專利名稱：X－射線曝光控制方法和裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及在通過輻射源照射對象的過程中(尤其是在通過X-射線曝光的過程中)限制施加到對象的輻射(輸入劑量率)的方法和裝置。本發(fā)明還涉及在利用限制輸入劑量率的方法和裝置的同時(shí)控制X-射線曝光的方法和裝置。本發(fā)明還涉及實(shí)施所述的方法的X-射線發(fā)生器以及包括所述類型的裝置的對應(yīng)的X-射線設(shè)備或X-射線系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
一般地說，X-射線設(shè)備或系統(tǒng)包括一個(gè)或多個(gè)X-射線源，該X-射線源具有用于產(chǎn)生X-射線的X-射線管和X-射線發(fā)生器，該X-射線發(fā)生器被提供有電源(高壓發(fā)生器)，該電源包括主要部分并輸送操作X-射線管所要求的高壓。在X-射線源和產(chǎn)生高壓的部件組合以形成一個(gè)結(jié)構(gòu)單元時(shí)，這種單元也稱為single-tank發(fā)生器。
為了獲得照射的區(qū)域的最佳的圖像質(zhì)量(亮度、對比度、信號噪聲比和銳度)，特別是入射在相關(guān)區(qū)域中的X-射線的強(qiáng)度具有關(guān)鍵的作用。一般地說，X-射線劑量越大圖像質(zhì)量越好。在另一方面，很顯然的原因是，必須確保患者不暴露在過高的劑量率中。各個(gè)國家的官方法規(guī)和規(guī)章都規(guī)定了在這種檢查中的最大值。
患者或?qū)ο笏芷毓獾膭┝柯手饕Q于施加到X-射線管的電壓和電流的調(diào)節(jié)、在X-射線管和對象之間的距離(SSD或源與皮膚間距)以及可能設(shè)置在X-射線管和對象之間的束路徑中的任何濾光器。
因?yàn)檫@些參數(shù)一般受自動(dòng)曝光裝置控制或者在檢查的過程中可以由用戶改變，因此必須遵守特定的步驟以確保不超過患者所曝光的施加的最大劑量率。
EP1 035 420公開了一種在放射成像系統(tǒng)中曝光控制的方法和裝置，該方法和裝置希望解決如下的問題在由于在X-射線源和對象之間或者在X-射線源和圖像采集裝置之間的距離變化引起的相關(guān)的對象的幾何尺寸放大的情況下，在保持照射到對象的輻射劑量恒定時(shí)在信號噪聲比方面所遇到的問題。在此所輸入的劑量根據(jù)這兩個(gè)距離變化以使在對象平面中適合的等效劑量保持恒定。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一個(gè)基本目的是提供一種方法和裝置，通過該方法和裝置將施加到要檢查的對象的(X-射線)輻射劑量率(輸入劑量率)限制到可選擇的最大值，而與由用戶所選擇的用于運(yùn)行輻射源的控制曲線無關(guān)，并且與照射條件比如在對象和輻射源之間的距離、它們的輻射量以及設(shè)置在束路徑中的濾光器無關(guān)。
此外，本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種X-射線曝光控制的方法和裝置，在這種方法和裝置中不超過可選擇的最大輸入劑量率，而與控制曲線和照射條件無關(guān)，即特別是在使用自動(dòng)曝光裝置時(shí)如此。
本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供一種X-射線曝光控制的方法和裝置，在這種方法和裝置中不管所說的參數(shù)如何都不會(huì)超過可選擇的最大輸入劑量率，并且可用于熒光檢查以及系列曝光(單圖像)。
