本申請是申請?zhí)枮?01380049382.0、申請日為2013年7月25日、發(fā)明名稱為“調(diào)度表生成裝置以及方法、基板處理裝置以及方法”的專利申請的分案申請。

本發(fā)明涉及對基板處理的流程進行計劃的調(diào)度表生成裝置、具有該調(diào)度表生成裝置的基板處理裝置、調(diào)度表生成方法以及基板處理方法。

背景技術(shù)：

具有多種對基板進行處理的基板處理裝置。例如，專利文獻1的基板處理裝置，經(jīng)由基板翻轉(zhuǎn)單元以及基板載置部將對未處理基板以及已處理基板進行收集的分度器部、對基板進行清洗等處理的處理部連接。在分度器部以及處理部分別配置各部專用的搬運機械手。

在專利文獻1中公開了具有獨立被驅(qū)動來前進或后退的兩個臂部的分度器部用搬運機械手(主機械手)。另外，在該兩個臂部各自的頂端設(shè)置有基板保持手部，該基板保持手部能夠保持兩張基板，因此共計能夠搬運4張基板。

現(xiàn)有技術(shù)文獻

專利文獻

專利文獻1：jp特開2010-45214號公報

技術(shù)實現(xiàn)要素：

發(fā)明要解決的問題

但是，在該文獻中，沒有公開在一系列的基板處理中主機械手在哪個時刻應(yīng)該訪問哪個處理單元。因此，在一系列的基板處理中，不能夠確切地根據(jù)狀況設(shè)定各基板的搬運調(diào)度表。

本發(fā)明是鑒于上述的問題而提出的，其目的在于提供一種在一系列的基板處理中，能夠確切地根據(jù)狀況設(shè)定各基板的搬運調(diào)度表，來提高基板處理裝置的生產(chǎn)率的技術(shù)。

用于解決問題的手段

為了解決上述的問題，第1方式的調(diào)度表生成裝置，用于生成基板處理裝置的控制調(diào)度表，該控制調(diào)度表包括搬運處理的調(diào)度表，該搬運處理指，利用規(guī)定的搬運單元將被多個處理單元并行且在彼此獨立的時刻處理過的多張基板向規(guī)定的搬運目的地搬運的處理，該調(diào)度表生成裝置的特征在于，具有比較單元和選擇性調(diào)度表生成單元，該比較單元針對在先基板和在后基板相互比較第1判定用時刻值和第2判定用時刻值，所述在先基板指，通過所述多個處理單元中的任意的一處理單元進行的處理先結(jié)束的基板，所述在后基板指，通過所述多個處理單元中的與所述一處理單元不同的處理單元進行的處理在所述在先基板的處理結(jié)束之后結(jié)束的基板，在將對所述在先基板進行處理的處理單元稱為第1處理單元，將對所述在后基板進行處理的處理單元稱為第2處理單元時，所述第1判定用時刻值為與依次搬出流程結(jié)束的時刻相對應(yīng)的時刻值，所述依次搬出流程為，依次對所述在先基板和所述在后基板進行所述搬運處理的搬出時序，所述第2判定用時刻值為與一并搬出流程結(jié)束的時刻相對應(yīng)的時刻值，所述一并搬出流程表為，使所述在先基板待機至通過所述第2處理單元對所述在后基板進行的處理結(jié)束為止，并在對所述在后基板的處理結(jié)束之后，對所述在先基板和所述在后基板一并進行所述搬運處理的搬出時序；在所述第1判定用時刻值比所述第2判定用時刻值早時，所述選擇性調(diào)度表生成單元采用所述依次搬出流程來生成所述基板處理裝置的調(diào)度表數(shù)據(jù)，在所述第2判定用時刻值比所述第1判定用時刻值早時，所述選擇性調(diào)度表生成單元采用所述一并搬出流程來生成所述基板處理裝置的調(diào)度表數(shù)據(jù)。

第2方式的調(diào)度表生成裝置，在第1方式的調(diào)度表生成裝置中，其特征在于，所述比較單元代替所述第1判定用時刻值采用表示第一特定時刻的時刻值作為所述第1判定用時刻值，該第一特定時刻指，比通過處理部對所述在先基板進行的處理結(jié)束的時刻延遲包含往返所需時間的時間的時刻，所述比較單元代替所述第2判定用時刻值采用表示第二特定時刻的時刻值作為所述第2判定用時刻值，該第二特定時刻指，通過所述處理部對所述在后基板進行的處理結(jié)束的時刻。

第3方式的調(diào)度表生成裝置，在第2方式的調(diào)度表生成裝置中，其特征在于，在通過所述多個處理單元進行的處理結(jié)束的基板被所述搬運單元保持為止的期間，存在需要規(guī)定的中間處理時間的中間處理，所述中間處理是不能對兩張以上的基板同時執(zhí)行，僅能夠依次逐張地對基板執(zhí)行的排他性處理，將通過所述第1處理單元對所述在先基板進行的處理結(jié)束的預(yù)計時刻作為第1處理結(jié)束預(yù)計時刻，將通過所述第2處理單元對所述在后基板進行的處理結(jié)束的預(yù)計時刻作為第2處理結(jié)束預(yù)計時刻，所述比較單元基于與所述第1處理結(jié)束預(yù)計時刻相比延遲包含所述中間處理時間和所述往返所需時間的時間的時刻，確定所述第1判定用時刻值，所述比較單元基于所述第2處理結(jié)束預(yù)計時刻，確定所述第2判定用時刻值。

第4方式的調(diào)度表生成裝置，在第3方式的調(diào)度表生成裝置中，其特征在于，所述搬運單元具有多個基板保持單元，所述多個基板保持單元能夠分別從所述多個處理單元一次取出一張基板，所述中間處理是從所述多個基板保持單元所對應(yīng)的處理單元取出基板的處理。

第5方式調(diào)度表生成裝置，在第1方式的調(diào)度表生成裝置中，其特征在于，預(yù)先將所述調(diào)度表中的針對各基板的各單位工序的時間長度規(guī)定為時間區(qū)段，所述選擇性調(diào)度表生成單元具有：確定候補確定單元，從基本調(diào)度表中以開始預(yù)計時刻早的順序選擇各區(qū)段作為確定候補區(qū)段，該基本調(diào)度表是，連續(xù)排列與針對所述在先基板和所述在后基板進行的一系列工序相對應(yīng)的時間區(qū)段而生成的時序，確定單元，基于所述在先基板和所述在后基板各自的時間區(qū)段相互間的規(guī)定的配置條件，確定所述確定候補區(qū)段的配置時間段；所述確定單元基于所述第1判定用時刻值與所述第2判定用時刻值的比較結(jié)果，確定所述確定候補區(qū)段的配置時間段。

第6方式的調(diào)度表生成裝置，在第1方式的調(diào)度表生成裝置中，其特征在于，所述搬運單元能夠同時保持搬運最大保持?jǐn)?shù)(nmax)的基板，該最大保持?jǐn)?shù)(nmax)為3個以上的值，并且，所述選擇性調(diào)度表生成單元，一邊從應(yīng)該搬運的多張基板中依次成對地選擇所述在先基板和所述在后基板，一邊針對所選擇的所述在先基板和所述在后基板比較所述第1判定用時刻值和所述第2判定用時刻值，由此選擇依次搬運流程、部分一并搬運流程和全部一并搬運流程中的一個流程，來生成所述基板處理裝置的調(diào)度表數(shù)據(jù)，其中，所述依次搬運流程為依次搬運各基板的時序，所述部分一并搬運流程為一并搬運最大保持?jǐn)?shù)(nmax)的基板中的一部分基板的時序，所述全部一并搬運流程為一并搬運最大保持?jǐn)?shù)(nmax)的基板的時序。

第7方式的調(diào)度表生成裝置，在第1方式的調(diào)度表生成裝置中，其特征在于，所述多個處理單元各自進行的處理是，在該處理結(jié)束的基板從各處理單元被所述搬運單元搬出的時間點，基板變?yōu)楦稍餇顟B(tài)且非高溫狀態(tài)的處理。

第8方式的調(diào)度表生成裝置，在第1方式的調(diào)度表生成裝置中，其特征在于，在所述第1判定用時刻值和所述第2判定用時刻值為同一時刻時，所述選擇性調(diào)度表生成單元采用所述依次搬出流程來生成所述基板處理裝置的調(diào)度表數(shù)據(jù)。

第9方式的調(diào)度表生成裝置，在第1方式的調(diào)度表生成裝置中，其特征在于，在所述第1判定用時刻值和所述第2判定用時刻值為同一時刻時，所述選擇性調(diào)度表生成單元采用所述一并搬出流程來生成所述基板處理裝置的調(diào)度表數(shù)據(jù)。

第10方式的調(diào)度表生成裝置，在第1方式的調(diào)度表生成裝置中，其特征在于，所述規(guī)定的搬運目的地包括在鉛垂方向上隔開規(guī)定距離設(shè)置的4個基板載置部，所述搬運單元具有對應(yīng)于所述4個基板載置部在鉛垂方向上隔開規(guī)定距離設(shè)置的4個基板保持單元，能夠在水平方向上分別單獨地驅(qū)動所述4個基板保持單元，由此能夠使所述4個基板保持單元彼此單獨地與所述4個基板保持單元分別對應(yīng)的所述4個基板載置部交接基板。

第11方式的調(diào)度表生成裝置，在第10方式的調(diào)度表生成裝置中，其特征在于，所述搬運單元的所述4個基板保持單元中的位于上方的兩個所述基板保持單元用于搬運實施了所述處理的已處理基板，位于下方的兩個所述基板保持單元用于搬運實施所述處理前的未處理基板。

第12方式的調(diào)度表生成裝置，在第11方式的調(diào)度表生成裝置中，其特征在于，在所述搬運單元將兩張所述已處理基板載置在所述4個基板載置部中的某兩個基板載置部上時，通過位于所述上方的兩個基板保持單元將該兩張已處理基板載置在所述4個基板載置部中位于上方的兩個所述基板載置部上。

第13方式的調(diào)度表生成裝置，在第11方式的調(diào)度表生成裝置中，其特征在于，在所述搬運單元將兩張所述未處理基板載置在所述4個基板載置部中的某兩個基板載置部上時，通過位于所述下方的兩個基板保持單元將該兩張未處理基板載置在所述4個基板載置部中位于下方的兩個所述基板載置部上。

第14方式的調(diào)度表生成裝置，用于生成基板處理裝置的控制調(diào)度表，該控制調(diào)度表包括搬出處理的調(diào)度表，在將由兩張以上基板構(gòu)成的基板組分別稱為基板集合時，該搬出處理指，利用規(guī)定的搬運單元將被包含在規(guī)定的處理部中的多個處理單元并行且在彼此獨立的時刻進行處理過的多個基板集合向規(guī)定的搬出目的地搬出的處理，該調(diào)度表生成裝置的特征在于，具有比較單元和選擇性調(diào)度表生成單元，該比較單元針對在先基板集合和在后基板集合對第1判定用時刻值和第2判定用時刻值進行相互比較，所述在先基板集合指，通過所述處理部進行的處理先結(jié)束的基板集合，所述在后基板集合指，通過所述處理部進行的處理在所述在先基板集合的處理結(jié)束之后結(jié)束的基板集合，所述第1判定用時刻值為與依次搬出流程結(jié)束的時刻相對應(yīng)的時刻值，所述依次搬出流程為，依次對所述在先基板集合和所述在后基板集合進行所述搬出處理的搬出時序，所述第2判定用時刻值為與一并搬出流程結(jié)束的時刻相對應(yīng)的時刻值，所述一并搬出流程為，使所述在先基板集合待機至通過所述處理部對所述在后基板集合進行的處理結(jié)束為止，在所述在后基板集合的處理結(jié)束后，對所述在先基板集合和所述在后基板集合一并進行所述搬出處理的搬出時序；在所述第1判定用時刻值比所述第2判定用時刻值早時，所述選擇性調(diào)度表生成單元一邊采用所述依次搬出流程，一邊生成所述基板處理裝置的調(diào)度表數(shù)據(jù)，在所述第2判定用時刻值比所述第1判定用時刻值早時，所述選擇性調(diào)度表生成單元一邊采用所述一并搬出流程，一邊生成所述基板處理裝置的調(diào)度表數(shù)據(jù)。

第15方式的基板處理裝置，具有第1至第14方式中的任一項的調(diào)度表生成裝置，基于由所述調(diào)度表生成裝置生成的所述調(diào)度表數(shù)據(jù)，進行調(diào)度表控制。

第16方式的基板處理裝置，在第15方式的基板處理裝置中，其特征在于，所述調(diào)度表生成裝置，與基板處理裝置中的一系列基板處理的進行并行地依次生成所述基板處理裝置的在以后到來的時間段中的部分調(diào)度表數(shù)據(jù)，將該部分調(diào)度表數(shù)據(jù)依次賦予所述基板處理裝置的調(diào)度表控制部。

第18方式的調(diào)度表生成方法，用于生成基板處理的控制調(diào)度表，該控制調(diào)度表包括利用規(guī)定的搬運單元將多張基板向規(guī)定的搬運目的地搬運的搬運處理的調(diào)度表，該多張基板是被多個處理單元并行且在彼此獨立的時刻處理過的基板，其特征在于，包括針對在先基板和在后基板的第1確定工序、第2確定工序、比較工序、選擇性調(diào)度表生成工序，所述在先基板指，通過所述多個處理單元中的任意的一處理單元進行的處理先結(jié)束的基板，所述在后基板指，通過所述多個處理單元中的與所述一處理單元不同的處理單元進行的處理在所述在先基板的處理結(jié)束之后結(jié)束的基板，將對所述在先基板進行處理的處理單元稱為第1處理單元，將對所述在后基板進行處理的處理單元稱為第2處理單元，在所述第1確定工序中，確定與依次搬出流程結(jié)束的時刻相對應(yīng)的第1判定用時刻值，所述依次搬出流程為，依次對所述在先基板和所述在后基板進行所述搬運處理的搬出時序，在所述第2確定工序中，確定與一并搬出流程結(jié)束的時刻相對應(yīng)的第2判定用時刻值，所述一并搬出流程為，使所述在先基板待機至通過所述第2處理單元對所述在后基板進行的處理結(jié)束為止，在對所述在后基板的處理結(jié)束后，對所述在先基板和所述在后基板一并進行所述搬運處理的搬出時序，在所述比較工序中，對所述第1判定用時刻值和所述第2判定用時刻值進行相互比較，在所述選擇性調(diào)度表生成工序中，在所述第1判定用時刻值比所述第2判定用時刻值早時，采用所述依次搬出流程，來生成所述基板處理的調(diào)度表數(shù)據(jù)，在所述第2判定用時刻值比所述第1判定用時刻值早時，采用所述一并搬出流程，來生成所述基板處理的調(diào)度表數(shù)據(jù)。

第19方式的調(diào)度表生成方法，用于生成基板處理的控制調(diào)度表，該控制調(diào)度表包括利用規(guī)定的搬運單元將多個基板集合向規(guī)定的搬出目的地搬出的搬出處理的調(diào)度表，所述多個基板集合指，在將由兩張以上基板構(gòu)成的基板組分別稱為基板集合時，被規(guī)定的處理部所包括的多個處理單元并行且在彼此獨立的時刻進行處理過的基板集合，其特征在于，包括針對在先基板集合和在后基板集合的第1確定工序、第2確定工序、比較工序、選擇性調(diào)度表生成工序，所述在先基板集合指，通過所述處理部進行的處理先結(jié)束的基板集合，所述在后基板集合指，通過所述處理部進行的處理在所述在先基板集合的處理結(jié)束之后結(jié)束的基板集合，在所述第1確定工序中，確定與依次搬出流程結(jié)束的時刻相對應(yīng)的第1判定用時刻值，所述依次搬出流程指，依次對所述在先基板集合和所述在后基板集合進行所述搬出處理的搬出時序，在所述第2確定工序中，確定與一并搬出流程結(jié)束的時刻相對應(yīng)的第2判定用時刻值，所述一并搬出流程指，使所述在先基板集合待機至通過所述處理部對所述在后基板集合進行的處理結(jié)束為止，并在對所述在后基板集合的處理結(jié)束后，對所述在先基板集合和所述在后基板集合一并進行所述搬出處理的搬出時序，在所述比較工序中，對所述第1判定用時刻值和所述第2判定用時刻值進行相互比較，在所述選擇性調(diào)度表生成工序中，在所述第1判定用時刻值比所述第2判定用時刻值早時，采用所述依次搬出流程，來生成所述基板處理的調(diào)度表數(shù)據(jù)，在所述第2判定用時刻值比所述第1判定用時刻值早時，采用所述一并搬出流程，來生成所述基板處理的調(diào)度表數(shù)據(jù)。

