本實用新型涉及貼膜設備領域，尤其涉及一種雙面貼膜機。

背景技術：

現(xiàn)有的貼膜方式，一般采用人工散片貼合，物料定位差異大，在貼合的過程中，物料貼合的精度較差，人員手工貼合時，拿取、擺放、治具輔助定位和過稱等工序中，易造成產(chǎn)品的污臟，損壞，而手工定位的不穩(wěn)定，也使得產(chǎn)品的不良率居高不下，而且貼膜過程中，一次定位只能貼合一側(cè)的膠膜，當正反雙面貼合時，須重復定位，浪費時間，且出現(xiàn)不良產(chǎn)品時，損耗很大，提高了生產(chǎn)成本。

技術實現(xiàn)要素：

鑒于以上所述，本實用新型正是針對以上技術問題，提供了一種雙面貼膜機。

一種雙面貼膜機，包括水平放置的傳輸機架和設置在傳輸機架右側(cè)的覆膜機架，所述傳輸機架包括設置在傳輸機架內(nèi)的傳輸滾筒，所述傳輸滾筒的右上方設有下壓輥，所述下壓輥上方設有上壓輥，所述下壓輥右側(cè)設有平整機構(gòu)，所述平整機構(gòu)右側(cè)設有傳遞板，所述覆膜機架左側(cè)設有兩根氣脹軸，所述氣脹軸右側(cè)設有滑槽，所述滑槽內(nèi)設有固定塊，所述固定塊上方設有移動塊，所述固定塊與移動塊上均設有壓膜輥，所述滑槽上方設有封板，所述封板的中心處設有螺紋孔，所述螺紋孔內(nèi)設有螺紋升降桿，所述壓膜輥右側(cè)設有傳遞平臺，所述覆膜機架下方設有電機。

本實用新型提供的一種雙面貼膜機可進一步設置為所述平整機構(gòu)包括兩排交錯分布的壓輥。

本實用新型提供的一種雙面貼膜機可進一步設置為所述氣脹軸分別設置在覆膜機架的上下兩側(cè)。

本實用新型提供的一種雙面貼膜機可進一步設置為所述傳遞平臺上設有多個鏤空槽，所述鏤空槽內(nèi)設有滾筒。

本實用新型提供的一種雙面貼膜機可進一步設置為所述電機通過傳動鏈帶動固定塊上的壓膜輥。

本實用新型的優(yōu)先和有益效果為：板材從下壓輥與上壓輥之間的縫隙中穿過，不僅對板材進行了壓平處理，還把板材上的雜物阻擋在外。所述下壓輥右側(cè)設有平整機構(gòu)，所述平整機構(gòu)包括兩排交錯分布的壓輥，進一步的對板材進行平整處理，使其便于覆膜。板材與薄膜卷上的薄膜一同進入壓膜輥之間的縫隙中，并由壓膜輥對其擠壓，使得薄膜粘附在板材上，達到自動覆膜的目的，具有效率高、誤差小等優(yōu)點。

附圖說明

下面結(jié)合附圖對本實用新型的優(yōu)選實施方式就行優(yōu)選地描述，其中，

圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本實用新型封板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本實用新型傳遞平臺的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實施方式

參照圖1-圖3對本實用新型一種雙面貼膜機實施例做進一步說明。

一種雙面貼膜機，包括水平放置的傳輸機架1和設置在傳輸機架1右側(cè)的覆膜機架2，所述傳輸機架1包括設置在傳輸機架1內(nèi)的傳輸滾筒3，所述傳輸滾筒3的右上方設有下壓輥4，所述下壓輥4上方設有上壓輥5，板材從下壓輥4與上壓輥5之間的縫隙中穿過，不僅對板材進行了壓平處理，還把板材上的雜物阻擋在外。所述下壓輥4右側(cè)設有平整機構(gòu)6，所述平整機構(gòu)6包括兩排交錯分布的壓輥18，進一步的對板材進行平整處理，使其便于覆膜。所述平整機構(gòu)6右側(cè)設有傳遞板7，便于板材傳遞到覆膜機架2上，所述覆膜機架2左側(cè)設有兩根氣脹軸8，所述氣脹軸8分別設置在覆膜機架2的上下兩側(cè)，在氣脹軸8上可裝套薄膜卷，并通過充氣固定薄膜卷，所述氣脹軸8右側(cè)設有滑槽9，所述滑槽9內(nèi)設有固定塊10，所述固定塊10上方設有移動塊11，所述固定塊10與移動塊11上均設有壓膜輥12，所述滑槽9上方設有封板13，所述封板13的中心處設有螺紋孔14，所述螺紋孔14內(nèi)設有螺紋升降桿15，螺紋升降桿15與移動塊11相連，并可通過轉(zhuǎn)動螺紋升降桿15來控制移動塊11上升或下降，便于調(diào)節(jié)壓膜輥12之間的壓力。板材與薄膜卷上的薄膜一同進入壓膜輥12之間的縫隙中，并由壓膜輥12對其擠壓，使得薄膜粘附在板材上，達到自動覆膜的目的。所述壓膜輥12右側(cè)設有傳遞平臺16，所述傳遞平臺16上設有多個鏤空槽19，所述鏤空槽19內(nèi)設有滾筒20，便于把覆好膜的板材輸送至下一道工序。所述覆膜機架2下方設有電機17，所述電機17通過傳動鏈21帶動固定塊10上的壓膜輥12。

最后應說明的是：以上所述僅為本實用新型的優(yōu)選實施例而已，并不用于限制本實用新型，盡管參照前述實施例對本實用新型進行了詳細的說明，對于本領域的技術人員來說，其依然可以對前述各實施例所記載的技術方案進行修改，或者對其中部分技術特征進行等同替換，凡在本實用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本實用新型的保護范圍之內(nèi)。