最后，本發(fā)明的另一目的是提供一種X-射線發(fā)生器，該X-射線發(fā)生器包括實(shí)施上述的方法中的一種方法的裝置。
以權(quán)利要求1所述的技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)該目的，該權(quán)利要求1公開了在通過輻射源(尤其是X-射線源)照射對象的過程中限制施加到對象的輻射(輸入劑量率)的方法，該輻射源由通過多對值形成的控制曲線(I，II)控制，由此每次輻射源的至少一個(gè)第一操作參數(shù)與輻射源的第二操作參數(shù)相關(guān)，根據(jù)照射條件校正該控制曲線以使在照射的過程中任何對值都不超過輸入劑量率。
以權(quán)利要求6中所述的實(shí)施該方法的裝置實(shí)現(xiàn)該目的，該裝置包括用于至少一個(gè)控制曲線以及至少一個(gè)產(chǎn)出(yield)曲線的第一存儲裝置、計(jì)算所校正的控制曲線的可編程的算術(shù)單元以及用于存儲所校正的控制曲線的第二存儲裝置。
這些方案的特定優(yōu)點(diǎn)在于可使用所校正的控制曲線，該控制曲線的整個(gè)長度都可以用于調(diào)整所需的管參數(shù)(管電壓、管電流或負(fù)載)，因此可以使圖像的質(zhì)量最佳，而不會(huì)造成超過最大的輸入劑量率的危險(xiǎn)。
從屬權(quán)利要求涉及本發(fā)明的進(jìn)一步的有利的實(shí)施例。
權(quán)利要求2和3涉及優(yōu)選的控制曲線，而權(quán)利要求4和5描述了優(yōu)選的照射條件和考慮這種條件的方式。
參考附圖并通過對舉例的方式給出的優(yōu)選的實(shí)施例的描述將會(huì)清楚本發(fā)明的進(jìn)一步的細(xì)節(jié)、特征和優(yōu)點(diǎn)。


附圖1所示為根據(jù)本發(fā)明的X-射線系統(tǒng)的方塊圖，附圖2所示為X-射線管的第一控制曲線，附圖3所示為X-射線管的第二控制曲線，附圖4所示為作為所施加的電壓的函數(shù)的X-射線管的產(chǎn)出曲線，附圖5所示為根據(jù)本發(fā)明的第一方法的流程圖，以及附圖6所示為根據(jù)本發(fā)明的第二方法的流程圖。
實(shí)施例詳述附圖1所示為根據(jù)本發(fā)明的X-射線系統(tǒng)的方塊圖。該系統(tǒng)包括以X-射線管的形式的X-射線源，由此將X-射線照射到要檢查的對象8(患者)。通過距離測量裝置11測量在X-射線管的焦點(diǎn)和要檢查的對象的入口平面之間的距離(SSD或者源與皮膚間距)。對于給定的檢查，濾光器2可以設(shè)置在X-射線源1和要檢查的對象8之間。通過濾光傳感器裝置21檢測所使用的濾光器的類型。
通過檢測器3例如次級電子倍增器(圖像增強(qiáng)器)檢測已經(jīng)穿過要檢查的對象8的輻射以通過相機(jī)4轉(zhuǎn)換為相應(yīng)的圖像信號。隨后通過帶有劑量率傳感器9的分束器傳導(dǎo)圖像信號，由此測量在對象之后的劑量率并產(chǎn)生對應(yīng)的劑量率信號(10)。隨后在視頻放大器5中處理圖像信號，在這之后將它顯示在監(jiān)視器6。
為操作X-射線管1，提供了一種X-射線發(fā)生器7，該X-射線發(fā)射器基本由控制裝置70和給X-射線管1輸送電源的電源單元80組成，通過所說的控制裝置70控制X-射線管1，將該控制裝置構(gòu)造成形成X-射線發(fā)生器的一部分或者作為單獨(dú)的單元。