第20方式的基板處理方法，在第18或者第19方式的調(diào)度表生成方法中，其特征在于，還包括基于由所述調(diào)度表生成方法生成的所述調(diào)度表數(shù)據(jù)執(zhí)行所述基板處理的基板處理工序。

發(fā)明的效果

根據(jù)本發(fā)明的第1～第20方式，在判斷為通過一并搬運流程搬出多張基板的動作比通過依次搬運流程早結(jié)束的情況下，采用一并搬運流程，由此提高基板處理裝置的生產(chǎn)率。

尤其在第5方式中，從基本調(diào)度表中以開始預(yù)計時刻早的順序選擇各區(qū)段來確定配置時間段，并且在該過程中判斷使用依次搬運流程還是使用一并搬運流程，由此能夠系統(tǒng)地進行用于生成調(diào)度表數(shù)據(jù)的數(shù)據(jù)處理。

另外，根據(jù)第6方式，在使用能夠同時保持3張以上的基板的搬運單元的情況下，能夠系統(tǒng)地判斷是采用依次搬運流程還是采用一并搬運流程。

另外，在第7方式中，即使因采用一并搬運流程而產(chǎn)生搬運單元保持基板進行待機的待機時間，也能夠在對基板的處理質(zhì)量影響小的情況下完成。

附圖說明

圖1是表示第1實施方式的基板處理裝置1的整體結(jié)構(gòu)的示意圖。

圖2是第1實施方式的處理區(qū)域3的側(cè)視圖。

圖3是第1實施方式的處理區(qū)域3的側(cè)視圖。

圖4是表示第1實施方式的分度器機械手ir的結(jié)構(gòu)的示意圖。

圖5是表示第1實施方式的清洗處理單元的結(jié)構(gòu)的示意圖。

圖6是表示第1實施方式的翻轉(zhuǎn)處理單元rt的結(jié)構(gòu)的示意圖。

圖7是表示第1實施方式的中央機械手cr的結(jié)構(gòu)的示意圖。

圖8是第1實施方式的中轉(zhuǎn)部50的側(cè)視圖。

圖9是第1實施方式的中轉(zhuǎn)部50的俯視圖。

圖10是第1實施方式的基板處理裝置1的系統(tǒng)框圖。

圖11是表示第1實施方式的控制部60所具有的結(jié)構(gòu)的框圖。

圖12是說明第1實施方式的中央機械手cr和清洗處理單元中的基板交接動作的概念圖。

圖13是說明第1實施方式的中央機械手cr和清洗處理單元中的基板交接動作的概念圖。

圖14是說明第1實施方式的中央機械手cr和中轉(zhuǎn)部50中的基板交接動作的概念圖。

圖15是表示生成第1實施方式的調(diào)度表時的計劃邏輯的流程圖。

圖16是表示通過第1實施方式的計劃邏輯生成的調(diào)度表的例子的圖。

圖17是表示通過第1實施方式的計劃邏輯生成的調(diào)度表的例子的圖。

圖18是表示通過第1實施方式的計劃邏輯生成的調(diào)度表的例子的圖。

圖19是從基本調(diào)度表發(fā)生的變化的說明圖。

圖20是以一覽便的形式表示在圖21至圖23中使用的區(qū)段的標(biāo)記的意思的圖。

圖21是表示基本調(diào)度表的例子的圖。

圖22是表示利用一并搬運流程的調(diào)度表的例子的圖。

圖23是表示利用依次搬運流程的調(diào)度表的例子的圖。

圖24是表示第2實施方式的調(diào)度表生成過程的流程圖。

圖25是說明3個以上的基板的基本調(diào)度表的圖。

圖26是說明在取出區(qū)段為排他的情況下由第2實施方式生成的調(diào)度表的圖。

圖27是說明在取出區(qū)段為非排他的情況下由第2實施方式生成的調(diào)度表的圖。

圖28是生成3個以上的基板的一并搬運流程的過程的說明圖。

圖29是表示采用3張一并搬運流程的情況下的例子的圖。

圖30是表示采用前兩張一并搬運流程的情況下的例子的圖。

圖31是表示采用依次搬運流程的情況下的例子的圖。

具體實施方式

下面，參照附圖詳細說明本發(fā)明的實施方式。

(第1實施方式)

＜1.基板處理裝置1的概略結(jié)構(gòu)＞

圖1是表示本發(fā)明的第1實施方式的基板處理裝置1的布局的俯視圖。另外，圖2是從圖1中的a-a截面向箭頭a方向觀察的基板處理裝置1的側(cè)視圖。另外，圖3是從圖1中的a-a截面向箭頭b方向觀察的基板處理裝置1的側(cè)視圖。此外，在本說明書中附加的圖中，x方向以及y方向是限定水平面的二維坐標(biāo)軸，z方向限定與xy面垂直的鉛垂方向。

該基板處理裝置1是對半導(dǎo)體晶片等基板w逐張進行處理的單張式的基板清洗裝置。如圖1所示，基板處理裝置1具有分度器區(qū)域2和與該分度器區(qū)域2結(jié)合的處理區(qū)域3，在分度器區(qū)域2和處理區(qū)域3之間的邊界部分配置有中轉(zhuǎn)部50(pass)，該中轉(zhuǎn)部50用于在分度器機械手ir和中央機械手cr之間交接基板w。另外，在基板處理裝置1中具有用于對基板處理裝置1中的各裝置的動作進行控制的控制部60。處理區(qū)域3是進行后述的擦洗清洗處理等基板處理的區(qū)域，基板處理裝置1整體為單張式的基板清洗裝置。

在該第1實施方式的基板處理裝置1中，在控制部60中預(yù)先存儲有用于以數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)的形式生成對各基板進行處理和搬運的調(diào)度表的計算機程序。并且，控制部60的計算機執(zhí)行該計算機程序，來實現(xiàn)作為該控制部60的一個功能的調(diào)度表生成裝置。詳細內(nèi)容后面描述。

＜1.1分度器區(qū)域＞

分度器區(qū)域2是用于將從基板處理裝置1的外部接受的基板w(未處理基板w)交付給處理區(qū)域3，且將從處理區(qū)域3接受的基板w(已處理基板w)搬出至基板處理裝置1的外部的區(qū)域。

分度器區(qū)域2具有：搬運器保持部4，能夠保持搬運器c，該搬運器c能夠容置多張基板w；作為基板的搬運單元的分度器機械手ir；使分度器機械手ir水平移動的分度器機械手移動機構(gòu)5(以下稱為“ir移動機構(gòu)5”)。

搬運器c例如使多張基板w在上下方向上隔開規(guī)定間隔地將多張基板w保持為水平狀態(tài)，以使上表面(兩個主面中的形成電子器件的主面)朝上的狀態(tài)保持多張基板w。多個搬運器c以沿著規(guī)定的排列方向(在第1實施方式中為y方向)排列的狀態(tài)保持在搬運器保持部4上。ir移動機構(gòu)5使分度器機械手ir沿著y方向水平移動。

通過oht(overheadhoisttransfer：架式升降機)、agv(automatedguidedvehicle：自動導(dǎo)向車)等，將容納有未處理基板w的搬運器c從裝置外部搬入載置在各搬運器保持部4上。另外，將在處理區(qū)域3進行完擦洗清洗處理等基板處理的已處理基板w從中央機械手cr經(jīng)由中轉(zhuǎn)部50交接給分度器機械手ir，然后再次容納至搬運器保持部4上所載置的搬運器c中。通過oht等將容納已處理基板w的搬運器c搬出至裝置外部。即，搬運器保持部4發(fā)揮收集未處理基板w以及已處理基板w的基板收集部的功能。

說明本實施方式的ir移動機構(gòu)5的結(jié)構(gòu)。在分度器機械手ir上固定設(shè)置有可動臺，該可動臺和與搬運器c的排列方向平行且沿著y方向延伸的滾珠絲杠螺合，并且相對于導(dǎo)軌自由滑動。由此，在通過旋轉(zhuǎn)馬達使?jié)L珠絲杠旋轉(zhuǎn)時，與可動臺固定設(shè)置的整個分度器機械手ir沿著y軸方向水平移動(都省略圖示)。

這樣，分度器機械手ir能夠沿著y方向自由移動，因此能夠移動至可以將基板搬入或搬出各搬運器c或中轉(zhuǎn)部50(以下，有時將搬入或搬出基板稱為“訪問”)的位置。

圖4是分度器機械手ir的圖解側(cè)視圖。對圖4的各部件標(biāo)注的附圖標(biāo)記中的括號內(nèi)所示的附圖標(biāo)記是將與分度器機械手ir具有大致相同的自由度的機械手機構(gòu)用作中央機械手cr時的中央機械手cr的部件的附圖標(biāo)記。因此，在此參照括號外的附圖標(biāo)記說明分度器機械手ir的結(jié)構(gòu)說明。

分度器機械手ir具有基臺部18。臂部6a以及臂部7a的一端安裝在基臺部18上，在各個臂部的另一端上，以相互不干涉的方式在上下方向上錯開高度地配置有手部6b、6c以及手部7b、7c(在圖1中，手部6b、6c以及手部7b、7c在上下方向上重合。)。

因此，手部6b、6c經(jīng)由臂部6a保持在基臺部18上。另外，手部7b、7c經(jīng)由臂部7a保持在基臺部18上。

各手部6b、6c、7b、7c的頂端都具有一對指部。即，在俯視時，各手部6b、6c、7b、7c的頂端形成分為兩叉的分叉狀，從下方支撐基板w的下表面，來將一張基板w保持為水平狀態(tài)。另外，在本實施方式中，手部7b、7c(位于下方的兩個基板保持單元)在搬運進行清洗處理前的未處理基板時使用，手部6b、6c(位于上方的兩個基板保持單元)在搬運已進行了清洗處理的已處理基板的情況下使用。此外，各手部的一對指部的外形尺寸比在中轉(zhuǎn)部50(圖9)相向配置的一對支撐構(gòu)件54的間隔小。因此，在后述的基板搬入以及搬出作業(yè)中，各手部6b、6c、7b、7c能夠以不與該支撐構(gòu)件54干涉的方式將基板w搬入或搬出中轉(zhuǎn)部50。

另外，各手部6b、6c、7b、7c的一對指部的外形尺寸還比基板w的直徑小。因此能夠穩(wěn)定地保持基板w。

因此，該分度器機械手ir具有4個手部6b、6c、7b、7c，但是為能夠最多同時搬運兩張未處理基板且最多能夠同時搬運兩張已處理基板的機械手機構(gòu)。

臂部6a以及臂部7a都為多關(guān)節(jié)型的屈伸式臂部。分度器機械手ir能夠借助進退驅(qū)動機構(gòu)8單獨地使臂部6a以及臂部7a伸縮。因此，能夠使與該臂部6a、7a對應(yīng)的手部6b、6c以及7b、7c分別水平地進退。

另外，在基臺部18中內(nèi)置有用于使基臺部18圍繞鉛垂軸線旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)機構(gòu)9和用于使基臺部18沿著鉛垂方向升降的升降驅(qū)動機構(gòu)10。

由于形成如上的結(jié)構(gòu)，所以能夠通過ir移動機構(gòu)5使分度器機械手ir沿著y方向自由移動。另外，能夠通過旋轉(zhuǎn)機構(gòu)9以及升降驅(qū)動機構(gòu)10，調(diào)節(jié)分度器機械手ir的各手部在水平面中的角度以及各手部在鉛垂方向上的高度。

因此能夠使分度器機械手ir的各手部6b、6c以及手部7b、7c與運送器c或中轉(zhuǎn)部50相向。分度器機械手ir能夠在手部6b、6c以及手部7b、7c與運送器c相向的狀態(tài)下，使臂部6a或臂部7a伸長，來使與該臂部6a、7a對應(yīng)的手部6b、6c以及手部7b、7c訪問該運送器c。

＜1.2處理區(qū)域＞

處理區(qū)域3是對從分度器區(qū)域2搬運的未處理的基板w進行清洗處理且將進行完該清洗處理的已處理基板w再次搬運至分度器區(qū)域2的區(qū)域。

處理區(qū)域3具有：逐張地對基板上表面進行清洗處理的上表面清洗處理部11；逐張地對基板的下表面進行清洗處理的下表面清洗處理部12；使基板的上下表面翻轉(zhuǎn)的翻轉(zhuǎn)單元rt；作為基板的搬運裝置的中央機械手cr；使中央機械手cr水平移動的中央機械手移動機構(gòu)17(以下還稱為“cr移動機構(gòu)17”)。以下，說明處理區(qū)域3中的各裝置的結(jié)構(gòu)。

如圖1～圖3所示，上表面清洗處理部11具有兩組上表面清洗處理單元ss1～ss4、ss5～ss8，各組分別在上下方向重疊形成為4層結(jié)構(gòu)，另外，下表面清洗處理部12具有兩組下表面清洗處理單元ssr1～ssr4、ssr5～ssr8，各組分別在上下方向上層疊形成為4層結(jié)構(gòu)。

如圖1所示，上表面清洗處理部11以及下表面清洗處理部12在y方向上以間隔規(guī)定距離的狀態(tài)排列配置。中央機械手cr配置在上表面清洗處理部11和下表面清洗處理部12之間。

圖5是表示上表面清洗處理部11的各清洗處理單元ss1～ss8的對基板w的上表面進行擦洗處理的狀態(tài)的圖。清洗處理單元ss1～ss8具有：旋轉(zhuǎn)卡盤111，以水平姿勢保持上表面朝向上側(cè)的基板w且使基板w圍繞沿著鉛垂方向的軸心旋轉(zhuǎn)；清洗刷112，與保持在旋轉(zhuǎn)卡盤111上的基板w的上表面抵接或接近來進行擦洗；噴嘴113，向基板w的上表面噴出清洗液(例如純水)；旋轉(zhuǎn)支撐部114，驅(qū)動旋轉(zhuǎn)卡盤111使其旋轉(zhuǎn)；圍繞保持在旋轉(zhuǎn)卡盤111上的基板w的周圍的杯部件(省略圖示)等；單元殼體115，容納這些構(gòu)件。在單元殼體115上形成有用于搬入以及搬出基板w且配設(shè)有能夠滑動開閉的狹縫116。

下表面清洗處理部12對基板w的下表面進行擦洗處理。與上表面清洗處理單元ss1～ss8相同，下表面清洗處理單元ssr1～ssr8也具有旋轉(zhuǎn)卡盤、清洗刷、噴嘴、旋轉(zhuǎn)支撐部、杯部件以及容納這些構(gòu)件的單元殼體。另外，在單元殼體上形成有用于搬入以及搬出基板w且配設(shè)有能夠開閉的狹縫的門部(都省略圖示)。

此外，上表面清洗處理單元ss1～ss8的旋轉(zhuǎn)卡盤111可以是能夠從下表面?zhèn)缺３只鍂的真空吸附式的旋轉(zhuǎn)卡盤，但是優(yōu)選下表面清洗處理單元ssr1～ssr8的旋轉(zhuǎn)卡盤是從基板w的上表面?zhèn)冗M行保持的機械式地把持基板端緣部的形式的旋轉(zhuǎn)卡盤。

在通過清洗刷112清洗基板w的上表面時，通過未圖示的刷移動機構(gòu)，使清洗刷112移動至上表面朝上被旋轉(zhuǎn)卡盤111保持的基板w的上方。然后，一邊通過旋轉(zhuǎn)卡盤111使基板w旋轉(zhuǎn)一邊從噴嘴113向基板w的上側(cè)面供給處理液(例如純水(去離子水))，然后使清洗刷112與基板w的上側(cè)面接觸。另外，在使清洗刷112與基板w的上側(cè)面接觸的狀態(tài)下，使該清洗刷112沿著基板w的上側(cè)面移動。由此，通過清洗刷112掃描基板w的上側(cè)面，來擦洗基板w的整個上表面。這樣對基板w的上表面進行處理。對基板的下表面清洗處理與此相同。

