板在制造工藝中有較大部分的工藝期間內(nèi)可維持處于真空環(huán)境中而可提高產(chǎn)量。
[0027]以下參照圖1A至圖6B描述這些及其他的實(shí)施方式。
[0028]圖1A至圖1B圖示根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式所提供的示例性處理工具100的示意性俯視平面圖。參照圖1A，處理工具100包括傳送腔室102，傳送腔室102具有多個側(cè)面(或小平面)104a?104i，這些側(cè)面104a?側(cè)面104i形成九邊形的傳送腔室102?？墒褂闷渌螤詈?或其他的側(cè)面數(shù)量，例如可形成封閉的多邊形。
[0029]在圖1A至圖1B的實(shí)施方式中，第一組側(cè)面104a、104b及104c比其余的第二組側(cè)面104d?104i要窄。第一組側(cè)面104a、104b及104c用來將傳送腔室102耦接至一個或更多個基板傳送單元，諸如耦接至裝載鎖定腔室108(舉例言之，例如耦接至一個、兩個或三個裝載鎖定腔室)，且裝載鎖定腔室108耦接至工廠接口 106。其余的第二組側(cè)面104d?104i可耦接至處理腔室IlOa?IlOf。在某些實(shí)施方式中，第一組側(cè)面104a、104b及104c可各自具有約450毫米(mm)至550毫米的寬度，和/或第二組側(cè)面104d?104i可各自具有約650毫米至950毫米的寬度。然而，在某些實(shí)施方式中，第一組側(cè)面104a、104b及104c和/或第二組側(cè)面104d?104i的寬度范圍可為約450毫米至950毫米，和/或第一組側(cè)面104a、104b及104c和/或第二組側(cè)面104d?104i可為相同尺寸。第一組側(cè)面104a?104c和/或第二組側(cè)面104d?104i可采用其他寬度，例如不同側(cè)面可具有不同寬度。
[0030]在圖1A的實(shí)施方式中，多個類似的處理腔室耦接至傳送腔室102的第二組側(cè)面104d?104i (例如，每個處理腔室可能占據(jù)相似的占地面積(footprint))。然而，在某些實(shí)施方式中，諸如圖1B的實(shí)施方式，處理腔室110a、處理腔室110c、處理腔室IlOe和處理腔室I 1f可為類似的處理腔室，例如外延沉積腔室，同時處理腔室I 1b和處理腔室I 1d可為不同類型的處理腔室，諸如蝕刻腔室。占地面積顯示出不同類型的腔室，處理腔室110a、處理腔室110c、處理腔室IlOe和處理腔室IlOf所占的占地面積與處理腔室IlOb和處理腔室IlOd所占的占地面積不同?？墒褂闷渌奶幚砬皇遗渲梅绞?、數(shù)量和/或類型。
[0031]如圖1B所示，處理腔室I 1a?I 1f可分別經(jīng)由腔室接口 112a?112f耦接至傳送腔室102。這些腔室接口 112a?112f可包括，例如，通路、狹縫或閘式閥(gate valve)或諸如此類者，但圖中未分別示出這些腔室接口。在使大型處理腔室耦接至傳送腔室102的實(shí)施方式中，可能希望提供較深的腔室接口以允許移動大型處理腔室并使大型處理腔室與傳送腔室102隔開得更遠(yuǎn)?？勺龀龃朔N配置方式以適用于較大占地面積而可例如提供較佳的操作渠道(service access)及諸如此類者。在圖1B的實(shí)施方式中，所示的腔室接口 112b和腔室接口 112d的深度大于腔室接口 112a、腔室接口 112c、腔室接口 112e和腔室接口 112f的深度。例如，腔室接口 112b和腔室接口 112d可具有約260毫米至約320毫米的深度，和/或腔室接口112a、腔室接口 112c、腔室接口 112e和腔室接口 112f可具有約160毫米至約260毫米的深度。因此，第二組側(cè)面104a?104f可具有腔室接口 112a?112f，且腔室接口 112a?112f可具有不同深度?？墒褂镁哂衅渌疃鹊那皇医涌?112a?112f。
[0032]工廠接口106被配置成用于接收一個或更多個基板載具114a?114d以用于將基板提供至這些處理腔室IlOa?IlOf。盡管圖1A至圖1B中示出四個基板載具，但應(yīng)理解，所述工廠接口 106可接收和/或被配置成用于接收更多個或更少個基板載具。在圖1A至圖1B的實(shí)施方式中，工廠接口 106的幾何中心側(cè)向地(lateralIy)偏離所述傳送腔室102的幾何中心一段距離“O”，以便提供進(jìn)出所述傳送腔室102的額外渠道。然而，在其他實(shí)施方式中，可提供其他的偏離距離或無偏離。