控制裝置70接收由測量裝置11所形成的距離信號、由濾光傳感器裝置21所形成的濾光器信號和由劑量率傳感器9所形成的劑量率信號(10)。
此外，用戶可以在控制單元70中進(jìn)行各種調(diào)節(jié)或者選擇。這些活動(dòng)基本是相關(guān)的檢查的適當(dāng)?shù)目刂魄€的選擇(71)、在檢查的過程中不超過的要檢查的最大劑量率(輸入劑量率)的調(diào)節(jié)、自動(dòng)曝光裝置基于其控制曝光量的管電壓和/或管電流的初始值的調(diào)節(jié)(73)以及在連續(xù)曝光的情況下(單次曝光的靜態(tài)圖像)管電壓的脈沖重復(fù)頻率的調(diào)節(jié)(74)。
控制裝置70實(shí)質(zhì)包括第一存儲裝置75，用于控制X-射線管的操作的多個(gè)控制曲線。每次通過多個(gè)值對形成控制曲線，由此X-射線管的第一操作參數(shù)每次與X-射線管的第二操作參數(shù)相關(guān)，例如管電壓與管電流或負(fù)載相關(guān)。
多個(gè)控制曲線實(shí)施不同的控制分布，通過系統(tǒng)的用戶選擇不同的控制分布作為檢查的類型的函數(shù)以實(shí)現(xiàn)最佳的圖像裝置。
第一存儲裝置75也起存儲多個(gè)產(chǎn)出曲線的作用，每次通過多對值形成產(chǎn)出曲線，由此第一或第二操作參數(shù)的數(shù)量每次與可以實(shí)現(xiàn)的劑量率相關(guān)，并將該劑量率規(guī)格化(normalize)為管電流以及與X-射線管的距離。
控制裝置70也包括算術(shù)單元76，該算術(shù)單元76選擇適當(dāng)?shù)漠a(chǎn)出曲線作為所使用的X-射線管的類型以及所施加的信號(特別是濾光器信號)的函數(shù)和所進(jìn)行的調(diào)節(jié)，并且該算術(shù)單元在算術(shù)上校正由用戶所選擇的控制曲線；以及第二存儲裝置77，用于存儲所校正的控制曲線。
自動(dòng)曝光裝置(未示)根據(jù)由劑量率傳感器9所產(chǎn)生的劑量率信號(10)確定適合于最佳曝光量的第一操作參數(shù)值?；谒Ｕ目刂魄€確定與第一操作參數(shù)的這個(gè)值相關(guān)的第二操作參數(shù)值。然后將這對值施加到電壓輸送單元80。
最后，電壓輸送單元80連接到X-射線管1并以所接收的值對產(chǎn)生操作X-射線管1所需的電壓和電流，并且在連續(xù)曝光的情況下在時(shí)間上具有適當(dāng)?shù)淖兓?例如方波脈沖形)。
為了實(shí)施X-射線檢查，X-射線管1和要檢查的對象8必須相對運(yùn)動(dòng)到對要檢查的區(qū)域最佳成像的位置。
因?yàn)樵赬-射線束方向上的相對運(yùn)動(dòng)，在要檢查的對象的入口面上增加或者降低劑量率。在垂直于X-射線束的方向上的相對運(yùn)動(dòng)的情況下，該束一般穿過具有不同的吸收特性的要檢查的對象的區(qū)域。因此運(yùn)動(dòng)的方向?qū)е略趫D像增強(qiáng)器3上的劑量率的變化，由此還導(dǎo)致在監(jiān)視器6上顯示的圖像的亮度的變化。
由于劑量率的降低影響了圖像質(zhì)量，在劑量率降低時(shí)通過自動(dòng)曝光裝置成比例地自動(dòng)增加或者可以手動(dòng)地增加施加到X-射線管1的電壓和/或電流。然而，還需要考慮，一方面，劑量率的連續(xù)增加導(dǎo)致可能導(dǎo)致在所形成的圖像中在細(xì)小部位過曝光。在另一方面，由于健康的原因，當(dāng)然還需要保持患者的輻射負(fù)荷盡可能地小并且不超過患者的預(yù)定的最大輸入劑量率。