翻轉(zhuǎn)單元rt是對被中央機械手cr搬入的基板w進行翻轉(zhuǎn)處理的處理單元，在通過翻轉(zhuǎn)單元rt翻轉(zhuǎn)了基板w時，中央機械手cr從翻轉(zhuǎn)單元rt搬出該基板。

在第1實施方式的基板處理裝置1中，在上表面清洗處理部11以及下表面清洗處理部12的各清洗處理單元ss1～ss8、ssr1～ssr8中，對基板的上側(cè)面(與基板的上下表面無關(guān)系，將此刻的鉛垂方向上側(cè)作為上側(cè)面，將鉛垂方向下側(cè)作為下側(cè)面)進行清洗處理。因此，在對基板的兩面進行清洗處理等情況下，需要與清洗處理分開地另外進行基板w的翻轉(zhuǎn)處理，此時使用的單元是翻轉(zhuǎn)單元rt。

此外，在本實施方式中，將清洗處理部11、12內(nèi)的清洗處理單元ss1～ss8以及ssr1～ssr8作為對基板w進行擦洗的裝置進行說明。但是，清洗處理部11、12內(nèi)的清洗處理單元ss1～ss8以及ssr1～ssr8所進行的基板處理不限于該擦洗處理。例如，可以是不進行刷清洗，而通過從與基板的上表面或下表面相向的噴嘴等噴出的處理液(清洗液或沖洗液等)或氣體等的流體單張地對基板w進行清洗的清洗處理單元。

圖6是翻轉(zhuǎn)單元rt的圖解側(cè)視圖。

如圖6所示，翻轉(zhuǎn)單元rt具有水平配置的固定板33和在上下方向上隔著固定板33水平配置的一對可動板34。固定板33以及一對可動板34分別為矩形，在俯視下重合。固定板33以水平狀態(tài)固定在支撐板35上，各可動板34經(jīng)由沿著鉛垂方向延伸的引導(dǎo)部36以水平狀態(tài)安裝在支撐板35上。

各可動板34能夠相對于支撐板35在鉛垂方向上移動。各可動板34借助氣缸等未圖示的驅(qū)動器在鉛垂方向上移動。另外，在支撐板35上安裝有旋轉(zhuǎn)驅(qū)動器37。通過旋轉(zhuǎn)驅(qū)動器37，使固定板33以及一對可動板34與支撐板35一起圍繞水平的旋轉(zhuǎn)軸線一體旋轉(zhuǎn)。旋轉(zhuǎn)驅(qū)動器37使支撐板35圍繞水平的旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)180度，由此能夠使固定板33以及一對可動板34上下翻轉(zhuǎn)。

另外，在固定板33以及一對可動板34中，在相互相向的面(例如，上側(cè)的可動板34的下表面和固定板33的上表面)上分別安裝有多個支撐銷38。多個支撐銷38在各個面上以隔開適當(dāng)?shù)拈g隔的方式配置在與基板w的外周形狀對應(yīng)的圓周上。各支撐銷38的高度(從基端至頂端的長度)形成為恒定，比手部13b～16b的厚度(在鉛垂方向上的長度)大。

固定板33能夠經(jīng)由多個支撐銷38在其上方將一張基板w支撐為水平狀態(tài)。另外，一對可動板34分別在位于下側(cè)時，能夠經(jīng)由多個支撐銷38在其上方將一張基板w支撐為水平狀態(tài)。固定板33的基板支撐位置和可動板34的基板支撐位置在鉛垂方向上的間隔被設(shè)定為與中央機械手cr的各手部13b～16b所保持的兩張基板w在鉛垂方向上的間隔相等。

由于翻轉(zhuǎn)單元rt為以上的結(jié)構(gòu)，所以中央機械手cr能夠使各手部13b～16b所保持的基板w訪問(搬入或搬出)翻轉(zhuǎn)單元rt。此外，后面描述詳細的基板w的交接動作。

在通過中央機械手cr將基板w載置在固定板33上的狀態(tài)下，通過使上側(cè)的可動板34下降，能夠在固定板33和上側(cè)的可動板34之間水平地保持該基板w。另外，在將基板w載置在下側(cè)的可動板34上的狀態(tài)下，通過使該下側(cè)的可動板34上升，能夠在固定板33和下側(cè)的可動板34之間水平地保持該基板w。另外，在翻轉(zhuǎn)單元rt內(nèi)保持有基板w的狀態(tài)下，通過旋轉(zhuǎn)驅(qū)動器37使支撐板35圍繞水平的旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)，由此能夠使被保持的基板w上下翻轉(zhuǎn)。

如以上說明，翻轉(zhuǎn)單元rt能夠?qū)⒍鄰?在本第1實施方式中為兩張)基板w保持為水平，并將所保持的基板w上下翻轉(zhuǎn)。能夠從中央機械手cr側(cè)訪問翻轉(zhuǎn)單元rt。因此，中央機械手cr能夠向翻轉(zhuǎn)單元rt搬入基板w，且能夠從該翻轉(zhuǎn)單元rt搬出被翻轉(zhuǎn)單元rt翻轉(zhuǎn)的基板w。

本實施方式的cr移動機構(gòu)17的結(jié)構(gòu)與上述的ir移動機構(gòu)5的結(jié)構(gòu)相同。即，cr移動機構(gòu)17具有可動臺、在x方向上長的滾珠絲杠和導(dǎo)軌、使?jié)L珠絲杠旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)馬達(都未圖示)。在滾珠絲杠旋轉(zhuǎn)時，與可動臺固定設(shè)置的中央機械手cr整體在上表面清洗處理部11和下表面清洗處理部12之間穿過，在中轉(zhuǎn)部50和翻轉(zhuǎn)單元rt之間的區(qū)間沿著x方向水平移動。

這樣，由于中央機械手cr能夠沿著x方向自由移動，所以能夠移動至能夠?qū)Ω髑逑刺幚韱卧猻s1～ss8、ssr1～ssr8進行訪問(搬入或搬出)的位置。另外，同樣，能夠移動至能夠?qū)χ修D(zhuǎn)部50以及翻轉(zhuǎn)單元rt進行訪問(搬入或搬出)的位置。

中央機械手cr能夠使用與圖4的分度器機械手ir實質(zhì)相同的結(jié)構(gòu)，即將相對固定的2層手部在上下方向上形成兩組且兩組能夠被驅(qū)動獨立進退的機械手機構(gòu)(以下，將“臂部具有兩組，手部具有4個”的機構(gòu)稱為“2a4h機構(gòu)”)，還能夠使用其它結(jié)構(gòu)。由于使用2a4h機構(gòu)的機械手作為中央機械手cr時的各結(jié)構(gòu)部件與圖4中說明的分度器機械手ir相同，所以在此省略重復(fù)說明。

圖7中的(a)是通過驅(qū)動4個臂部13a～16a使4個手部13b～16b分別獨立進退的形式(以下稱為“4a4h機構(gòu)”)的中央機械手cr的圖解側(cè)視圖。另外，圖7中的(b)使表示在后述的基板的搬入作業(yè)以及搬出作業(yè)中中央機械手cr訪問基板清洗處理單元ss(ssr)的狀態(tài)的圖解俯視圖。

如圖7中的(a)所示，成為4a4h機構(gòu)的該中央機械手cr具有基臺部28。各臂部13a～16a的一端安裝在基臺部28上，在各臂部13a～16a的另一端上安裝有各手部13b～16b。因此，各手部13b～16b分別經(jīng)由各臂部13a～16a保持在基臺部28上。

另外，手部13b～16b以相鄰的手部13b～16b不相互干涉的方式在上下方向上錯開高度(在鉛垂方向上相隔同一距離h1)。而且，各手部13b～16b的頂端都具有一對指部。即，在俯視時，各手部13b～16b的頂端形成分為兩叉的分叉狀，各手部13b～16b通過從下方支撐基板w的下表面，能夠?qū)⒁粡埢鍂保持為水平狀態(tài)。在本實施方式中，手部15b、16b(位于下方的兩個基板保持單元)在搬運進行清洗處理前的未處理基板時使用，手部13b、14b(位于上方的兩個基板保持單元)在已進行搬運清洗處理的已處理基板時使用。

此外，各手部13b～16b的一對指部的外形尺寸比中轉(zhuǎn)部50的一對相向的支撐銷55的間隔小。因此，在后述的基板搬入以及搬出作業(yè)中，能夠防止各手部13b～16b與中轉(zhuǎn)部50的支撐構(gòu)件54干涉。

另外，在各手部13b～16b的一對指部之間形成有構(gòu)件通過區(qū)域。該區(qū)域比基板清洗處理單元ss(ssr)的旋轉(zhuǎn)卡盤111大。因此，在后述的基板搬入以及搬出作業(yè)中，能夠防止各手部13b～16b與旋轉(zhuǎn)卡盤111干涉(參照圖7中的(b))。另外，各手部13b～16b的厚度形成為比旋轉(zhuǎn)卡盤111的上表面與旋轉(zhuǎn)支撐部114的上表面之間的間隔小。

另外，臂部13a～16a都為多關(guān)節(jié)型的屈伸式臂部。中央機械手cr通過進退驅(qū)動機構(gòu)29使各臂部13a～16a單獨伸縮，從而能夠使與該臂部對應(yīng)的手部13b～16b單獨水平移動。

另外，在基臺部28中內(nèi)置有用于使基臺部28圍繞鉛垂軸線旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)機構(gòu)31和用于使基臺部28沿著鉛垂方向升降的升降驅(qū)動機構(gòu)32。

在通過cr移動機構(gòu)17使中央機械手cr移動至能夠訪問各清洗處理單元ss1～ss8、ssr1～ssr8的位置后，通過旋轉(zhuǎn)機構(gòu)31使基臺部28旋轉(zhuǎn)來使各手部13b～16b圍繞規(guī)定的鉛垂軸線旋轉(zhuǎn)，并且通過升降驅(qū)動機構(gòu)32使基臺部28在鉛垂方向上升降，由此能夠使任意的手部13b～16b與所希望的清洗處理單元ss1～ss8、ssr1～ssr8相向。另外，在手部13b～16b與清洗處理單元相向的狀態(tài)下，通過使臂部13a～臂部16a伸長，能夠使與該臂部對應(yīng)的手部13b～16b訪問該清洗處理單元。同樣，中央機械手cr能夠使任意的手部13b～16b訪問中轉(zhuǎn)部50或翻轉(zhuǎn)單元rt。

在中央機械手cr采用2a4h機構(gòu)的情況下和采用4a4h機構(gòu)的情況下，能夠從中轉(zhuǎn)部50向處理單元ss1～ss8、ssr1～ssr8一起搬運(同時搬運)的未處理基板最多為兩張，且能夠從處理單元ss1～ss8、ssr1～ssr8向中轉(zhuǎn)部50一起搬運的已處理基板最多為兩張。因此，由于能夠一起搬運的基板的最多張數(shù)相同，所以以下為了便于說明，說明由4a4h機構(gòu)構(gòu)成的中央機械手cr，但是在使用2a4h機構(gòu)作為中央機械手cr時，根據(jù)分度器機械手ir的臂部動作進行類推，能夠理解中央機械手cr的各個臂部動作。另外，采用4a4h機構(gòu)作為分度器機械手ir時的情況也相同。此外，在本實施方式中，作為搬運單元(中央機械手cr、分度器機械手ir)的結(jié)構(gòu)的一個例子說明了其基板保持單元(各手部)為4個的情況，但是不限于此，例如可以為5個以上。

此外，以上說明了能夠通過并用cr移動機構(gòu)17來使中央機械手cr的各手部13b～16b訪問處理單元ss、ssr、中轉(zhuǎn)部50以及翻轉(zhuǎn)單元rt的方式。但是，當(dāng)然能夠不使用cr移動機構(gòu)17，僅通過中央機械手cr的旋轉(zhuǎn)機構(gòu)31、升降驅(qū)動機構(gòu)32、進退驅(qū)動機構(gòu)29使中央機械手cr的各手部13b～16b訪問處理單元ss、ssr、中轉(zhuǎn)部50以及翻轉(zhuǎn)單元rt。

＜1.3中轉(zhuǎn)部50＞

在分度器區(qū)域2與處理區(qū)域3的交界部分配置有用于在分度器機械手ir和中央機械手cr之間交接基板w的中轉(zhuǎn)部50。中轉(zhuǎn)部50為具有基板載置部pass1～pass4的框體，在分度器機械手ir和中央機械手cr之間交接基板w時，在基板載置部pass1～pass4內(nèi)暫時載置基板w。

圖8是第1實施方式的中轉(zhuǎn)部50的側(cè)視圖。另外，圖9是圖8中的a-a截面的從箭頭方向觀察的俯視圖。

在中轉(zhuǎn)部50的框體的側(cè)壁的與分度器機械手ir相向的一側(cè)壁上，設(shè)置有用于搬入或搬出基板w的開口部51。另外，在與上述一側(cè)壁相向且位于中央機械手cr側(cè)的另一側(cè)壁上設(shè)置有同樣的開口部52。

在與框體內(nèi)的開口部51、52相向的部位設(shè)置有將上述基板w保持為大致水平狀態(tài)的4個基板載置部pass1～pass4。因此，分度器機械手ir以及中央機械手cr分別能夠從開口部51、52訪問基板載置部pass1～pass4。

此外，在本實施方式中，在從處理區(qū)域3向分度器區(qū)域2搬運已處理基板w時使用上側(cè)的基板載置部pass1、pass2，在從分度器區(qū)域2向處理區(qū)域3搬運未處理基板w時使用下側(cè)的基板載置部pass3、pass4。因此，例如，在分度器機械手ir將兩張未處理基板w載置在中轉(zhuǎn)部50上時，通過手部7b、7c(位于下方的兩個基板保持單元)，將該兩張未處理基板w載置在4個基板載置部pass1～pass4中的位于下方的基板載置部pass3、pass4上。另外，作為其它例子，在中央機械手cr將兩張已處理基板w載置在中轉(zhuǎn)部50上時，通過手部13b、14b(位于上方的兩個基板保持單元)，將該兩張已處理基板w載置在基板載置部pass1～pass4中的位于上方的基板載置部pass1、pass2上(后邊一邊參照圖14一邊詳細說明)。

如圖8、圖9所示，板載置部pass1～pass4具有固定設(shè)置在框體內(nèi)部的側(cè)壁上的一對支撐構(gòu)件54和以兩個為一組設(shè)置在該支撐構(gòu)件54的上表面的兩端部的共計4個支撐銷55。另外，支撐構(gòu)件54固定設(shè)置在與形成有開口部51、52的側(cè)壁不同的一對側(cè)壁上。支撐銷55的上端形成為圓錐狀(未圖示)。因此，在兩對支撐銷55上通過與基板w的周緣部的4處相卡合來能夠裝卸地保持基板w。

在此，基板載置部pass1與基板載置部pass2之間、基板載置部pass2與基板載置部pass3之間以及基板載置部pass3與基板載置部pass4之間的各支撐銷55在鉛垂方向上隔開同一距離h2設(shè)置(參照圖8)。該距離h2與所述中央機械手cr的手部13b～16b在鉛垂方向上的間隔h1相等。因此，在中央機械手cr與中轉(zhuǎn)部50相向的狀態(tài)下，通過進退驅(qū)動機構(gòu)29使中央機械手cr的手部15b、16b同時伸長，由此能夠同時從中轉(zhuǎn)部50的基板載置部pass3、pass4取得兩張未處理基板w。同樣，通過進退驅(qū)動機構(gòu)29使中央機械手cr的手部13b、14b同時伸長，由此能夠同時將這些手部13b、14b保持的兩張已處理基板w交至中轉(zhuǎn)部50的基板載置部pass1、pass2。

