1.一種提高晶圓洗邊精度的裝置，包括旋轉盤和邊膠清洗裝置，所述旋轉盤上卡設涂覆有光刻膠的晶圓，所述邊膠清洗裝置內盛裝有洗邊溶液，所述邊膠清洗裝置還包括將所述洗邊溶液噴灑于所述晶圓的洗邊區(qū)域的噴嘴，其特征在于，還包括對所述洗邊區(qū)域寬度進行實時監(jiān)測的監(jiān)測裝置，所述監(jiān)測裝置包括探測光發(fā)射器和探測光接收器，所述探測光發(fā)射器適于發(fā)射出探測光照射于所述晶圓的邊緣，所述探測光接收器適于接收所述晶圓的邊緣反射的光，并根據(jù)反射的光的能量判斷所述洗邊區(qū)域寬度的變化。
2.根據(jù)權利要求1所述的提高晶圓洗邊精度的裝置，其特征在于，所述探測光發(fā)射器發(fā)出的探測光與水平面的夾角范圍為60度～90度。
3.根據(jù)權利要求1所述的提高晶圓洗邊精度的裝置，其特征在于，所述探測光發(fā)射器發(fā)出的探測光為綠光。
4.根據(jù)權利要求1-3任一項所述的提高晶圓洗邊精度的裝置，其特征在于，所述探測光在所述晶圓上覆蓋的寬度大于所述洗邊區(qū)域的寬度。
5.根據(jù)權利要求1所述的提高晶圓洗邊精度的裝置，其特征在于，還包括數(shù)字信號處理器，所述數(shù)字信號處理器接受所述晶圓邊緣反射的光信號并將其轉化為光能量的數(shù)字信號。
6.根據(jù)權利要求1所述的提高晶圓洗邊精度的裝置，其特征在于，所述旋轉盤的旋轉為勻速。
7.根據(jù)權利要求1所述的提高晶圓洗邊精度的裝置，其特征在于，所述洗邊溶液為有機溶劑。
8.根據(jù)權利要求1所述的提高晶圓洗邊精度的裝置，其特征在于，所述噴嘴噴出所述洗邊溶液的速度為1～30毫升/分鐘。
9.根據(jù)權利要求1所述的提高晶圓洗邊精度的裝置，其特征在于，所述邊膠清洗裝置的最大容許偏移值為200um。