在X-射線管和患者之間的距離改變或者在束路徑中插入不同的濾光器時(shí)應(yīng)該特別注意，因?yàn)檩斎雱┝柯士赡軐?shí)質(zhì)增加。
控制裝置70被設(shè)計(jì)成在自動(dòng)曝光裝置的控制范圍中無論如何都不超過最大的輸入劑量率。下文基于實(shí)例詳細(xì)描述這種實(shí)施方式。
更具體地說，如上文所述，控制裝置70存儲用于熒光檢查的多個(gè)第一控制曲線，因此不同的管電壓U每次與相應(yīng)的管電流I相關(guān)。此外，控制裝置存儲用于連續(xù)曝光的多個(gè)第二控制曲線，由此相應(yīng)的負(fù)載值Q每次與不同的管電壓U相關(guān)。通過舉例，附圖2示出了一條第一控制曲線(I)，而附圖3示出了一條第二控制曲線(II)。
還存儲的并且其中之一在附圖4中示出的產(chǎn)出曲線(III)描述了在考慮可能插入到束路徑中的濾光器的同時(shí)每次在施加到X-射線管的管電壓和每mA管電流所獲得的劑量率Y之間的關(guān)系，即規(guī)格化為距X-射線管1米(產(chǎn)出)的距離下。由此每次X-射線曝光基于與所使用的濾光器和X-射線管相關(guān)的產(chǎn)出曲線。
為了確保在由用戶可調(diào)節(jié)的或選擇的一個(gè)或多個(gè)參數(shù)(特別是在X-射線管和要檢查的對象之間的距離、管電壓、管電流、管類型、濾光器的類型、脈沖率)改變的情況下不超過施加到對象的X-射線的預(yù)先設(shè)定的最大劑量率，在考慮這種最大的輸入劑量率的同時(shí)校正控制曲線。
在本方面應(yīng)該區(qū)別用于熒光檢查的第一控制曲線(I)的校正和用于連續(xù)曝光的第二控制曲線(II)的校正。
對于熒光檢查，首先對用戶所選擇的第一控制曲線進(jìn)行算術(shù)分析以在附圖2的繪制中確定在該曲線的右上端，即最高的管電壓的值以及與這個(gè)電壓值相關(guān)的管電流的值。對于在附圖2中的實(shí)例，對于150kV的最大電壓獲得9mA的電流。
此外，基于按照所使用的濾光器(和X-射線管)選擇的產(chǎn)出曲線，確定這種最大的電壓的產(chǎn)出。對于在附圖4中所示的實(shí)例，對于150kV的最大電壓獲得大約96.4μGy/mA的產(chǎn)出。
通過將這種產(chǎn)出乘以所確定的最大電流獲得在最大管電壓的情況下在距X-射線管1米的距離下可能產(chǎn)生的最大劑量率。對于所說的實(shí)例，這種最大的劑量率達(dá)到867.6μGy/s。
隨后，通過將這個(gè)值乘以在X-射線管和要檢查的對象之間的實(shí)際距離的負(fù)二次方確定入射在要檢查的對象上的最大的劑量率。對于0.8m的距離，如通過距離測量裝置11所確定，例如獲得1355.63μGy/s的值。
然后將這個(gè)值與最大輸入劑量率的所選擇的值(例如，600μGy/s)進(jìn)行比較。將這個(gè)最大值除以所計(jì)算的值得到減縮系數(shù)(在本實(shí)例中為0.4426)，由此乘以與最高的值相關(guān)的電流值(在該情況下9mA)。對于最大的電壓來說這使電流值降低(在該情況下3.9834mA)，由此獲得了降低的597.51W的最大功率。
然后將這對值(降低的電流值和最大電壓)定義為在增加電壓方向上的上部(最后的)的值對，并作為校正的控制曲線的末端。然后基于這個(gè)上端校正控制曲線的變化以使在任何位置上都不超過所計(jì)算的降低的最大功率以及因此預(yù)定的最大的輸入劑量率。