這樣，中央機械手cr(搬運單元)，通過在水平方向上分別單獨驅(qū)動與基板載置部pass1～pass4(4個基板載置部)相對應(yīng)地在鉛垂方向上隔開規(guī)定距離設(shè)置的手部13b～16b(4個基板保持單元)，能夠在手部13b～16b和與之分別對應(yīng)的4個基板載置部pass1～pass4之間單獨交接基板。

＜1.4控制部60＞

圖10是用于說明基板處理裝置1的電氣結(jié)構(gòu)的框圖。另外，圖11是用于說明控制部60的內(nèi)部結(jié)構(gòu)的框圖。

如圖11所示，控制部60例如由經(jīng)由總線65將cpu61、rom62、ram63、存儲裝置64等相互連接的通常的計算機構(gòu)成。rom62存儲基本程序等，ram63用作cpu61進行規(guī)定的處理時的作業(yè)區(qū)域。存儲裝置64由閃存或硬盤裝置等非易失性的存儲裝置構(gòu)成。在存儲裝置64中存儲有處理程序p0以及調(diào)度表生成程序p1。

cpu61按照調(diào)度表生成程序p1中記載的順序進行后述的運算處理，由此以時序排列的表格形式等生成作為處理對象的各基板w的調(diào)度表數(shù)據(jù)(以下，稱為“sd”)。此外，生成的調(diào)度表數(shù)據(jù)sd存儲在存儲裝置64中。

另外，cpu61按照處理程序p0中記載的順序進行運算處理，由此實現(xiàn)基板處理裝置1的各種功能，按照上述調(diào)度表數(shù)據(jù)sd對對象基板w進行規(guī)定的清洗處理。

另外，在控制部60中，輸入部66、顯示部67、通信部68也與總線65連接。輸入部66由各種開關(guān)、觸摸面板等構(gòu)成，從操作員接受處理處理工藝(recipe)等各種輸入設(shè)定指示。顯示部67由液晶顯示裝置、燈等構(gòu)成，基于cpu61控制顯示各種信息。通信部68具有經(jīng)由lan(局域網(wǎng))等的數(shù)據(jù)通信功能。

在控制部60上，作為控制對象連接有分度器機械手ir、中央機械手cr、ir移動機構(gòu)5、cr移動機構(gòu)17、上表面清洗處理部11、下表面清洗處理部12以及翻轉(zhuǎn)單元rt。

此外，在說明與基板處理裝置1的動作相關(guān)的內(nèi)容之后，說明與調(diào)度表生成程序p1相關(guān)的詳細內(nèi)容。

＜2.基板處理裝置1的動作＞

至此，說明了基板處理裝置1中的各裝置的結(jié)構(gòu)以及在各裝置內(nèi)進行的動作(清洗處理和翻轉(zhuǎn)處理等)。

以下，說明基板處理裝置1內(nèi)部的各裝置(基板載置部pass、翻轉(zhuǎn)單元rt、清洗處理單元ss等)與分度器機械手ir和中央機械手cr之間的基板w的交接動作，以及基板處理裝置1整體的基板處理動作。這些動作按照調(diào)度表生成程序p1所生成的調(diào)度表數(shù)據(jù)sd進行，然而，以下首先說明各個動作，然后詳細說明調(diào)度表數(shù)據(jù)sd的生成原理以及基于該原理的綜合的時刻控制。

＜2.1基板w的交接動作＞

如上所述，在分度器機械手ir以及中央機械手cr上設(shè)置有移動機構(gòu)、旋轉(zhuǎn)機構(gòu)、升降機構(gòu)、進退機構(gòu)，能夠使該機械手的各手部訪問基板處理裝置1內(nèi)部的各部件。

關(guān)于此時的基板的交接動作，舉例說明中央機械手cr訪問上表面清洗處理單元ss的情況和中央機械手cr訪問中轉(zhuǎn)部50的情況。

圖12以及圖13是表示中央機械手cr和上表面清洗處理單元ss之間的基板交接動作的一個例子的示意圖。

另外，圖14是表示中央機械手cr和基板載置部pass(中轉(zhuǎn)部50)之間的基板交接動作的示意圖，為了易于理解，僅通過基板w、基板載置部pass1～pass4的支撐構(gòu)件54和手部13b～16b簡單表示基板交接動作。

[中央機械手cr和處理單元之間的訪問]

如圖12中的(a)所示，在處理單元ss的旋轉(zhuǎn)卡盤111上載置有已處理基板w1。另外，處理單元ss的狹縫116滑動，門部117打開。

在中央機械手cr從這樣的上表面清洗處理單元ss搬出已處理基板w1時，首先，控制部60控制旋轉(zhuǎn)機構(gòu)31，使手部13b與該上表面清洗處理單元ss相向。同時，控制部60控制升降驅(qū)動機構(gòu)32，使手部13b的上表面位于旋轉(zhuǎn)卡盤111的上表面之下，且使手部13b的下表面位于旋轉(zhuǎn)支撐部114的上表面之上的高度(參照圖12中的(a))。

接著，控制部60控制進退驅(qū)動機構(gòu)29，使臂部13a伸長。由此，手部13b水平移動進入上表面清洗處理單元ss的內(nèi)部，手部13b頂端的構(gòu)件經(jīng)過區(qū)域經(jīng)過旋轉(zhuǎn)卡盤111，如圖12中的(b)所示，手部13b配置在被旋轉(zhuǎn)卡盤111保持的基板w1的下方。本實施方式的各手部13b～16b能夠單獨伸縮，因此，能夠僅使基板的搬入或搬出作業(yè)所需的手部(在此為手部13b)進入處理單元ss(ssr)的單元殼體115中。由此，能夠使手部13b～16b可能帶入單元殼體115內(nèi)的顆粒的量最少。另外，能夠使旋轉(zhuǎn)卡盤111和旋轉(zhuǎn)支撐部114之間的空間的上下方向上的寬度形成為僅能夠進入一個手部13b～16b的程度。

此后，控制部60控制升降驅(qū)動機構(gòu)32，使手部13b上升。由此，如圖12中的(c)所示，載置在旋轉(zhuǎn)卡盤111上的基板w1交至手部13b的上側(cè)。接著，控制部60控制進退驅(qū)動機構(gòu)29，使臂部13a收縮。由此，如圖12中的(d)所示，手部13b從處理單元ss退避(一張搬出動作)。

另外，在上述的一系列動作中，說明了利用手部13b從在某個上表面清洗處理單元ss搬出一張基板w的情況，但是，在使用其它基板保持手部14b～16b時，只要與上述的搬出一張基板的條件相同，通過升降驅(qū)動機構(gòu)32改變手部的高度，就能夠進行同樣的搬出動作。

接著，說明基板的搬入動作?？刂撇?0控制升降驅(qū)動機構(gòu)32，使臂部15a上升至被手部15b的上表面保持的未處理基板w2到達旋轉(zhuǎn)卡盤111的上方的高度(圖13中的(a))

接著，控制部60控制進退驅(qū)動機構(gòu)29，使臂部15a伸長。由此，手部15b水平移動進入上表面清洗處理單元ss的內(nèi)部，如圖13中的(b)所示，保持在手部15b的上側(cè)的基板w2配置在旋轉(zhuǎn)卡盤111的上方。

然后，控制部60控制升降驅(qū)動機構(gòu)32，使手部15下降。由此，如圖13中的(c)所示，將被手部15b保持的基板w2交給旋轉(zhuǎn)卡盤111。然后，控制部60控制進退驅(qū)動機構(gòu)29，使臂部15a收縮。由此，如圖13中的(d)所示，手部15b從上表面清洗處理單元ss退避(搬入一張基板的動作)。

另外，在上述的一系列動作中，說明了使用手部15b向上表面清洗處理單元ss搬入一張基板w的情況，但是該搬入一張基板的動作與向下表面清洗處理單元ssr搬入一張基板w時的動作相同。

此外，在使手部15b下降時，如圖13中的(b)、圖13中的(c)所示，具有側(cè)視(從水平方向觀察)手部15b與旋轉(zhuǎn)卡盤111重合的時刻。但是，如上所述，由于手部15b為分為兩叉的分叉狀，所以此時旋轉(zhuǎn)卡盤111進入基板保持手部15b的內(nèi)側(cè)，不與手部15b干涉。

同樣，在基板載置部pass和翻轉(zhuǎn)單元rt中的支撐銷和各手部之間的基板交接動作中，也存在側(cè)視(從水平方向觀察)支撐銷和各手部重合的時刻，但是也不發(fā)生干涉。

[中央機械手cr對中轉(zhuǎn)部50的訪問]

圖14是用于說明通過中央機械手cr同時向基板載置部pass1、pass2搬入兩張基板w時的動作的一個例子的示意圖。

在通過中央機械手cr同時向基板載置部pass1、pass2搬入兩張基板w時，例如，在手部13b、14b上各保持一張基板w的狀態(tài)下，將兩張基板w同時搬入基板載置部pass1、pass2(搬入兩張基板的動作)。

具體地說，控制部60控制旋轉(zhuǎn)機構(gòu)9以及升降驅(qū)動機構(gòu)10，使手部13b、14b與基板載置部pass1、pass2相向。此時，如圖14中的(a)所示，使手部13b、14b上升或下降至被手部13b、14b保持的兩張基板w分別位于基板載置部pass1、pass2的上方的高度。

如上所述，將基板載置部pass1～pass4的上下方向上的基板支撐位置在鉛垂方向上的間隔設(shè)定為與被中央機械手cr的各手部13b、14b保持的兩張基板w在鉛垂方向上的間隔相等。因此，只要通過升降驅(qū)動機構(gòu)10使手部13b保持的基板w到達基板載置部pass1的上方，就能夠使其它的手部14b也分別配置在基板載置部pass2的上方。

接著，控制部60控制進退驅(qū)動機構(gòu)8，使臂部13a以及臂部14a同時伸長。由此，手部13b、14b進入基板載置部pass1、pass2的內(nèi)部，如圖14中的(b)所示，被手部13b、14b分別保持的兩張基板w分別配置在基板載置部pass1、pass2的上方。

然后，控制部60控制升降驅(qū)動機構(gòu)10，使手部13b、14b下降至該兩張基板w被基板載置部pass1、pass2支撐的位置。由此，如圖14中的(c)所示，基板w同時載置在基板載置部pass1、pass2的未圖示的支撐銷55上，從分度器機械手ir同時向基板載置部pass1、pass2交付兩張基板w。然后，控制部60控制進退驅(qū)動機構(gòu)29，使臂部13a以及臂部14a同時收縮。由此，手部13b、14b從中轉(zhuǎn)部50退避(搬入兩張基板的動作)。

省略利用圖的說明，在中央機械手cr從基板載置部pass3、pass4同時搬出兩張未處理基板w時，反向進行上述一系列動作。即，使手部15b、16b伸長至基板載置部pass3、pass4的下方。接著，使該手部15b、16b上升，接著使臂部15a以及臂部16a同時收縮，由此能夠利用手部15b、16b從中轉(zhuǎn)部50同時搬出兩張基板w(搬出兩張基板的動作)。

這樣，對于4個基板載置部pass1～pass4，通過設(shè)置使上方基板載置部pass1、pass2用作載置清洗后的已處理基板w且使下方的基板載置部pass3、pass4用作載置清洗前的未處理基板w這樣的利用限制，能夠防止未處理基板w的污染物(顆粒等)轉(zhuǎn)移至已處理基板w上。

另外，在本實施方式中，對于該基板載置部pass1～pass4的利用限制，在上方兩個為已處理基板用且下方兩個為未處理基板用這一點上，與上述的分度器機械手ir以及中央機械手cr所具有的各手部(搬運單元所具有的基板保持單元)的利用限制相同。因此，能夠進一步有效地防止污染物(顆粒等)轉(zhuǎn)移，并且只要使搬運單元訪問一次基板載置部pass1～pass4就能夠交接兩張基板w(圖14)。

至此以中央機械手cr和基板載置部pass為例說明了搬入兩張基板w的動作以及搬出兩張基板w的動作，但是該一系列動作在中央機械手cr(或分度器機械手ir)與其它單元之間交接基板時相同。具體地說，在中央機械手cr和翻轉(zhuǎn)單元rt之間交接基板、在分度器機械手ir和基板載置部pass之間交接基板、以及在分度器機械手ir和運送器c之間交接基板時，都能夠進行上述的搬入兩張基板的動作以及搬出兩張基板的動作。

此外，根據(jù)要保持的基板w是清洗處理前的未處理基板還是已進行清洗處理的已處理基板，區(qū)分使用本實施方式的各機械手(cr或ir)的各手部。因此，根據(jù)上述的搬入動作以及搬出動作的原理能夠通過未處理基板用的手部即手部7b、7c、手部15b、16b搬入或搬出已處理基板w，但是在本實施方式中沒有實施。已處理基板用的手部即手部6b、6c以及手部13b、14b也相同。

＜2.2僅清洗基板w的上表面的情況＞

如上所述，基板處理裝置1具有對基板w的上表面進行擦洗清洗處理的上表面清洗處理部11以及對基板w的下表面進行擦洗清洗處理的下表面清洗處理部12，由此，能夠按照目的進行各種方式的清洗處理(例如，僅對基板w的上表面進行清洗的清洗處理，僅對基板w的下表面進行清洗的清洗處理，對基板w的上表面和下表面兩面進行清洗的清洗處理等)。按照記錄有基板w的搬運順序以及處理條件的處理工藝設(shè)定執(zhí)行哪個清洗處理，處理工藝是針對一組基板w(例如，運載單位的基板組或者被一個搬運器c保持的多張基板組)設(shè)定的。

以下，以實施僅對兩張基板w1和w2的上表面進行清洗的清洗處理的情況為例子，說明基板處理裝置1的動作。

此時，在通過oht(overheadhoisttransfer)、agv(automatedguidedvehicle)等，將容置有多張未處理基板w的搬運器c從裝置外部搬入分度器區(qū)域2的搬運器保持部4時，分度器區(qū)域2的分度器機械手ir，通過手部7b、7c從該搬運器c取出兩張未處理基板w(w1、w2)。

一邊保持該取出的兩張未處理基板w(w1、w2)，一邊通過ir移動機構(gòu)5使分度器機械手ir移動至能夠訪問中轉(zhuǎn)部50的位置。

移動后，分度器機械手ir將被手部7b、7c保持的兩張基板(w1、w2)搬入中轉(zhuǎn)部50內(nèi)的基板載置部pass3、pass4。

在兩張基板w(w1、w2)被基板載置部pass3、pass4支撐的狀態(tài)下，通過cr移動機構(gòu)17使中央機械手cr移動至能夠訪問中轉(zhuǎn)部50的位置。

然后，中央機械手cr通過手部15b、16b搬出中轉(zhuǎn)部50內(nèi)的基板載置部pass3、pass4上所載置的該兩張基板w(w1、w2)。

通過cr移動機構(gòu)17，使接受了兩張基板w(w1、w2)的中央機械手cr在分別保持該兩張基板w的狀態(tài)下移動至能夠訪問上表面清洗處理部11的位置。

移動后，中央機械手cr將手部15b、16b所保持的該兩張基板w(w1、w2)搬入上表面清洗處理單元ss。但是，在中央機械手cr和清洗處理單元ss、ssr之間，不能夠同時交接兩張基板。因此，首先將一張基板w1搬入上表面清洗處理單元ss1，在基板w1的搬入處理結(jié)束后，將基板w2搬入上表面清洗處理單元ss2。此外，為了易于說明，選擇了上表面清洗處理單元ss1、ss2，但是被搬入的上表面清洗處理單元只要是上表面清洗處理單元ss1～ss8中的兩個單元即可，能夠任意進行選擇。

在上表面清洗處理單元ss1以及ss2中，分別進行基板w1以及w2的上表面清洗處理。在上表面清洗處理單元ss內(nèi)，一邊通過旋轉(zhuǎn)卡盤111使基板旋轉(zhuǎn)，一邊從噴嘴113向基板的上側(cè)面供給處理液，通過清洗刷112對基板的上側(cè)面進行掃描，對基板的整個上表面進行擦洗清洗。

結(jié)果，先搬入上表面清洗處理單元的基板w1的上表面清洗處理首先結(jié)束，經(jīng)過規(guī)定時間后，基板w2的上表面清洗處理結(jié)束。