[0033]圖2A至圖2B根據(jù)文中提供的實(shí)施方式，分別圖示傳送腔室102的示例性實(shí)施方式的等角視圖和俯視平面圖。參照圖2A至圖2B，傳送腔室102包括:狹縫開口 202a?202b，且這些狹縫開口 202a?202b位于第一側(cè)面104b中；和開口 204a?204b，且這些開口 204a?204b貫穿第一組側(cè)面的其他的側(cè)面102a和側(cè)面104c，以用于與多達(dá)三個基板傳送單元接口，諸如裝載鎖定腔室(例如，單個式、批次式或堆疊式的裝載鎖定腔室，圖中未分別示出)。狹縫開口202a?202b的尺寸可調(diào)整成允許末端執(zhí)行器(end effector)從傳送腔室102進(jìn)入位于這些狹縫開口 202a?202b前方處的裝載鎖定腔室內(nèi)。如以下進(jìn)一步所描述的，開口 204a?204b的尺寸可調(diào)整成大于狹縫開口 202a?202b的尺寸，以允許機(jī)械手的腕部(wrist)或其他部分可伸出并通過傳送腔室102而可伸向位于距離傳送腔室102更遠(yuǎn)處的上裝載鎖定腔室和下裝載鎖定腔室(例如，堆疊式裝載鎖定腔室)。狹縫開口 202a?202b的示例性尺寸為約45毫米x400毫米至約65毫米x600毫米。開口 204a?204b的示例性尺寸為約280毫米x400毫米至約430毫米x600毫米。其他尺寸可用于狹縫開口 202a?202b和/或開口 204a?204b中的任一者。
[0034]如圖2A所示，第二組側(cè)面104d?104i各自包括第二開口 206a?206f，這些第二開口允許機(jī)械手在傳送腔室102與處理腔室(例如，處理腔室I 1a?I 1f)之間傳送基板，這些處理腔室耦接至傳送腔室102。在某些實(shí)施方式中，第二開口 206a?206f可擴(kuò)大以允許機(jī)械手的一部分(腕部或其他部分)在此傳送期間可伸出并通過傳送腔室102。第二開口 206a?206f的示例性尺寸為約180毫米x400毫米至約270毫米x600毫米。其他尺寸可用于第二開口206a ?206f
[0035]在某些實(shí)施方式中，為了對傳送腔室102提供額外的強(qiáng)度，可為傳送腔室102的上蓋208在介于第二開口 206a?206f之間的區(qū)域中提供額外材料。例如，可在各個開口 206a?206f之間提供肋材(rib)210，和/或去除位于各個第二開口 206a?206f前方處的區(qū)域212中的材料。例如，每個肋材210可比區(qū)域212更進(jìn)一步朝傳送腔室區(qū)域內(nèi)延伸約20毫米至30毫米。可采用其他的肋材尺寸和/或結(jié)構(gòu)配置。
[0036]圖2C至圖2D根據(jù)文中提供的實(shí)施方式，分別圖示傳送腔室102的示例性實(shí)施方式的等角視圖和俯視平面圖，且所述傳送腔室102中設(shè)置有機(jī)械手214。如圖2C所示，在某些實(shí)施方式中，第二開口206a?206f的尺寸可經(jīng)調(diào)整而適用于機(jī)械手214的腕部216，使得在基板傳送作業(yè)期間，機(jī)械手214可進(jìn)一步伸出通過所述傳送腔室102的第二組側(cè)面104d?104i。如圖2D所示，傳送腔室102可包括一個或更多個栗開口 218，以供額外的真空栗使用，例如可用于低溫栗(cryogenic pump)或類似裝置。在某些實(shí)施方式中，機(jī)械手214可為雙臂式和/或偏軸式機(jī)械手?？刹捎闷渌麢C(jī)械手。
[0037]圖3A至圖3B根據(jù)文中提供的實(shí)施方式，分別圖示傳送腔室102的示例性實(shí)施方式的等角視圖和俯視平面圖，所述傳送腔室102包括接口單元302，且所述接口單元302耦接至所述傳送腔室102。接口單元302被配置成允許傳送腔室102與多達(dá)三個裝載鎖定腔室(例如，單個式或批次式裝載鎖定腔室、堆疊式裝載鎖定腔室或諸如此類者)接口。在某些實(shí)施方式中，接口單元302可形