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一種陣列基板及其制作方法和顯示裝置的制造方法

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一種陣列基板及其制作方法和顯示裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種陣列基板及其制作方法和顯示裝置。
【背景技術(shù)】
[0002] TFT-LCD (Thin Film Transistor Liquid Crystal Display,薄膜晶體管-液晶顯 示器)作為一種平板顯示裝置,因其具有體積小、功耗低、無(wú)輻射以及制作成本相對(duì)較低等 特點(diǎn),而越來(lái)越多地被應(yīng)用于高性能顯示領(lǐng)域當(dāng)中。
[0003] TFT-LCD由陣列基板和彩膜基板構(gòu)成,在陣列基板和彩膜基板之間設(shè)置有液晶 層。此外,在彩膜基板的上表面設(shè)置有第一偏振片,在陣列基板和背光模組之間設(shè)置有第 二偏振片。現(xiàn)有技術(shù)中,上述偏振片(第一偏振片和第二偏振片)包括兩層三醋酸纖維 素(Triacetyl Cellulose,簡(jiǎn)稱TAC)保護(hù)層,以及夾設(shè)于TAC保護(hù)層之間的第一聚乙稀醇 (Poly VinglAlcohol,簡(jiǎn)稱PVA)材料層。這樣形成的偏光片的厚度較大,導(dǎo)致最終形成的顯 示裝置的厚度較大,對(duì)于實(shí)現(xiàn)超薄顯示裝置帶來(lái)限制,甚至無(wú)法實(shí)現(xiàn)顯示裝置的超薄設(shè)計(jì)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004] 本發(fā)明的實(shí)施例提供一種陣列基板及其制作方法和顯示裝置,解決了現(xiàn)有的顯示 器件中的偏振片厚度過(guò)大,導(dǎo)致形成的顯示器件的厚度過(guò)大的問(wèn)題,實(shí)現(xiàn)了顯示裝置的超 薄化設(shè)計(jì),同時(shí),可以降低像素電極層上的電阻,提高了電荷的迀移率,增強(qiáng)了顯示器件的 顯示效果。
[0005] 為達(dá)到上述目的,本發(fā)明的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案:
[0006] 第一方面,提供一種陣列基板,所述陣列基板包括:襯底基板、形成在所述襯底基 板上的像素電極層,所述像素電極層的表面設(shè)置有第一線柵偏振膜;
[0007] 所述像素電極層的表面為所述像素電極靠近所述襯底基板的一面或遠(yuǎn)離所述襯 底基板的一面。
[0008] 可選的,所述陣列基板還包括:形成在所述襯底基板上的信號(hào)線,其中:
[0009] 所述信號(hào)線的表面設(shè)置有第二線柵偏振膜;
[0010] 所述信號(hào)線的表面為所述信號(hào)線靠近所述襯底基板的一面或遠(yuǎn)離所述襯底基板 的一面;
[0011] 所述第二線柵偏振膜和所述第一線柵偏振膜的偏振方向相同。
[0012] 可選的,所述信號(hào)線包括數(shù)據(jù)線和柵線中的至少一種。
[0013] 可選的,所述第一線柵偏振膜和所述第二線柵偏振膜的柵距為80?150nm。
[0014] 可選的,所述第一線柵偏振膜和所述第二線柵偏振膜的材料為鋁、銀或者鋁和銀 的合金。
[0015] 可選的,所述第一線柵偏振膜和所述第二線柵偏振膜的厚度為100?200nm。
[0016] 第二方面,提供一種陣列基板的制作方法,所述方法包括:
[0017] 提供襯底基板;
[0018] 在所述襯底基板上形成像素電極層;
[0019] 在所述像素電極層的表面形成第一線柵偏振膜;
[0020] 所述像素電極層的表面為所述像素電極層靠近所述襯底基板的一面或遠(yuǎn)離所述 襯底基板的一面。
[0021] 可選的,所述方法還包括:
[0022] 在襯底基板上形成信號(hào)線;
[0023] 在所述信號(hào)線的表面形成第二線柵偏振膜;
[0024] 所述信號(hào)線的表面為所述信號(hào)線靠近所述襯底基板的一面或遠(yuǎn)離所述襯底基板 的一面;
[0025] 所述第二線柵偏振膜和所述第一線柵偏振膜的偏振方向相同。
[0026] 可選的,所述在所述像素電極層的表面,形成第一線柵偏振膜,包括:
[0027] 采用鋁、銀或者鋁和銀的合金材料在所述像素電極層的表面形成一層金屬薄膜;
[0028] 通過(guò)曝光、顯影、刻蝕構(gòu)圖工藝處理所述金屬薄膜,形成所述第一線柵偏振膜。
[0029] 可選的,所述在所述像素電極層的表面,形成第一線柵偏振膜,包括:
[0030] 采用鋁、銀或者鋁和銀的合金材料在所述像素電極層的表面形成一層金屬薄膜;
[0031] 通過(guò)壓印光刻構(gòu)圖工藝處理所述金屬薄膜,形成所述第一線柵偏振膜。
[0032] 可選的,所述在所述信號(hào)線的表面形成第二線柵偏振膜,包括:
[0033] 采用鋁、銀或者鋁和銀的合金材料在所述信號(hào)線的表面形成一層金屬薄膜;
[0034] 通過(guò)曝光、顯影、刻蝕構(gòu)圖工藝處理所述金屬薄膜,形成所述第二線柵偏振膜。
[0035] 可選的,所述在所述信號(hào)線的表面形成第二線柵偏振膜,包括:
[0036] 采用鋁、銀或者鋁和銀的合金材料在所述信號(hào)線的表面形成一層金屬薄膜;
[0037] 通過(guò)壓印光刻構(gòu)圖工藝處理所述金屬薄膜,形成所述第二線柵偏振膜。
[0038] 可選的,所述第一線柵偏振膜和所述第二線柵偏振膜的柵距均為80?150nm。
[0039] 可選的,所述第一線柵偏振膜和所述第二線柵偏振膜的厚度為100?200nm。
[0040] 第三方面,提供一種顯示裝置,所述顯示裝置包括第一方面所述的任一陣列基板。