此外，在同一處理工藝內(nèi)，不論在ss1～ss8中的哪個上表面清洗處理單元中都進行同一清洗處理，清洗處理花費的時間不存在時間差。因此，處理單元ss1和ss2中的處理完成時刻的時間差與將基板w1搬入上表面清洗處理單元ss1的時刻和將基板w2搬入上表面清洗處理單元ss2的時刻之間的時間差相同。

這樣，由于清洗處理的結(jié)束時刻產(chǎn)生時間差，所以作為中央機械手cr對基板w1、w2進行搬運處理的順序(搬運流程)可以考慮如下的兩種搬運流程。

該兩種搬運流程中的一種搬運流程是依次搬運流程，即，首先通過中央機械手cr將清洗處理先結(jié)束的基板w1(以下，稱為“在先基板w1”)搬運至中轉(zhuǎn)部50，在在先基板w1的搬運處理結(jié)束后，將清洗處理在在先基板w1之后結(jié)束的基板w2(以下，稱為“在后基板w2”)搬運至中轉(zhuǎn)部50。

另一種搬運流程是一并搬運流程，在對在先基板w1進行的清洗處理結(jié)束后不對基板w1進行搬運處理，而等待到對在后基板w2的清洗處理結(jié)束后，進行通過中央機械手cr將在先基板w1和在后基板w2一并向中轉(zhuǎn)部50搬運的搬運處理。

根據(jù)后述的調(diào)度表生成程序p1的計劃邏輯決定采用該兩種搬運流程中的哪個搬運流程。

以下，繼續(xù)說明采用一并搬運流程的情況下的基板處理裝置1的動作。在通過中央機械手cr將基板w1、w2載置在中轉(zhuǎn)部50的基板載置部pass1、pass2上時，通過ir移動機構(gòu)5使分度器區(qū)域2的分度器機械手ir移動至能夠訪問中轉(zhuǎn)部50的位置。

移動后，分度器機械手ir通過手部6b、6c搬出中轉(zhuǎn)部50內(nèi)的基板載置部pass1、pass2上所載置的基板w1、w2。分度器機械手ir從中轉(zhuǎn)部50(基板載置部pass1、pass2)取出該已處理基板w1、w2，然后通過ir移動機構(gòu)5移動至能夠訪問搬運器c的位置，將被手部6b、6c保持的基板w1、w2容納在搬運器c中。

以上，說明了基板處理裝置1進行上表面處理時的動作，上述的動作僅是基板處理裝置1進行數(shù)個上表面處理時的動作中的一個例子，并不限定于此。在實際的基板處理中，處理對象基板不限于w1和w2這兩張，就分度器機械手ir和中央機械手cr中的基板交接動作而言，在處理對象張數(shù)為多張的情況下，有時在上述的中央機械手cr和處理單元之間進行交換一張基板動作或交換兩張基板的動作。另外，有時采用依次搬運流程作為基板w的搬運流程。

＜2.3清洗基板w的兩個面的情況＞

接著，簡單說明基板w的兩面處理的情況。

首先，分度器機械手ir從搬運器c搬出未處理基板w1、w2，并搬運至中轉(zhuǎn)部50。

在通過分度器機械手ir將兩張基板w1、w2搬入支撐于中轉(zhuǎn)部50的基板載置部pass3、pass4的狀態(tài)下，中央機械手cr從中轉(zhuǎn)部50搬出該兩張基板w1、w2。

中央機械手cr在保持基板w1、w2的狀態(tài)下將它們搬運至翻轉(zhuǎn)單元rt，將該兩張基板w1、w2搬入翻轉(zhuǎn)單元rt內(nèi)。在基板w1、w2被搬入翻轉(zhuǎn)單元rt內(nèi)時，通過旋轉(zhuǎn)驅(qū)動器37使支撐板35圍繞水平的旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)，來使被保持的基板w1、w2的上下表面翻轉(zhuǎn)。

在對基板w1、w2進行翻轉(zhuǎn)處理后，中央機械手cr從翻轉(zhuǎn)單元rt搬出將上側(cè)面變?yōu)橄卤砻娴幕鍂1、w2，在保持該兩張基板w1、w2的狀態(tài)下將它們搬運至下表面清洗處理部12。

在中央機械手cr將基板w1、w2逐張分別搬入下表面清洗處理單元ssr1、ssr2時，進行下表面清洗處理。此外，如上所述，在中央機械手cr與下表面清洗處理單元ssr之間不能同時交接兩張基板w，因此逐張地搬入基板。另外，為了易于說明，選擇了下表面清洗處理單元ssr1和ssr2，但是只要是被搬入的下表面清洗處理單元為下表面清洗處理單元ssr1～ssr8中的兩個單元即可，能夠任意進行選擇。

在下表面清洗處理單元ssr內(nèi)，一邊通過旋轉(zhuǎn)卡盤使基板旋轉(zhuǎn)，一邊從噴嘴向基板的上側(cè)面供給處理液，通過清洗刷掃描基板的上側(cè)面，對該上側(cè)面的整個區(qū)域進行擦洗清洗。此時，通過上述的翻轉(zhuǎn)處理使基板w1、w2的上側(cè)面變?yōu)橄卤砻妫瑏韺ο卤砻孢M行清洗。

與上表面清洗處理相同，在下表面清洗處理中，先搬入下表面清洗處理單元的基板w1(在先基板)的下表面清洗處理首先結(jié)束，在經(jīng)過規(guī)定時間后，對基板w2(在后基板)的下表面清洗處理結(jié)束。

如上所述，在本實施方式中，在處理結(jié)束時刻存在時間差的情況下，由調(diào)度表生成裝置100決定采用依次搬運流程和一并搬運流程中的哪個。以下，繼續(xù)說明調(diào)度表生成裝置100決定采用一并搬運流程的情況下的基板處理裝置1的動作。

在對在后基板w2的下表面清洗處理結(jié)束時，中央機械手cr從下表面清洗處理單元ssr1搬出基板w1且從下表面清洗處理單元ssr2搬出基板w2，再次將基板w1、w2一并向翻轉(zhuǎn)單元rt搬運。

在通過中央機械手cr將該兩張基板w1、w2搬入翻轉(zhuǎn)單元rt內(nèi)時，再次進行翻轉(zhuǎn)處理，使基板w1、w2的上側(cè)面變?yōu)樯媳砻妗?/p>

此外，兩基板w1、w2的翻轉(zhuǎn)后的處理流程與上述“＜2.2僅清洗基板w的上表面的情況＞”中的上表面清洗處理以后的流程相同。即，對基板w1、w2，在通過上表面清洗處理部11對上表面進行清洗處理后，通過中央機械手cr以及分度器機械手ir搬運基板w1、w2，然后將其容納至分度器區(qū)域2內(nèi)的搬運器c中。

＜3.調(diào)度表生成程序p1＞

由此，說明調(diào)度表生成程序p1。如圖11所示，調(diào)度表生成程序p1是儲存在控制部60內(nèi)的存儲裝置64中的程序。調(diào)度表生成程序p1是由進行各種運算處理的cpu61所執(zhí)行來生成作為處理對象的各基板的調(diào)度表數(shù)據(jù)sd的程序，這樣生成的調(diào)度表數(shù)據(jù)sd存儲在存儲裝置64中。

另外，cpu61按照在處理程序p0中記載的順序進行運算處理，來實現(xiàn)基板處理裝置1的各種功能，且按照上述調(diào)度表數(shù)據(jù)sd對對象基板w進行規(guī)定的清洗處理。

＜3.1調(diào)度表生成中的計劃邏輯＞

圖15是表示本發(fā)明的第1實施方式的調(diào)度表生成程序p1的計劃邏輯的流程圖。此外，本實施方式中的“時間區(qū)段”或“區(qū)段”為處理工藝中的單位工序的時間長度，是一旦開始后通常不停止不產(chǎn)生待機時間的時間長度。該時間區(qū)段為本實施方式的調(diào)度表生成中的最小的單位。

后面詳細描述該圖15的流程的具體內(nèi)容，但是在此之前整理用語。

例如，在將基板w從處理單元(上表面清洗處理單元ss1～ss8以及下表面清洗處理單元ssr1～ssr8內(nèi)的某個處理單元，以下相同)移送至中轉(zhuǎn)部50的情況下，該程序由第1階段(取出動作)和第2階段(搬運動作)這兩階段構(gòu)成，在第1階段(取出動作)中，中央機械手cr使手部伸展，從處理單元中的基板設(shè)置位置取出基板，在第2階段(搬運動作)中，對從處理單元取出的基板進行保持的中央機械手cr移動至中轉(zhuǎn)部50，將該基板移動至中轉(zhuǎn)部50內(nèi)的基板設(shè)置位置。即，“移送”是“取出”和“搬運”的組合。

另外，通常，移動至中轉(zhuǎn)部50的中央機械手cr接著進行從中轉(zhuǎn)部50接受新的未處理基板，或者不接受新的基板而返回處理區(qū)域3的動作。即，在從處理區(qū)域3觀察時，通常，中央機械手cr進行保持一張或者多張基板向中轉(zhuǎn)部50移動的“前往運動”、與中轉(zhuǎn)部50之間交接基板的“交接動作”、返回處理區(qū)域3的“返回運動”。因此，以下為了方便，將“前往運動”、“交接動作”和“返回運動”的組合作為第2階段的“搬運”。

＜3.2調(diào)度表生成例1＞

圖16～圖18是表示所進行的規(guī)定的處理(在本實施方式中為清洗處理)在時間上先后結(jié)束的兩張基板w1、w2的針對該處理及移送的調(diào)度表的例子的圖，從各圖的左方朝向右方，表示時刻t的進行。

在圖16中的(a)中示出兩張基板w1、w2的基本調(diào)度表。該“基本調(diào)度表”或者“基本流程”，與其它基板的調(diào)度表無關(guān)，是連續(xù)排列與各張基板的一系列工序相對應(yīng)的時間區(qū)段而生成的時序(sequence)，圖示例子的情況是，將各張基板w1、w2的處理開始時刻t11、t21作為起算點，將“清洗處理區(qū)段”b1、b4、“取出區(qū)段”b2、b5以及“(往返)搬運區(qū)段”b3、b6分別連續(xù)排列而成的調(diào)度表。

其中，“清洗處理區(qū)段”b1、b4與在規(guī)定的時間長度ta內(nèi)對各基板w1、w2進行清洗的處理相當(dāng)，“取出區(qū)段”b2、b5具有搬運機構(gòu)(中央機械手cr)從處理單元取出一張基板所需要的時間長度tb，“(往返)搬運區(qū)段”b3、b6表示搬運機構(gòu)(中央機械手cr)將從處理單元取出的基板搬運至中轉(zhuǎn)部50，將該基板交至中轉(zhuǎn)部50，搬運機構(gòu)再次返回處理區(qū)域3的基準(zhǔn)位置的往返搬運時間tc。

該基本調(diào)度表中的各區(qū)段的開始時刻和結(jié)束時刻是還未確定的預(yù)計的時刻，以下將這些稱為“開始預(yù)計時刻”和“結(jié)束預(yù)計時刻”，由此與在將這些確定后的“開始(確定)時刻”和“結(jié)束(確定)時刻”進行區(qū)別。

對于多張基板整體的調(diào)度表，以該“基本調(diào)度表”為基礎(chǔ)，并進行調(diào)整以防止基板相互間的搬運流程干涉等，沿著時間軸再配置一系列基板，來組合形成綜合調(diào)度表。即，就在先的基板和在后的基板各自的時間區(qū)段而言，一邊考慮它們的相互間的規(guī)定的配置條件，一邊確定它們的配置時間段。

另一方面，在圖16中的(b)中示出以圖16中的(a)的基本調(diào)度表為基礎(chǔ)，利用圖15所示的本發(fā)明的第1實施方式的計劃邏輯而完成的作為結(jié)果的調(diào)度表。

另外，在圖16中的(c)中，示出在決定圖16中的(b)的完成調(diào)度表的過程中假設(shè)的1個調(diào)度表即利用依次搬運流程的調(diào)度表。

另外，在圖16中的(d)中，示出在決定圖16中的(b)的完成調(diào)度表的過程中假設(shè)的另一個調(diào)度表即利用一并搬運流程的調(diào)度表。

以下的圖17中的(a)～圖17中的(d)的4個部分，以及圖18中的(a)～圖18中的(d)的4個部分的相互關(guān)系與以上的圖16的情況相同。

[本發(fā)明的第1實施方式的調(diào)度表生成過程]

圖16中的(a)表示基板w1和w2的清洗處理區(qū)段的開始預(yù)計時刻t11、t21存在時間差，并且與基板w2的各工序?qū)?yīng)的時間區(qū)段b4、b5、b6比基板w1的各時間區(qū)段b1、b2、b3延遲該時間差δt＝(t21-t11)的情況。這樣的時間差δt因基板處理裝置1的各種制約而產(chǎn)生。例如，因一臺中央機械手cr能夠同時搬運的基板的數(shù)量和清洗處理單元的設(shè)置數(shù)量存在限度，不能夠進行完全并列處理(完全的同時處理)，而產(chǎn)生時間差δt。另外，可能因各處理單元執(zhí)行的基板處理內(nèi)容不同，而產(chǎn)生時間差δt。

在圖16及以后的各圖中，假設(shè)基板w1在清洗處理單元ss1中被清洗，基板w2在另外的清洗處理單元ss2(在鉛垂方向的下方與清洗處理單元ss1相鄰的另外的清洗處理單元)中被清洗，基板w1、w2中的清洗處理先結(jié)束的基板為基板w1，基板w1為在先基板，另一基板w2為在后基板w2。

在此研究圖16中的(a)的區(qū)段b1～b6的詳細內(nèi)容，來為說明基于基本調(diào)度表得到完成調(diào)度表的程序做準(zhǔn)備。

區(qū)段b1以及b4是分別包括在清洗處理單元ss1、ss2中進行的清洗處理的區(qū)段(清洗處理區(qū)段)。因此，由于它們在時間上能夠并存，所以在計劃執(zhí)行在先基板w1的清洗處理區(qū)段b1的時間段中能夠計劃執(zhí)行在后基板w2的區(qū)段b4～b6。同樣，在計劃執(zhí)行在后基板w2的清洗處理區(qū)段b4的時間段，能夠計劃執(zhí)行在先基板w1的區(qū)段b1～b3。

區(qū)段b2以及b5是包括通過中央機械手cr從清洗處理單元ss1、ss2取出基板w1、w2的取出工序的區(qū)段(取出區(qū)段)。不能通過具有圖4的結(jié)構(gòu)的中央機械手cr從多個處理單元同時取出多張基板，另外，在取出基板的取出動作的期間，中央機械手cr不能運動，因此，在計劃執(zhí)行在先基板w1的取出區(qū)段b2的時間段，不計劃執(zhí)行在后基板w2的包括中央機械手cr的動作的區(qū)段b5、b6。同樣，在計劃執(zhí)行在后基板w2的取出區(qū)段b5的時間段，不計劃執(zhí)行在先基板w1的需要中央機械手cr的動作的區(qū)段b2、b3。

區(qū)段b3以及b6是包括中央機械手cr向中轉(zhuǎn)部50(pass1、pass2)搬運基板w1、w2的工序以及中央機械手cr向中轉(zhuǎn)部50交付基板w1、w2的工序的區(qū)段(搬運區(qū)段)。因此，在計劃執(zhí)行在先基板w1的搬運區(qū)段b3的時間段，不計劃執(zhí)行在后基板w2的包含從清洗處理單元ss取出的取出處理的區(qū)段b5。另一方面，能夠在與在先基板w1的搬運區(qū)段b3相同的時間段，計劃執(zhí)行在后基板w2的包含與在先基板w1的搬運區(qū)段b3相同地向中轉(zhuǎn)部50搬運的搬運工序的區(qū)段b6(中央機械手cr能夠向中轉(zhuǎn)部50同時搬運兩張已處理基板w1、w2。另外能夠同時將基板w1、w2交付至中轉(zhuǎn)部50的基板載置部pass1以及pass2，只要在基板載置部pass3以及pass4上載置未處理基板w，能夠同時接受這些未處理基板w)。關(guān)于在后基板w2的搬運區(qū)段b6也相同，在計劃執(zhí)行搬運區(qū)段b6的時間段，不計劃執(zhí)行包含從清洗處理單元ss取出基板的取出工序的取出區(qū)段b2。另一方面，在與在后基板w2的搬運區(qū)段b6相同的時間段，能夠計劃執(zhí)行包含與搬運區(qū)段b6相同地向中轉(zhuǎn)部50搬運的搬運工序的搬運區(qū)段b3(能夠同時搬運基板w1和w2。另外，在中央機械手cr和中轉(zhuǎn)部50之間，能夠分別同時執(zhí)行兩張基板的交付以及兩張基板的接受)。

