技術特征：

技術總結
本發(fā)明公開了一種陣列基板的制備方法、陣列基板、顯示面板和顯示裝置，用以減少顯示裝置多個亮點和暗點的發(fā)生。制備方法包括提供一襯底基板，在襯底基板上形成有源層，在有源層朝向襯底基板或背離襯底基板的一側形成柵極層，在有源層背離襯底基板的一側形成層間介質(zhì)層，沿遠離襯底基板方向形成的層間介質(zhì)層包括第一膜層、第二膜層、第三膜層、第四膜層，第一膜層和第三膜層包括氧化硅層，第二膜層和第四膜層包括氮化硅層；形成位于層間介質(zhì)層上的光刻膠層；形成從層間介質(zhì)層延伸至有源層的過孔；形成位于層間介質(zhì)層背離襯底基板一側的源、漏極層，在形成源、漏極層的同時去除層間介質(zhì)層中未被源、漏極層覆蓋的部分內(nèi)的第四膜層。

技術研發(fā)人員：葉路路;姚磊;張凱;史大為;高娜娜;張盼盼
受保護的技術使用者：京東方科技集團股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司
技術研發(fā)日：2017.04.12
技術公布日：2017.07.07