通過定義新的(上部)曲線段(2)實(shí)現(xiàn)這些，由此在最大的電壓值之下的電壓值每次與相應(yīng)的降低的電流值相關(guān)，這些值的乘積每次產(chǎn)生了等于或小于降低的最大功率的功率。新的曲線段(2)因此在原始控制曲線的方向上延伸，直到它與這個(gè)曲線交叉，因此替換了位于這兩個(gè)曲線的交叉點(diǎn)(在此情形102.5kV)之上的原始控制曲線的部分(1)。因此校正的控制曲線由對應(yīng)于原始變化的第一下部段和新的第二上部段(2)構(gòu)成。
當(dāng)然，第二上部段的變化可以是這樣的從上部的值對開始，管電壓和相應(yīng)的電流值的乘積在原始曲線的方向上降低，然后交叉點(diǎn)僅達(dá)到下部電壓值。
可取的是，以通過算術(shù)單元76執(zhí)行的程序的形式實(shí)施該方法?；诟綀D5中所示的流程圖說明該程序的執(zhí)行。
在該程序的開始100之后，在第一步驟101中檢查在先前執(zhí)行的曲線校正之后濾光器2和/或X-射線管1是否已經(jīng)改變。如果已經(jīng)改變，在第二步驟102中，選擇與這種新的X-射線管/濾光器組合相關(guān)的產(chǎn)出曲線并在第七步驟107中繼續(xù)執(zhí)行。
如果在第一步驟101中的結(jié)果為否定，則在第三步驟103中檢查自從最后校正之后控制曲線是否已經(jīng)改變。如果已經(jīng)改變，則在第七步驟107中繼續(xù)執(zhí)行。否則在第四步驟104中檢查自最后校正之后在X-射線管和要檢查的對象8之間的距離是否已經(jīng)改變。如果已經(jīng)改變，則在第七步驟107中繼續(xù)執(zhí)行；否則，在第五步驟105中檢查自最后校正之后所選擇的最大的輸入劑量率是否已經(jīng)改變。如果檢查結(jié)果是肯定的，則在第七步驟107中繼續(xù)執(zhí)行；否則，通過第九步驟109終止該方法。
在第七步驟107中，檢查依照附圖2的第一控制曲線是否包括造成可能超過在要檢查的對象上的所選擇的最大輸入劑量率的值對。如果包括，則在第八步驟108中校正該控制曲線以存儲在第二存儲裝置77中。然后在第九步驟109中終止該程序，與在第七步驟107中的檢查的結(jié)果為否定的情況類似。
如上文所述，在第一種控制曲線的校正的情況下執(zhí)行在第七步驟107和第八步驟108。
為了校正用于連續(xù)曝光的第二控制曲線(附圖3)，在連續(xù)曝光中X-射線管運(yùn)行在脈沖的模式中，輸入的劑量率的預(yù)定的最大值(例如，800μGy/s)必須除以每秒的曝光間隔數(shù)(即，例如2/s的脈沖重復(fù)頻率)。因此獲得用于單脈沖(一個(gè)曝光間隔)的最大劑量值，這種單脈沖是說明的實(shí)例的基礎(chǔ)，并且在本實(shí)例中可達(dá)到400μGy。
用戶所選擇的第二控制曲線的分析開始確定用于最大管電壓的負(fù)載。在附圖3中所示的曲線對于130kV的最大的電壓產(chǎn)生大約5.17mA的負(fù)載。
基于根據(jù)所使用的濾光器所選擇的產(chǎn)出曲線再次確定最大的電壓的產(chǎn)出。對于在附圖4中所確定的實(shí)例，對于130kV的最大的電壓，獲得大約67μGy/mA的產(chǎn)出。
因此通過將所說的產(chǎn)出乘以所確定的最大負(fù)載獲得在距X-射線管1米的距離下在最大的管電壓下所發(fā)生的最大劑量。在所說的實(shí)例中這種劑量達(dá)到346.4μGy。
隨后通過將這個(gè)值乘以在X-射線管和要檢查的對象之間的實(shí)際的距離的負(fù)二次方確定入射在要檢查的對象上的最大的劑量。在0.8m的距離下，如通過距離測量裝置11所確定，本實(shí)例獲得541.25μGy的值。