此外，如上所述，在此，搬運區(qū)段b3、b6不僅是指從處理區(qū)域3(相當(dāng)于本發(fā)明中的“處理部”)向中轉(zhuǎn)部50搬運基板的的時間段，而且是指中央機械手cr向中轉(zhuǎn)部50載置基板的的時間段，在需要的情況下，接受未處理基板，并且再次返回處理區(qū)域3的時間段。

圖17中的(a)以及圖18中的(a)的基板w1、w2的各個工序的時間關(guān)系與圖16中的(a)不同，但是各自的區(qū)段b1～b6的含義與圖16中的(a)相同。

以下，假設(shè)對兩張基板w1、w2分別賦予圖16中的(a)、圖17中的(a)以及圖18中的(a)的3種基本調(diào)度表，來說明控制部60利用圖15所示的計劃邏輯來完成調(diào)度表的程序。

對應(yīng)于本發(fā)明的特征，在生成在先基板w1和在后基板w2的調(diào)度表的過程中，分別比較時刻at和時刻bt(圖16中的(d)、圖17中的(d)、圖18中的(d))這兩個時間點，

1)時刻at是在按照時間依次進行在先基板w1和在后基板w2的搬出處理的“依次搬出流程”(圖16中的(c)、圖17中的(c)、圖18中的(c))中，兩張基板w1、w2的基板搬運動作結(jié)束的時刻；

2)時刻bt是在處理區(qū)域3使在先基板w1待機至在后基板w2的清洗處理結(jié)束，在在后基板w2的清洗處理結(jié)束后，一并進行在先基板w1和在后基板w2的搬出處理的“一并搬出流程”結(jié)束的時刻。

bt＜at……(式1)

即，在判斷一并搬運流程比依次搬運流程提前結(jié)束的情況下，生成優(yōu)先采用一并搬出流程的調(diào)度表，由此能夠提高兩張基板w1、w2的搬出效率。

進一步考慮如下情況，即，不受搬運單元(中央機械手cr)同時搬運的基板的張數(shù)影響，搬運單元在處理區(qū)域3和中轉(zhuǎn)部50之間的往返搬運時間tc實質(zhì)相同的情況，和搬運單元(中央機械手cr)不論訪問哪個處理單元，搬運單元在處理區(qū)域3和中轉(zhuǎn)部50之間的往返搬運時間tc被視為實質(zhì)相同的情況。另外，這樣，在滿足搬運單元在處理區(qū)域3和中轉(zhuǎn)部50之間的往返搬運時間tc實質(zhì)形同的條件(“往返搬運時間規(guī)定條件”)時，在各個基本調(diào)度表中，通過將1)在先基板w1的搬運區(qū)段b3的結(jié)束時刻ct與2)在后基板w2的清洗處理區(qū)段b4的結(jié)束時刻dt進行比較，也能夠判斷一并搬出流程和依次搬出流程哪個效率高。

其原因為，在滿足下式2時時，如圖16中的(d)可知，一并搬運流程中的取出區(qū)段b5移動至緊鄰取出區(qū)段b2之后的位置，由此，時刻bt與時刻at之間的關(guān)系為下式3，而時刻at與時刻bt之間的關(guān)系為下式4，式4減去式3為式5，因此得到式6，即，滿足式1。

dt＜ct……(式2)

bt＝t12+2×tb+tc……(式3)

at＝t12+2×(tb+tc)……(式4)，

at-bt＝tc……(式5)

at＝bt+tc＞bt……(式6)

因此，在先基板w1的搬出區(qū)段的結(jié)束時刻ct作為在依次搬出流程中兩張基板w1、w2全都移送結(jié)束的時刻at的代理指標(biāo)發(fā)揮功能；在后基板w2的清洗處理區(qū)段的結(jié)束時刻dt作為在一并搬出流程中兩張基板w1、w2全部移送結(jié)束的時刻bt的代理指標(biāo)發(fā)揮功能。

另外，在滿足式2的條件的情況下，即在時刻dt比時刻ct早的情況下，時刻bt(利用一并搬出流程的調(diào)度表的結(jié)束時刻)比時刻at(利用依次搬出流程的調(diào)度表的結(jié)束時刻)提早到來，換而言之，利用一并搬出流程的調(diào)度表比利用依次搬出流程的調(diào)度表提早結(jié)束。

即，在本發(fā)明中，基本原理為，確定利用依次搬出流程的調(diào)度表結(jié)束的時刻at和利用一并搬出流程的調(diào)度表結(jié)束的時刻bt(第1以及第2確定工序)，相互比較確定哪個更早(比較工序)，然后采用更早的流程，但是，不需要直接計算利用依次搬出流程和一并搬出流程的調(diào)度表整體的結(jié)束時刻at、bt并進行比較。通常，確定與這些時刻值的組(at、bt)對應(yīng)的“第1和第2判定用時刻值”(第1確定工序以及第2確定工序)，進行這兩種搬運流程的比較判定(比較工序)?！暗?和第2判定用時刻值”的優(yōu)選例子為上述的時刻值的組(ct、dt)。

即，“第1判定用時刻值”能夠采用表示時刻ct的時刻值，該時刻ct是比處理區(qū)域3中的在先基板w1的處理結(jié)束時刻延遲包括中央機械手cr到達中轉(zhuǎn)部50的往返所需時間在內(nèi)的時間的時刻，“第2判定用時刻值”能夠采用對處理區(qū)域3中的在后基板w2的處理結(jié)束時刻進行表示的時刻值dt。以下將式2稱為“一并搬運判別式“。

另外，在本實施方式的基板處理裝置1中，在清洗處理結(jié)束后的基板被中央機械手cr保持的期間，存在需要規(guī)定時間tb的“中間處理”即基板的取出工序。這樣的中間處理不能夠同時對兩張以上的基板執(zhí)行，是僅能夠逐張依次對基板進行處理的排他性處理。

另外，對于在先基板w1的清洗處理將要結(jié)束的預(yù)計時刻t12(第1處理結(jié)束預(yù)計時刻)和在后基板w2的清洗處理將要結(jié)束的預(yù)計時刻t22(第2處理結(jié)束預(yù)計時刻)而言，能夠基于比第1處理結(jié)束預(yù)計時刻t12延遲包括中間處理時間tb和中央機械手cr的往返所需時間tc在內(nèi)的時間的時刻，確定第1判定用時刻值ct，能夠基于第2處理結(jié)束預(yù)計時刻t22，確定所述第2判定用時刻值dt。

如該實施方式，在搬運單元(機械手)具有多個基板保持單元(手部)，多個基板保持單元一次能夠從處理區(qū)域3取出一張基板的情況下，需要將各張基板的取出區(qū)段配置為在時間上不重疊，但是如后所述，在圖15的流程中能夠使其自動實現(xiàn)。

該圖15是對應(yīng)于上述的式2采用時刻值ct作為第1判定用時刻值，采用時刻值dt作為第2判定用時刻值的情況下的調(diào)度表生成過程。以下，詳細描述。

在圖15的步驟st1中，首先確定在該時間點還沒確定開始時刻的時間區(qū)段中具有最早的開始預(yù)計時刻的時間區(qū)段，將其作為“確定候補區(qū)段”(僅稱為“確定候補”)。

在該步驟st1中，由于不限定確定候補區(qū)段的數(shù)量，所以在基本調(diào)度表中，可能存在多個開始預(yù)計時刻最先的區(qū)段(即同時開始進行清洗處理的基板為多個的情況)。在這樣的情況中，根據(jù)規(guī)定的處理工藝，將其中的1個作為確定候補區(qū)段。處理工藝?yán)缈梢允腔诟骰宓奶幚砉に嚊Q定的處理工藝，另外，可以是將對各基板預(yù)先賦予的基板識別號中最小的區(qū)段作為確定候補等的任意決定的處理工藝。

在圖16中的(a)的例子中，構(gòu)成基本調(diào)度表的區(qū)段b1～b6的開始時刻都未確定，對于各個區(qū)段b1～b6，僅通過基本調(diào)度表賦予假設(shè)的開始預(yù)計時刻(t11～t24)。因此，將在這些時刻中具有最先的開始預(yù)計時刻t11的清洗處理區(qū)段b1選作最初的確定候補區(qū)段。

此外，如上所述，將未確定的開始時刻以及結(jié)束時刻分別稱為“開始預(yù)計時刻”以及“結(jié)束預(yù)計時刻”。

另一方面，對各時間區(qū)段預(yù)先賦予“屬性標(biāo)志f”(未圖示)。該屬性標(biāo)志f具有以下的意義和賦予處理工藝。

1)對于“獨立性區(qū)段”，f＝0。

“獨立性區(qū)段”被定義為能夠與其它基板的相同的工序(獨立性區(qū)段)獨立地進行時間配置的時間區(qū)段。在本實施方式的情況下，由于在先基板w1的清洗處理區(qū)段和在后基板w2的清洗處理區(qū)段不論如何進行時間配置，都相互不發(fā)生干涉，因此成為“獨立性區(qū)段”。對這樣的獨立性區(qū)段賦予屬性標(biāo)志f＝0。

2)對于“排他性區(qū)段”，f＝1。

“排他性區(qū)段”被定義為在時間上不能夠與其它基板的相同的工序(排他性區(qū)段)重疊執(zhí)行的時間區(qū)段。在本實施方式中，因此中央機械手cr僅能夠同時從處理單元取出一張基板，所以多張基板的取出區(qū)段在時間上不能重疊(也不能部分重疊)。因此，本實施方式中的“取出區(qū)段”為排他性區(qū)段。

本實施方式中的取出區(qū)段在時間上也不能夠與使用相同的中央機械手cr的下述的“選擇性區(qū)段”(搬運區(qū)段)重疊執(zhí)行，對于此，通過賦予“在排他性區(qū)段錯開至之后的時間段時，該排他性區(qū)段后續(xù)的選擇性區(qū)段一并錯開至之后的時間段”的處理工藝等，能夠自動避免沖突(實施例后述)。

對于排他性區(qū)段標(biāo)注屬性標(biāo)志f＝1。

3)對于“選擇性區(qū)段”，f＝2。

“選擇性區(qū)段”被定義為具有如下性質(zhì)的工序的區(qū)段，在時間上能夠與其它基板的同種工序(選擇性區(qū)段)“完全”重疊執(zhí)行，還能夠與其它基板的同種工序“完全不重疊地”執(zhí)行，但是不能夠與其它基板的同種工序“部分”重疊執(zhí)行，不能夠與其它基板的“排他性區(qū)段”的工序部分和完全重疊執(zhí)行。

例如，若多張基板的搬運區(qū)段在時間上“完全”重疊，則能夠通過一并搬運進行執(zhí)行，若多張基板的搬運區(qū)段在時間上“完全不重疊”，則能夠通過依次搬運進行執(zhí)行，但是由于在中央機械手cr僅具有1臺，所以不能夠以在時間軸上“部分”重疊的方式在時間軸上配置多個搬運區(qū)段。

另外，由于搬運工序和取出工序使用相同的中央機械手cr，所以不能夠同時將取出區(qū)段和搬運區(qū)段部分或全部重疊地配置。

對于這樣的時間區(qū)段，賦予屬性標(biāo)志f＝2。賦予了屬性標(biāo)志f＝2的選擇性區(qū)段不與屬性標(biāo)志f＝1的排他性區(qū)段重疊，并且必須與賦予了屬性標(biāo)志f＝2的其它的基板的同種選擇性區(qū)段形成“完全重疊”或者“完全不重疊”這兩種狀態(tài)中的某一種。由于選擇分支具有兩種，所以使用“選擇性”這樣的用語。

另外，各時間區(qū)段的屬性標(biāo)志f隨著表示各時間區(qū)段的數(shù)據(jù)預(yù)先存儲在圖11的存儲裝置64內(nèi)，在下述的判斷過程中讀取并參照。另外，以下，將根據(jù)該屬性標(biāo)志f的組合被禁止的時間配置，例如多個排他性區(qū)段在時間上重疊的調(diào)度表狀態(tài)被稱為“禁止?fàn)顟B(tài)”。

返回圖15對過程進行說明。在圖15的步驟st2以下，對應(yīng)于本實施方式的內(nèi)容，以稱為“清洗處理區(qū)段”、“取出區(qū)段”以及“搬運區(qū)段”的用語進行表示，但是通過將這些分別替換為稱作“獨立性區(qū)段”、“排他性區(qū)段”以及“選擇性區(qū)段”的用語，能夠使圖15的內(nèi)容成為更一般的過程。

在步驟st2中，參照確定候補區(qū)段的屬性標(biāo)志f。在圖16中的(a)的情況中，作為確定候補區(qū)段最初選擇了清洗處理區(qū)段b1，但是由于其屬性標(biāo)志為f＝0，所以前進至步驟st3，基于其開始預(yù)計時刻t11確定清洗處理區(qū)段b1的開始時刻ta11＝t11。

然后，經(jīng)由步驟st8返回步驟st1，由此，作為剩余的時間區(qū)段b2～b6中的具有最先的開始預(yù)計時刻t21的區(qū)段，將清洗處理區(qū)段b4選擇為確定候補。由于該清洗處理區(qū)段b4也具有屬性標(biāo)志f＝0，所以與清洗處理區(qū)段b1相同，根據(jù)其開始預(yù)計時刻t21確定清洗處理區(qū)段b4的開始時刻ta21＝t21。

第3個選擇為確定候補的是在先基板w1的取出區(qū)段b2，但是由于該取出區(qū)段b2為具有屬性標(biāo)志f＝1的排他性區(qū)段，所以前進至步驟st4，判定是否存在在時間上與該取出區(qū)段b2重疊，且已經(jīng)確定了開始時刻的其它基板的取出區(qū)段。在基本調(diào)度表中存在在時間上與取出區(qū)段b2重疊的其它的基板w2的取出區(qū)段b5，但是該取出區(qū)段b5的開始時刻還沒有確定，因此對于取出區(qū)段b2，根據(jù)其開始預(yù)計時刻t12確定開始時刻ta12＝t12。

第4個選擇為確定候補的是在后基板w2的取出區(qū)段b5，但是由于該取出區(qū)段b5為具有屬性標(biāo)志f＝1的排他性區(qū)段，所以前進至步驟st4，判定是否存在在時間上與該取出區(qū)段b5重疊且已經(jīng)確定了開始時刻的其它取出區(qū)段。作為這樣的取出區(qū)段，存在在先基板w1的取出區(qū)段b2。

因此，前進至步驟st5，使作為確定候補的在后基板w2的取出區(qū)段b5的開始時刻延遲至與在先基板w1的取出區(qū)段b2之間的禁止?fàn)顟B(tài)消除的時刻。具體地說，使取出區(qū)段b5的開始預(yù)計時刻t22向后錯開，由取出區(qū)段b2的結(jié)束時刻t13(參照圖16中的(b))確定該開始時刻ta22。

這樣，在使一個時間區(qū)段(例如取出區(qū)段b5)向后錯開時，在基本調(diào)度表中在該時間區(qū)段之后連續(xù)的其它的時間區(qū)段即搬運區(qū)段b6的開始預(yù)計時刻t23以及結(jié)束預(yù)計時刻t24也自動錯開相同的錯開時間(圖16中的(b)的時刻ta23、ta24)。但是，由于搬運區(qū)段b6在該階段還沒有成為確定候補，所以僅進行開始“予定”時刻以及結(jié)束“予定”時刻的變更，還沒確定為開始時刻以及結(jié)束時刻。

