jié)合附圖及具體實施方式
對本發(fā)明做進(jìn)一步的介紹。如圖所示，本發(fā)明的四銀低輻射鍍膜玻璃的結(jié)構(gòu)及膜層厚度為玻璃/第一電介質(zhì)組合層(IO-SOnm)/第一銀層(5-40nm)/第一間隔層電介質(zhì)組合層(10-200nm)/第二銀層(5-40nm) /第二間隔層電介質(zhì)組合層(10-200nm) /第三銀層 (5-40nm)/第三間隔層電介質(zhì)組合層(10-200nm)/第四銀層(5-40nm)/第二電介質(zhì)組合層 (10-80nm)。其中第一、第二電介質(zhì)組合層，第一、第二、第三間隔層電介質(zhì)組合層由SSTOx、 CrNx, CdO、MnO2, InSbO、TxO, SnO2, ΖηΟ、ZnSnOx, ZnSnPbOx, ZrO, AZO, Si3N4, SiO、SiOxNy, BiO2, Α1203、Nb2O5, Ta2O5, In2O3> MoO3> TiO2等材料構(gòu)成的膜層中的一種或幾種組成。實施例1 本發(fā)明具體實施使用的磁控濺射鍍膜機，包括23個交流旋轉(zhuǎn)雙陰極，8個直流平面陰極，采用下表列出工藝參數(shù)，使用17個交流旋轉(zhuǎn)雙陰極，4個直流平面陰極，按照膜層的先后順序依次鍍制，制出本發(fā)明四銀低輻射鍍膜玻璃。玻璃基板在鍍膜前要經(jīng)過清洗干燥，然后在真空磁控濺射鍍膜機中進(jìn)行預(yù)真空過渡，然后開始鍍膜工序，其工藝參數(shù)和靶的位置列表如下
權(quán)利要求
1.一種四銀低輻射鍍膜玻璃，在玻璃基板上設(shè)有鍍膜，其特征在于，所述鍍膜的膜層結(jié)構(gòu)自玻璃基板向外依次為第一電介質(zhì)組合層、第一銀層、第一間隔層電介質(zhì)組合層、第二銀層、第二間隔層電介質(zhì)組合層、第三銀層、第三間隔層電介質(zhì)組合層、第四銀層、第二電介質(zhì)組合層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種四銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第一電介質(zhì)組合層、第二電介質(zhì)組合層、第一間隔層電介質(zhì)組合層、第二間隔層電介質(zhì)組合層、第三間隔層電介質(zhì)組合層由 SSTOx、CrNx, CdO、MnO2, InSbO, TxO, SnO2, ZnO, ZnSnOx, ZnSnPbOx, ZrO2, AZO, Si3N4, SiO2, SiOxNy, BiO2, Α1203、Nb2O5, Ta2O5, Ιη203、MoO3> TiO2 材料膜層中的一種或幾種組成。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種四銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第一電介質(zhì)組合層、第二電介質(zhì)組合層的厚度為10-80nm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種四銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第一間隔層電介質(zhì)組合層、第二間隔層電介質(zhì)組合層、第三間隔層電介質(zhì)組合層的厚度為10-200nm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的四銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第一銀層、第二銀層、第三銀層、第四銀層的厚度為5-40nm。
6.一種四銀低輻射鍍膜玻璃的制造工藝，采用真空磁控濺射鍍膜，其特征在于，包括以下步驟在玻璃基板上依次鍍制第一電介質(zhì)組合層、第一銀層、第一間隔層電介質(zhì)組合層、第二銀層、第二間隔層電介質(zhì)組合層、第三銀層、第三間隔層電介質(zhì)組合層、第四銀層、第二電介質(zhì)組合層；所述第一電介質(zhì)組合層、第二電介質(zhì)組合層、第一間隔層電介質(zhì)組合層、第二間隔層電介質(zhì)組合層、第三間隔層電介質(zhì)組合層采用雙旋轉(zhuǎn)陰極、中頻反應(yīng)磁控濺射方式或者平面陰極、直流磁控濺射的方式沉積膜層。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種四銀低輻射鍍膜玻璃的制造工藝，其特征在于，所述第一銀層、第二銀層、第三銀層、第四銀層采用平面陰極、直流濺射的方式沉積膜層。
8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的一種四銀低輻射鍍膜玻璃的制造工藝，其特征在于，所述雙旋轉(zhuǎn)陰極、中頻反應(yīng)磁控濺射的方式在氬氧、氬氮或氬氧氮氛圍中進(jìn)行。
9.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的四銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述平面陰極、直流濺射的方式在氬氧、氬氮或純氬氛圍中進(jìn)行。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種四銀低輻射鍍膜玻璃及其制造工藝，所述四銀低輻射鍍膜玻璃在玻璃基板上設(shè)有鍍膜，其特征在于，所述鍍膜的膜層結(jié)構(gòu)自玻璃基板向外依次為第一電介質(zhì)組合層、第一銀層、第一間隔層電介質(zhì)組合層、第二銀層、第二間隔層電介質(zhì)組合層、第三銀層、第三間隔層電介質(zhì)組合層、第四銀層、第二電介質(zhì)組合層。本發(fā)明采用了獨特的膜層結(jié)構(gòu)和制造工藝，并且進(jìn)一步使用了新型材料的電介質(zhì)層代替?zhèn)鹘y(tǒng)的金屬阻擋層，使玻璃可見光透過率大幅提升、減少了干擾色，并且增加了顏色選擇范圍，使改良后的產(chǎn)品具很高的可見光透過率、極低的輻射率、良好的光熱比和光學(xué)穩(wěn)定性、耐候性，并能獲得較好的隔熱保溫效果。
文檔編號C03C17/36GK102514279SQ201110381649
公開日2012年6月27日 申請日期2011年11月25日 優(yōu)先權(quán)日2011年11月25日
發(fā)明者林嘉宏 申請人:林嘉宏