然后將這個(gè)值與一個(gè)脈沖的先前所計(jì)算的最大劑量的值(在這種情況下為400μGy)進(jìn)行比較。通過將這個(gè)最大值除以所計(jì)算的值獲得降低系數(shù)(在這種情況下為0.74)，由控制曲線計(jì)算的負(fù)載值(在這種情況下為5.17mA)乘以所說的降低系數(shù)。這就得到130kV的最大管電壓的降低的負(fù)載值(在這種情況下為3.827mA)，因此得到降低的最大能量495.51w。
然后將這值對(降低的負(fù)載值、最大電壓)定義為在增加電壓的方向上的上部(最后的)值對，以及因此作為校正的控制曲線的末端。然后基于這個(gè)上端校正控制曲線的變化，以便再次使在任何位置上都不超過所計(jì)算的降低的最大能量，以及因此對于給定的脈沖重復(fù)頻率的預(yù)定的最大的輸入劑量率。
通過定義新的(上部)曲線段(2)實(shí)現(xiàn)這些，由此在最大的電壓值之下的電壓值每次與相應(yīng)的降低的電流值相關(guān)，這些值的乘積每次產(chǎn)生了等于或小于最大能量的能量。因此新的曲線段在原始控制曲線的方向上延伸，直到它與這個(gè)曲線交叉，因此替換了位于這兩個(gè)曲線的交叉點(diǎn)(在81.2kV的情況下)之上的原始控制曲線的部分(1)。因此校正的控制曲線再次由對應(yīng)于原始變化的第一下部段和新的第二上部段(2)構(gòu)成。
第二上部段的變化可以仍然是這樣的從上部值對開始，管電壓和相關(guān)的負(fù)載值在原始曲線的方向上降低，交叉點(diǎn)僅在下部電壓值被到達(dá)。
可取的是，再次以通過算術(shù)單元76執(zhí)行的程序的形式實(shí)施該方法。
附圖6所示為這種程序的基本步驟。這個(gè)程序的執(zhí)行與附圖5中所示的程序的執(zhí)行不同，在第五步之后插入了第六步驟106，在第六步驟106中檢查自最后校正之后是否已經(jīng)改變了脈沖重復(fù)頻率。如果已經(jīng)改變了，在第七步驟107中繼續(xù)執(zhí)行，與在步驟101至105中的檢查的肯定的結(jié)果的起來類似；在步驟107中檢查根據(jù)在附圖3中的第二控制曲線是否包含造成超過所選擇的最大的輸入劑量率的值對。如果這種檢查是肯定的，則在第八步驟108中校正該控制曲線，并且將經(jīng)校正的控制曲線存儲在第二存儲裝置77中。
根據(jù)上文的描述在第二控制曲線的校正的情況下實(shí)施第七步驟107和第八步驟108。
還可以沒有新的第二上部曲線段(2)被確定的形式來校正控制曲線，但專門使用第一下部曲線段；這意味著所校正的控制曲線僅根據(jù)原始控制曲線以及該對值所位于的點(diǎn)變化，由此獲得最大的預(yù)定輸入劑量率。然而，本發(fā)明的一個(gè)特有的優(yōu)點(diǎn)在于除了少數(shù)的例外以外這是不需要的。
其它的控制曲線可以用作在附圖2和3中所示的曲線的變型。
一種變型實(shí)例如通過控制曲線形成，對于該控制曲線分別繪制在附圖2和3中的x軸和y軸中的第一和第二操作參數(shù)相互交換。
例如，在X-射線管以脈沖的模式運(yùn)行時(shí)還可以改變以管電壓或管電流的脈沖寬度的形式的第一參數(shù)。然后最大輸入劑量率對應(yīng)于不會(huì)超過的最大的脈沖寬度。
進(jìn)一步的變型包括定義帶有三個(gè)操作參數(shù)的三維控制曲線，其中一個(gè)操作參數(shù)可調(diào)節(jié)，通過其它的兩個(gè)或一個(gè)操作參數(shù)的上述計(jì)算可以校正該控制曲線。例如這些參數(shù)可以是脈沖重復(fù)頻率以及管電壓和管電流。