接著選擇為確定候補的是在先基板w1的搬運區(qū)段b3，但是由于該搬運區(qū)段b3為具有屬性標(biāo)志f＝2的選擇性區(qū)段，所以前進至步驟st6。然后，判定在后基板w2的獨立性區(qū)段即清洗處理區(qū)段b2的結(jié)束預(yù)計時刻t22(dt)是否比在先基板w1的搬運區(qū)段b3的結(jié)束預(yù)計時刻t14(ct)靠前。

由于清洗處理區(qū)段b4的結(jié)束預(yù)計時刻t22(dt)比搬運區(qū)段b3的結(jié)束預(yù)計時刻t14(ct)靠前，所以在步驟st5中，在時間上使搬運區(qū)段b3錯開并延遲，來與還未確定開始時刻的在后的選擇性區(qū)段(搬運區(qū)段b6)的時間段一致。并且確定搬運區(qū)段b3的開始時刻ta13以及結(jié)束時刻ta14。

最后選擇為確定候補的是在后基板w2的搬運區(qū)段b6，但是因為該搬運區(qū)段b6也是具有屬性標(biāo)志f＝2的選擇性區(qū)段，所以從步驟st2前進至步驟st6。在圖16的例子中，由于僅假設(shè)兩張基板w1、w2，所以不存在基板w2之后的在后基板。因此，在取出區(qū)段b5的步驟st5中，將已經(jīng)錯開時間的搬運區(qū)段b6的開始預(yù)計時刻ta13確定為搬運區(qū)段b6的開始時刻。

這樣，在圖16的例子中，如圖16中的(b)所示，生成包括兩張基板w1、w2的一并搬運流程的調(diào)度表數(shù)據(jù)sd(選擇性調(diào)度表生成工序)?？芍瑑蓮埢鍂1、w2的整體的搬出動作比圖16中的(c)的依次搬運流程提早結(jié)束。圖16中的(d)是采用一并流程的調(diào)度表的說明圖，在至此的例子中，為與圖16中的(b)相同的內(nèi)容。

通過執(zhí)行這樣的圖15的過程，在步驟st7中，后續(xù)的基板w2的清洗處理區(qū)段b2的結(jié)束預(yù)計時刻dt是否在在先基板w1的搬運區(qū)段b3的結(jié)束預(yù)計時刻ct之前的判定結(jié)果為，選擇一并搬運流程，該判定條件是實現(xiàn)上述的一并搬運判別式(式2)的條件。

＜3.3調(diào)度表生成例2＞

在圖17中的(a)的處理流程的在后基板w2的各區(qū)段b4至b6位于圖16中的(a)的處理流程之后的時間段。在先基板w1以及在后基板w2各自的清洗處理區(qū)段b1、b4的開始時刻ta11、ta21分別由各自的開始預(yù)計時刻t11、t21確定，在先基板w1的取出區(qū)段b2的開始時刻ta12由其開始預(yù)計時刻t12確定(圖17中的(b))。

接著，在搬運區(qū)段b3變?yōu)榇_定候補時，由于滿足dt＜ct的條件(一并搬運判別式)，所以搬運區(qū)段b3向后錯開至與在后基板w2的搬運區(qū)段b6一致的時間段，其開始時刻由ta13確定，結(jié)束時刻由ta14確定。

接著，在在后基板w2的取出區(qū)段b5變?yōu)榇_定候補時，由于不存在在時間上與其重疊的取出區(qū)段，所以將其開始預(yù)計時刻t22確定為開始時刻ta22。

最后，在在后基板w2的搬運區(qū)段b6變?yōu)榇_定候補時，進行圖15的步驟st6的判定，但是由于ct＞dt，所以滿足式2的條件的結(jié)束預(yù)計時刻ct不存在。因此，搬運區(qū)段b6的開始時刻ta23以及結(jié)束時刻ta24分別確定為與在先基板w1的搬運區(qū)段b3的開始時刻ta13以及結(jié)束時刻ta14相同的時刻，來生成具有一并搬運流程的調(diào)度表數(shù)據(jù)sd(選擇性調(diào)度表生成工序)。

＜3.4調(diào)度表生成例3＞

在圖18的情況下，依次將區(qū)段b1、b2選擇為確定候補，其開始預(yù)計時刻t11、t12不變更，根據(jù)它們確定開始時刻ta11、ta12。

接著，將搬運區(qū)段b3選擇為確定候補，但是不能夠與該搬運區(qū)段b3部分重疊的是其它的搬運區(qū)段b6，由于與清洗處理區(qū)段b4不產(chǎn)生沖突，所以此時也將開始預(yù)計時刻t13確定為開始時刻ta13。

進一步，將在后基板w2的清洗處理區(qū)段b4選擇為確定候補，但是清洗處理區(qū)段b4為獨立性區(qū)段，所以開始預(yù)計時刻t21不變更，將其確定為開始時刻ta21。

然后，在依次將取出區(qū)段b5以及搬運區(qū)段b6選擇為確定候補時，由于沒有變?yōu)榻範(fàn)顟B(tài)的時間配置，所以開始預(yù)計時刻t23以及結(jié)束預(yù)計時刻t24不變更，將其分別確定為開始時刻ta23以及結(jié)束時刻ta24。

因此，在圖18的情況中，如圖18中的(b)所示，生成包含依次搬運流程的調(diào)度表數(shù)據(jù)sd(選擇性調(diào)度表生成工序)。

＜3.5避免調(diào)度表生成過程上的時間沖突＞

如上所述，在圖15的步驟st4、st5中，作為避免與排他性區(qū)段(取出區(qū)段)沖突的時間區(qū)段，僅包含其它基板的取出區(qū)段，不包括與其它基板的搬運區(qū)段的時間性沖突。但是，在圖15的整個流程中避免取出區(qū)段和搬運區(qū)段的時間性沖突。

即，如圖19所示，由于第1基板的搬運區(qū)段b13始終處于第1基板的取出區(qū)段b12以后，所以在第1基板的取出區(qū)段b12的時間段與第2基板的取出區(qū)段b22的時間段之間存在重疊的情況下，第2基板的清洗處理區(qū)段b21的結(jié)束預(yù)計時刻dt位于第1基板的搬運區(qū)段b13的結(jié)束預(yù)計時刻ct之前。另外，在第2基板的取出區(qū)段b22變?yōu)榇_定候補的階段，如箭頭k1，在時間上使取出區(qū)段b22錯開而變?yōu)槿〕鰠^(qū)段ba22，并且第2基板的搬運區(qū)段b23也相應(yīng)于此如箭頭k2，在時間上錯開而成為搬運區(qū)段ba23，來避免與第1基板的取出區(qū)段b12重疊。

然后，此后在第1基板的搬運區(qū)段b13變?yōu)榇_定候補時，該搬運區(qū)段b13以與按照箭頭k2錯開后的第2基板的搬運區(qū)段ba23的時間段一致的方式錯開而成為搬運區(qū)段ba13，在該階段消除第2基板的取出區(qū)段ba22與第1基板的搬運區(qū)段ba13的重疊。因此，在圖15的步驟st4、st5中，只要僅避免排他性區(qū)段彼此的沖突即可。

在上述的圖16中的(a)的情況下，在基本調(diào)度表中，第2基板的取出區(qū)段b5不僅與第1基板的取出區(qū)段b2重合，還與第1基板的搬運區(qū)段b3重合，通過在圖15的流程中進行數(shù)據(jù)處理，最終如圖16中的(b)那樣，解除所有的禁止?fàn)顟B(tài)。

＜3.6一并搬運判別式不成立的情況下的依次搬運流程的選擇＞

在此，返回圖18，將依次搬運流程和一并搬運流程進行比較，來進一步考察一并搬運判別式(式2)不成立的情況。

在圖18的情況下，在在后基板w2的清洗處理結(jié)束后一并搬運兩張基板的情況下的兩張基板整體的移送結(jié)束時刻at與逐張依次搬運基板w的情況下的移送結(jié)束時刻bt為同一時刻，其在基本調(diào)度表中與在后基板w2的清洗處理結(jié)束的時刻t24一致。

因此，在這樣的情況下，不論是依次搬運流程還是一并搬運流程，兩張基板w1、w2整體的全部工序的結(jié)束時刻相同，僅著眼于這一點，不論是否滿足式2的一并搬運判別式的條件，可以一律采用一并搬運流程。

但是，若不論一并搬運判別式是否成立都一律采用一并搬運流程，則保持在先基板w1的狀態(tài)下的中央機械手cr的待機時間變長，因此中央機械手cr的活動時間變短，而且由于在先基板w1不前進至下一工序，所以因此產(chǎn)生延遲。

即，若僅著眼于兩張基板w1、w2整體的移送結(jié)束時刻的不同，則可以將所有的情況都采用一并搬運流程，但是若不僅僅考慮關(guān)注的清洗處理部分還考慮其它處理、搬運，以及其它基板的處理的整體的生產(chǎn)率，則在不滿足一并搬運判別式時優(yōu)選依次搬運流程。

因此，在不滿足一并搬運判別式時，不利用一并搬運流程，而采用利用了依次搬運流程的調(diào)度表。

＜3.7基板處理裝置1整體的調(diào)度表生成＞

以下，參照圖20～圖23，在通過搬運器c向基板處理裝置1搬入的基板的上表面在基板處理裝置1內(nèi)進行清洗處理，并且該基板再次返回搬運器c的過程中，著重說明兩張基板w1、w2的調(diào)度表的相互關(guān)系。在這些圖中的圖20中，示出在圖21～圖23的時序調(diào)度表圖中使用的標(biāo)記的意思。

圖21中的(a)表示基板w1中基本調(diào)度表，另外圖21中的(b)表示基板w2中的基本調(diào)度表。因此，這些是單獨設(shè)計的基本調(diào)度表，基板w1、w2中的哪個為在先基板哪個為在后基板這樣的區(qū)別在本階段還沒有確定。

在圖21中的(a)中，若著眼于與從搬運器c至清洗處理單元ss1的移動相當(dāng)?shù)臅r間區(qū)段r1～r4結(jié)束的時間點之后的時間段，則首先，在清洗處理區(qū)段b1中，通過清洗處理單元ss1對基板w1的上表面進行清洗處理。然后，在取出區(qū)段b2，結(jié)束清洗的基板w1立即被中央機械手cr取出(取出區(qū)段b2)，且搬運至中轉(zhuǎn)部50(pass)。

中央機械手cr進行基板w1向中轉(zhuǎn)部50(pass)的搬運(子區(qū)段ra)和交接(子區(qū)段rb)，但是與之后中央機械手cr返回處理區(qū)域3的移動過程(子區(qū)段rc)一起，構(gòu)成基板w1的搬運區(qū)段b3。圖21中的(a)其它的區(qū)段r5、r6為與基板w1移動至搬運器c相對應(yīng)的區(qū)段。

圖21中的(b)的其它基板w2也相同，分別配置區(qū)段r1～r4，并且與清洗處理區(qū)段b4、取出區(qū)段b5以及搬運區(qū)段b6對應(yīng)的時間段存在于其中。以后的區(qū)段r5、r6的時間配置也與基板w1的情況相同。

圖22是表示基于圖21所示的兩張基板w1、w2的上表面清洗處理處理工藝，執(zhí)行圖15所示的本實施方式的調(diào)度表生成程序p1的計劃邏輯，且采用一并搬運流程生成的調(diào)度表的時序圖。這是根據(jù)圖21中的(b)的基板w2的清洗處理區(qū)段b4的結(jié)束預(yù)計時刻dt比圖21中的(a)的基板w1的搬運區(qū)段b3的結(jié)束預(yù)計時刻ct早的時間關(guān)系將圖21中的(a)和圖21中的(b)的各自的單位基本調(diào)度表進行組合而決定的調(diào)度表。

如圖22所示，直到區(qū)段r1～r3為止，將基板w1、w2的對應(yīng)區(qū)段計劃為相同的時間段。但是，區(qū)段r4是包含從中央機械手cr向清洗處理單元ss搬入基板w的搬入處理的區(qū)段，由于存在僅能夠從中央機械手cr向各清洗處理單元逐張地搬入基板的制約，所以，首先在將基板w1(在先基板)搬入清洗處理單元ss1，然后將基板w2(在后基板)搬入另外的清洗處理單元ss2。

因此，在基板w2的搬入和基板w1的搬入之間，對應(yīng)于時間差產(chǎn)生待機時間段t1(待機區(qū)段)。另外，伴隨于此，在后基板w2的清洗處理區(qū)段b4位于比在先基板w1的清洗處理區(qū)段b1滯后的時刻側(cè)。

在在先基板w1的清洗處理(清洗處理區(qū)段b1)結(jié)束的時刻t12，在后基板w2的清洗處理(清洗處理區(qū)段b4)仍然處于繼續(xù)中。因此，按照圖15的流程，中央機械手cr保持在先基板w1進行待機(待機時間t2)，直到在后基板w2的清洗處理區(qū)段b4結(jié)束，且通過中央機械手cr從清洗處理單元ss2取出在后基板w2。

另外，若變?yōu)榛鍂1、w2雙方被中央機械手cr保持的狀態(tài)，則中央機械手cr保持這些基板w1、w2并移動至中轉(zhuǎn)部50(pass)(前往運動)，將基板w1、w2同時載置在中轉(zhuǎn)部50。另外，為了進行下一張基板的處理返回處理區(qū)域3(返回運動)。

這樣，在本例子中，由于滿足一并搬運判別式(式2)，所以不采用依次搬運調(diào)度表而采用一并搬運調(diào)度表。

圖23是表示在各基板w1、w2的清洗處理區(qū)段b1、b3的結(jié)束時刻t11、t21與圖22相同時，如果采用依次搬運流程的情況下的整體的調(diào)度表。

此時，依次單獨搬運各基板w1、w2。中央機械手cr不等待在后基板w2的清洗處理區(qū)段b4結(jié)束而保持在先基板w1將在先基板w1向中轉(zhuǎn)部50(pass)搬運，一旦返回處理區(qū)域3后，取出在后基板w2并且搬運至中轉(zhuǎn)部50。

在圖23的依次搬運流程的情況下，清洗處理后的在先基板w1返回搬運器c的時刻te1比在利用圖22的一并搬運流程的情況下清洗處理后的基板w1、w2根據(jù)調(diào)度表返回搬運器c的時刻te0早，但是，在依次搬運流程中在后基板w2返回搬運器c的時刻te2比采用一并搬運流程的情況下在后基板w2返回搬運器c的時刻te0晚。

因此，在滿足一并搬運判別式(式2)時，如圖22所示對兩張基板w1、w2雙方整體的搬運采用一并搬運流程，由此，與采用圖23的依次搬運流程的情況相比，提高了生產(chǎn)率。

＜3.8本實施方式的調(diào)度表生成的效果＞

如以上說明，在執(zhí)行本發(fā)明第1實施方式的計劃邏輯(圖15)時，在將時刻ct確定為第1判定用時刻值，將時刻dt確定為第2判定用時刻后(第1以及第2確定工序)，將它們相互進行比較(比較工序)，在作為第2判定用時刻的時刻dt比作為第1判定用時刻的時刻ct早時，即滿足一并搬運判別式(式2)時，生成采用一并搬出流程的基板處理的調(diào)度表數(shù)據(jù)sd(選擇性調(diào)度表生成工序)。然后，基于該調(diào)度表數(shù)據(jù)sd執(zhí)行基板w的清洗處理以及搬運處理(基板處理工序)。

本發(fā)明的第1實施方式的調(diào)度表生成程序p1的計劃邏輯與一律采用依次搬出流程的計劃邏輯，或一律采用一并搬出流程的計劃邏輯不同，而是在依次搬出流程和一并搬出流程中，在判斷為采用一并搬運流程的多張基板整體的搬運結(jié)束預(yù)計時刻早的情況下采用一并搬出流程的計劃邏輯，因此能夠生成時間效率高的調(diào)度表。結(jié)果，提高基板處理裝置1的生產(chǎn)率(結(jié)果1)。

另外，在依次搬運調(diào)度表和一并搬運調(diào)度表中，在多張基板整體的搬運結(jié)束預(yù)計時刻一致的情況下，根據(jù)本發(fā)明的第1實施方式的計劃邏輯生成的調(diào)度表采用依次搬運流程(在先基板的搬運結(jié)束時刻早)。此時，與在先基板的搬運區(qū)段采用一并搬出流程的情況相比更早地進行計劃，因此能夠在搬運目的地提早開始對該在先基板進行處理。結(jié)果，提高基板處理裝置1的生產(chǎn)率(結(jié)果2)。