[0041] 本發(fā)明的實(shí)施例提供的陣列基板及其制作方法和顯示裝置,通過(guò)采用線柵偏振膜 來(lái)實(shí)現(xiàn)對(duì)光線的起偏,并將該線柵偏振膜設(shè)置在像素電極層上,這樣線柵偏振膜與像素電 極層直接連接在一起,由于線柵偏振膜采用金屬材料形成,因此通電后像素電極層上的電 阻大大減小,解決了現(xiàn)有的顯示器件中的偏振片厚度過(guò)大,導(dǎo)致形成的顯示器件的厚度過(guò) 大的問(wèn)題,實(shí)現(xiàn)了顯示裝置的超薄化設(shè)計(jì),同時(shí),可以降低像素電極層上的電阻,提高了電 荷的迀移率,增強(qiáng)了顯示器件的顯示效果。
【附圖說(shuō)明】
[0042] 為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn) 有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本 發(fā)明的一些實(shí)施例,對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講,在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下,還可以 根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0043]圖1為本發(fā)明的實(shí)施例提供的一種陣列基板的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0044] 圖2為本發(fā)明的實(shí)施例提供的另一種陣列基板的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0045] 圖3為本發(fā)明的實(shí)施例提供的一種陣列基板的制作方法的流程示意圖;
[0046] 圖4為本發(fā)明的實(shí)施例提供的另一種陣列基板的制作方法的流程示意圖;
[0047] 圖5為本發(fā)明的實(shí)施例提供的又一種陣列基板的制作方法的流程示意圖。
[0048] 附圖標(biāo)記:1_襯底基板;2-像素電極層;3-第一線柵偏振膜;4-柵極;5-柵絕緣 層;6-源極;7-漏極;8-有源層;9-保護(hù)層;10-數(shù)據(jù)線;11-第二線柵偏振膜;12-柵線。
【具體實(shí)施方式】
[0049] 下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖,對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完 整地描述,顯然,所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例?;?本發(fā)明中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他 實(shí)施例,都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0050] 本發(fā)明的實(shí)施例提供一種陣列基板,參照?qǐng)D1所示,該陣列基板包括:襯底基板1、 形成在襯底基板1上的像素電極層2和第一線柵偏振膜3,其中:
[0051] 第一線柵偏振膜3設(shè)置在像素電極層2的表面。
[0052] 其中,如圖1中所述線柵偏振膜是設(shè)置在像素電極層遠(yuǎn)離襯底基板的一面上,當(dāng) 然第一線柵偏振膜也可以設(shè)置在像素電極層靠近襯底基板的一面上。
[0053] 如圖1中所示,該陣列基板還包括:柵極4、柵絕緣層5、源極6、漏極7、有源層8和 保護(hù)層9。
[0054] 其中,構(gòu)成襯底基板1的材料可以包括玻璃、石英石的至少一種。當(dāng)線柵偏振 膜3應(yīng)用于柔性顯示裝置時(shí),構(gòu)成襯底基板1的材料可以包括聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯 (Polyethylene terephthalate,簡(jiǎn)稱 PET)、三醋酸纖維素(Triacetyl Cellulose,簡(jiǎn)稱 TAC)中的至少一種,以滿足柔性顯示裝置能夠彎曲,卷折的設(shè)計(jì)要求。
[0055] 具有線柵圖案的線柵偏振膜3需要對(duì)入射光具有偏振作用,在此情況下,構(gòu)成上 述線柵圖案的柵距(線柵偏振膜上相鄰兩個(gè)條形的線柵圖案的中心距)需小于等于入射光 波長(zhǎng)的二分之一。
[0056] 需要說(shuō)明的是,本實(shí)施例中只是舉例說(shuō)明陣列基板的結(jié)構(gòu)如圖1中所示,實(shí)際設(shè) 計(jì)中只要保證陣列基板的像素電極層上具有線柵偏振膜即可,有源層可以是在源漏極的上 面也可以是在源漏極的下面,薄膜晶體管可以柵極頂接觸類型也可以是柵極底接觸類型。
[0057] 本發(fā)明的實(shí)施例提供的陣列基板,通過(guò)在陣列基板中采用線柵偏振膜來(lái)實(shí)現(xiàn)對(duì)光 線的起偏,并將該線柵偏振膜設(shè)置在像素電極層上,使得像素電極層部分裸露的位置,這樣 線柵偏振膜與像素電極直接連接在一起,由于線柵偏振膜采用金屬材料形成,因此通電后 像素電極層上的電阻大大減小,解決了現(xiàn)有的顯示器件中的偏振片厚度過(guò)大,導(dǎo)致形成的 顯示器件的厚度過(guò)大的問(wèn)題,實(shí)現(xiàn)了顯示裝置的超薄化設(shè)計(jì),同時(shí),可以降低像素電極層上 的電阻,提高了電荷的迀移率,增強(qiáng)了顯示器件的顯示效果。
[0058] 進(jìn)一步
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