因此根據(jù)本發(fā)明的原理實(shí)際上可以延伸到兩個(gè)或多個(gè)的操作參數(shù)的任何組合，所說的參數(shù)首先是管電壓、管電流、在脈沖模式中這些變量的脈沖寬度和這些變量的脈沖重復(fù)頻率。在本方面中在X-射線管和要檢查的對象之間的距離的變化和具有不同的輻射吸收的濾光器的交換也是可行的。
最后，根據(jù)本發(fā)明的方法還可以用于照相的單次曝光。
權(quán)利要求
1.一種在通過輻射源尤其是X-射線源照射對象的過程中限制施加到對象的輻射(輸入劑量率)的方法，該輻射源由通過多對值形成的控制曲線(I，II)控制，由此輻射源每次至少一個(gè)第一操作參數(shù)與輻射源的第二操作參數(shù)相關(guān)，根據(jù)照射條件校正該控制曲線以使在照射的過程中對于任何對值都不超過輸入劑量率。
2.權(quán)利要求1所述的方法，其中第一操作參數(shù)是X-射線管電壓，而第二操作參數(shù)是X-射線管電流。
3.權(quán)利要求1所述的方法，其中第一操作參數(shù)是X-射線管電壓，而第二操作參數(shù)是X-射線管電流和曝光時(shí)間的乘積。
4.權(quán)利要求1所述的方法，其中照射條件由在對象和輻射源之間的距離、它的輻射產(chǎn)出以及在束路徑中設(shè)置的濾光器定義。
5.權(quán)利要求1所述的方法，其中以由多對值組成的產(chǎn)出曲線(III)的形式定義照射條件，由此每次一個(gè)操作參數(shù)與規(guī)格化的X-射線量相關(guān)。
6.實(shí)施如在先任一權(quán)利要求所述的方法的裝置，該裝置包括用于至少一個(gè)控制曲線以及至少一個(gè)產(chǎn)出曲線的第一存儲裝置(75)、計(jì)算如在權(quán)利要求1-5中任一權(quán)利要求所述的經(jīng)校正的控制曲線的可編程的算術(shù)單元(76)以及用于存儲所校正的控制曲線的第二存儲裝置(77)。
7.一種在利用如在權(quán)利要求1至5中任一權(quán)利要求所述的方法而進(jìn)行X-射線曝光控制的方法。
8.一種用于X-射線曝光控制的裝置，包括如在權(quán)利要求6中所述的裝置以及自動(dòng)曝光控制裝置，由此基于所測量的施加給對象的劑量率和基于校正的控制曲線產(chǎn)生控制用于X-射線管(1)的電壓輸送單元(80)的信號。
9.一種包括用于X-射線管(1)的電壓輸送單元(80)以及如在權(quán)利要求8中所述的裝置的X-射線發(fā)生器。
10.一種包括如在權(quán)利要求9中所述的X-射線發(fā)生器的X-射線系統(tǒng)。
全文摘要
本發(fā)明涉及在通過輻射源(1)照射對象的過程中(特別是在X－射線曝光的過程中)限制施加到對象的輻射(輸入劑量率)的方法和裝置。通過所計(jì)算的系數(shù)校正產(chǎn)生施加到要檢查的對象上的超過預(yù)定的最大輸入劑量率的輸入劑量率的控制曲線的值對。這就得到了整個(gè)長度用于調(diào)節(jié)所需的管參數(shù)(管電壓、管電流或負(fù)載)的校正的控制曲線，而不會(huì)造成超過最大的輸入劑量率的危險(xiǎn)。
文檔編號H05G1/46GK1427659SQ02156370
公開日2003年7月2日 申請日期2002年12月18日 優(yōu)先權(quán)日2001年12月21日
發(fā)明者U·博特, A·賽姆克 申請人:皇家菲利浦電子有限公司