(第2實施方式)

說明本發(fā)明的第2實施方式。此外，在第2實施方式中，對于與第1實施方式的各部件相同的部件標(biāo)注相同的附圖標(biāo)記進行說明。另外，對于與第1實施方式相同的結(jié)構(gòu)或者動作省略重復(fù)說明。

第2實施方式的基板處理裝置1的基本結(jié)構(gòu)與第1實施方式的基板處理裝置1相同。

另一方面，第2實施方式和第1實施方式之間的不同點在于，第2實施方式的分度器機械手ir以及中央機械手cr的各手部不具有第1實施方式具有的與基板保持相關(guān)的限制，即不區(qū)分未處理基板和已處理基板的手部。

如上所述，在第1實施方式的分度器機械手ir以及中央機械手cr的各手部中，被保持的基板w分為未處理基板和已處理基板。由于這樣對各手部的使用設(shè)置限制，所以未處理基板用的手部(手部7b、7c，手部15b、16b)不保持已處理基板w。已處理基板用的手部(手部6b、6c，以及手部13b、14b)也相同。

但是，對于第2實施方式的搬運機械手(分度器機械手ir、中央機械手cr)的各手部不設(shè)置與這樣的基板保持相關(guān)的限制。因此，兩搬運機械手能夠搬運與各自的手部的數(shù)量相等的最多4張基板。此外，與第1實施方式相同，在計劃執(zhí)行中央機械手cr從清洗處理單元ss、ssr取出基板的取出區(qū)段的時間段不能夠配置在后基板的取出區(qū)段。

＜4.調(diào)度表生成流程＞

圖24是表示對應(yīng)于本第2實施方式，在利用能夠同時保持基板的手部存在nmax個(nmax＞2)且能夠同時保持并搬運最多nmax張基板的中央機械手cr的情況下的調(diào)度表生成程序中，與圖15的不同部分的流程圖。該圖24所示的步驟組代替圖15的步驟st6～st7。由于第1實施方式相當(dāng)于nmax＝2的情況，所以在圖24的流程中，若nmax＝2，則圖24的流程還能夠用于第1實施方式的裝置。

另外，在圖25中，作為說明計劃一并搬運3張以上基板的情況下的一般的處理方法的例子，示出了包含6張基板的基本調(diào)度表。在本例子中，6張基板(第1基板～第6基板)依次結(jié)束清洗處理，但是第2基板～第6基板各自的清洗處理區(qū)段的結(jié)束預(yù)計時刻dt分別早于第1基板～第5基板的搬運區(qū)段的結(jié)束預(yù)計時刻ct。即，連鎖地滿足一并搬運判別式(dt＜ct)。

另外，在第2實施方式中，假設(shè)中央機械手cr最多能夠保持4張基板(nmax＝4)。在這樣的情況下，根據(jù)以下詳細描述的數(shù)據(jù)處理得到一并搬運調(diào)度表(圖26)，就一并搬運調(diào)度表而言，即使在第1基板的清洗處理和取出處理結(jié)束，也不移動至中央機械手cr也向中轉(zhuǎn)部50搬運的步驟，而在處理區(qū)域3中待機，等待第2基板～第4基板各自的清洗處理結(jié)束后，將這些基板從各清洗處理單元取出，與第1基板一并搬運。

如圖25所示，第5基板在與第4基板之間也滿足一并搬運判別式，但是如圖26所示，第5基板不與第1基板～第4基板一并搬運。這是因為，中央機械手cr能夠保持的基板的最大值為4張。

在以上的準(zhǔn)備基礎(chǔ)上，說明圖24的各步驟。

在圖24中，在步驟st11中，將在先基板作為確定候補，判定其在后基板的搬運區(qū)段的結(jié)束預(yù)計時刻dt是否比在先基板的清洗處理區(qū)段的結(jié)束預(yù)計時刻ct早。這是與圖15的步驟st6內(nèi)容大致相同的判定。

在步驟st11為“是”的情況下，在下一個步驟st12中，參照一并搬運的張數(shù)值n。該一并搬運的張數(shù)值n是表示在該時間點計劃的一并搬運的張數(shù)的整數(shù)值，其初始值為“1”。將第1基板作為確定對象的時間點的一并搬運的張數(shù)值n仍然為“1”。

在下一步驟st13中，使確定候補和“已經(jīng)與確定候補同步的搬運區(qū)段”(以下稱為“已同步區(qū)段”)的時間段延遲至在后基板的搬運區(qū)段的時間段。但是，在第1基板為確定候補的階段，不存在“已同步區(qū)段”。

圖28概念性地表示該狀態(tài)。圖28中的(a)表示針對第1基板的步驟st13執(zhí)行前，圖28中的(b)表示步驟st13執(zhí)行后。通過步驟st13，第1基板的搬運區(qū)段b13向之后的時間錯開，來與第2基板的搬運區(qū)段b23的時間段一致。但是，在該圖28中，為了易于理解，僅表示了搬運區(qū)段的時間關(guān)系，在圖中沒有示出取出區(qū)段的時間錯開的影響。

在圖24的下一步驟st14中，使一并搬運張數(shù)值n增加“1”。因此，在圖24的針對第1基板的過程結(jié)束的時間點，n＝2。

在第2基板的搬運區(qū)段b23成為確定候補時，在圖24的過程的步驟st13中，作為“已同步區(qū)段”存在第1基板的搬運區(qū)段b13。因此，如圖28中的(c)所示，不僅在該時間點的確定候補(搬運區(qū)段b23)，而且作為“已同步區(qū)段”的搬運區(qū)段b13也向之后的時刻錯開至第3基板的搬運區(qū)段b33的時間段。

基本調(diào)度表的各時間區(qū)段依次成為確定候補，由此反復(fù)執(zhí)行圖24的過程，在判斷一并搬運張數(shù)值n與最大保持?jǐn)?shù)nmax相同時，從步驟st11轉(zhuǎn)到步驟st15，來暫時切斷同步的連鎖動作。具體地說，直到該時間點，確定將時間向之后的時刻錯開而同步的多張基板的搬運區(qū)段的時間段。

另外，即使在步驟st11中不滿足條件dt＜ct時，也在步驟st15中，切斷同步連鎖動作。

換而言之，將執(zhí)行步驟st13和步驟st14的確定候補的時刻，直接作為假設(shè)的確定時刻，在步驟st15中切斷同步連鎖時首次確定。

另一方面，在從步驟st11或者步驟st12向步驟st15前進的路徑連續(xù)且多次被執(zhí)行的部分中，不形成一并搬運流程，該部分為依次搬運流程。

在此，概括說明了圖24的過程，但是在第2實施方式中，圖15的f＝0以及f＝1的情況下的過程在它們成為確定候補的階段被執(zhí)行。

此外，在第2實施方式中，與第1實施方式相同，由于中央機械手cr從清洗處理單元ss、ssr取出基板的“取出區(qū)段”為排他性區(qū)段，所以需要使與第1實施方式相同的用于避免時間重復(fù)的時間錯開(圖15中的st4、st5)。圖26是考慮這些條件基于圖15以及圖24所示的過程生成的調(diào)度表。

其中，對于不同基板的取出區(qū)段，在中央機械手cr的多個手部同時獨立訪問多個清洗處理單元來取出基板的情況下，可以不用避免取出區(qū)段相互間的時間重復(fù)。在這樣的機械結(jié)構(gòu)的情況，在圖27中作為比較例示出基于圖15以及圖24的過程生成的調(diào)度表。因此，在這樣的情況下，取出區(qū)段不是排他性區(qū)段。

另一方面，在如該比較例那樣使用能夠同時取出多張基板的中央機械手cr的情況下，在圖15的步驟st4、st5中追加了如下的操作，即，使“取出區(qū)段”以不與針對對其它基板確定的“搬運區(qū)段”重疊的方式將時間向之后的時間錯開。即，參照圖19，根據(jù)在第1實施方式中最多一并搬運兩張基板的情況，說明自動避免該重復(fù)的理由，在第2實施方式中，假設(shè)一并搬運的基板張數(shù)包括3張以上的通常情況。因此，不限于這樣的自動避免干涉，優(yōu)選積極地避免取出區(qū)段與搬運區(qū)段重復(fù)。

不論哪種情況，第1基板～第4基板的搬運區(qū)段b13～b43都集中在同一時間段，形成通過中央機械手cr一并搬運這些基板的調(diào)度表。同步的連鎖動作至此暫時被切斷，第5基板和第6基板的搬運區(qū)段b53、b63被集中在新的一并搬運流程中，形成新的同步連鎖動作。各基板的清洗處理區(qū)段b11～b61的時間配置也相同。

在該第2實施方式中，在不滿足條件dt＜ct的部分也采用依次搬運流程。

＜第2實施方式的調(diào)度表的變形例＞

以下，說明在通過第2實施方式的中央機械手cr進行3張基板的搬運處理的情況下的調(diào)度表生成過程中的將一并搬運和依次搬運組合而成的變形，以及通過圖24的流程形成該變形的功能的情況。

圖29～圖31是針對各張基板用區(qū)段表示對3張基板w1～w3在彼此獨立的時刻進行清洗處理后，通過中央機械手cr進行搬出處理以及搬運處理的狀態(tài)的時序圖。圖29的各部分的圖示內(nèi)容的區(qū)別如下，對于圖30以及圖31，部分(a)～(f)的相互區(qū)別與圖29相同。另外，圖29～圖31所示的各區(qū)段b1～b9與圖16～圖18所示的各區(qū)段b1～b6相同。即，在圖29～圖31中，區(qū)段b1、b4、b7表示清洗處理區(qū)段，區(qū)段b2、b5、b8表示取出區(qū)段，區(qū)段b3、b6、b9表示搬運區(qū)段。

·圖29中的(a)表示3張基板w1～w3的基本調(diào)度表。

·圖29中的(b)表示針對圖29中的(a)的基本調(diào)度表利用圖15以及圖24所示的計劃邏輯完成的調(diào)度表。以下的圖29中的(c)～圖29中的(f)表示作為該圖29中的(b)的調(diào)度表的候補的調(diào)度表的種類。

·圖29中的(c)表示針對圖29中的(a)的基本調(diào)度表，使用采用對所有的基板w1～w3依次進行搬運的依次搬出流程(“整體依次流程”)的計劃邏輯而完成的調(diào)度表。

·圖29中的(d)表示針對圖29中的(a)的基本調(diào)度表，使用采用僅對兩張基板w1、w2一并進行搬運且對基板w3單獨進行搬運的搬出流程(“前兩張一并搬運流程”)的計劃邏輯而完成的調(diào)度表。

·圖29中的(e)表示針對圖29中的(a)的基本調(diào)度表，使用采用單獨搬運一張基板w1且僅對兩張基板w2、w3進行一并搬運的搬出流程(“后兩張一并搬運流程”)的計劃邏輯而完成的調(diào)度表。

·圖29中的(f)表示針對圖29中的(a)的基本調(diào)度表，使用采用對3張基板w1～w3一并搬出的搬出流程(“整體一并搬運流程”)的計劃邏輯而完成的調(diào)度表。

[各調(diào)度表的內(nèi)容]

·圖29的調(diào)度表

在圖29中，由于3張基板w1～w3的所有組合滿足一并搬運判別式(式2)，所以得到對這些3張基板w1～w3的一并搬運進行計劃的調(diào)度表。

·圖30的調(diào)度表

在圖30中，雖然在在先基板w1和第1在后基板之間滿足一并搬運判別式，但是在第1在后基板w2和第2在后基板w3之間為ct＜dt，不滿足一并搬運判別式。

因此，生成“前兩張一并搬運流程”的調(diào)度表。

·圖31的調(diào)度表

在圖31中，基板w1～w3中某兩張基板的組合不滿足一并搬運判別式。因此，生成“整體依次流程”的調(diào)度表。

＜第2實施方式的調(diào)度表生成程序p1的效果＞

如上所說明的，在搬運機械手能夠搬運3張以上基板的情況下，通過與圖15的流程組合執(zhí)行圖24的流程，一邊依次從多張基板中選擇在先基板和在后基板對，一邊對選擇的在先基板和在后基板，進行第1判定用時刻值和第2判定用時刻值的比較動作(步驟st11)。

另外，由此，判定是使確定候補的在先基板的搬運區(qū)段與在后基板的搬運區(qū)段同步(步驟st13)，還是不與在后基板的搬運區(qū)段同步(步驟st15、st3)。

通過這樣的反復(fù)操作，

a)在持續(xù)“非同步”直至最大保持?jǐn)?shù)nmax為止的情況下，構(gòu)筑作為對各基板依次搬運的順序的依次搬運流程，

b)在比最大保持?jǐn)?shù)nmax少的數(shù)量的基板產(chǎn)生“同步”的情況下，構(gòu)筑對最大保持?jǐn)?shù)nmax的基板中的一部分一并搬運的部分一并搬運流程，

c)在連續(xù)形成與最大保持?jǐn)?shù)nmax相當(dāng)?shù)臄?shù)量的基板的“同步”的情況下，構(gòu)筑作為對最大保持?jǐn)?shù)nmax的基板一并搬運的順序的全部一并搬運流程。

因此，在能夠同時搬運3個以上的基板的情況下，也區(qū)分這些搬運流程，由此能夠提高基板處理的生產(chǎn)率。

(變形例)

以上，說明了本發(fā)明的實施方式，但是只要本發(fā)明不脫離其宗旨，能夠進行上述以外的各種變更。

在第1實施方式以及第2實施方式中，比較時刻at(依次搬出流程中兩張基板w1、w2全部移送結(jié)束的時刻)和時刻bt(一并搬出流程中兩張基板w1、w2全部移送結(jié)束的時刻)?；蛘?，比較所述時刻at的代理指標(biāo)即時刻ct(在先基板w1的搬出區(qū)段的結(jié)束時刻)和所述時刻bt的代理指標(biāo)即時刻dt(在后基板w2的搬出區(qū)段的結(jié)束時刻)。并且，在時刻at和時刻bt(或者時刻ct和時刻dt)為同一時刻的情況下，選擇依次搬運處理。這是為了減少清洗處理以后的后處理延遲開始而進行的選擇。

但是，在所述時刻at和時刻bt(或者時刻ct和時刻dt)為同一時刻的情況下能夠選擇一并搬運流程。在選擇一并搬運流程的情況下，存在在先基板w1的后處理延遲開始的缺點，但是另一方面，由于可以使中央機械手cr在處理區(qū)域3內(nèi)移動得少，所以具有能夠降低因中央機械手cr的移動而產(chǎn)生的能量消耗和顆粒產(chǎn)生量的優(yōu)點。因此，在所述時刻at和時刻bt(或者時刻ct和時刻dt)為同一時刻的情況下，即，在依次搬運流程和一并搬運流程的搬運時間實質(zhì)上不存在差異的情況下，能夠不選擇依次搬運流程而選擇一并搬運流程。

如在第1實施方式以及第2實施方式中說明的那樣，存在由于搬運機械手等機械制約而對于各基板產(chǎn)生在處理單元內(nèi)的待機時間的情況。因此，對于本發(fā)明的調(diào)度表生成適用的基板處理裝置的處理單元，在結(jié)束該處理的基板從其處理單元向搬運單元(中央機械手cr)輸出的時間點，變?yōu)楦稍餇顟B(tài)且非高溫狀態(tài)(例如，清洗后進行干燥后搬出基板的清洗處理單元和冷卻處理單元)的情況下，即使處理單元內(nèi)的基板產(chǎn)生待機時間，也不會對基板產(chǎn)生惡劣影響，因此優(yōu)選作為本發(fā)明的適用對象。

就第1實施方式以及第2實施方式的基板處理裝置1而言，分度器機械手ir和中央機械手cr各具有一臺，分度器機械手ir和中央機械手cr各具有4個手部(基板保持部)，搬運機械手的結(jié)構(gòu)不限于此。只要至少具有1臺具有多個基板保持部的搬運機械手，就能夠適用本發(fā)明的調(diào)度表生成。

在第1實施方式以及第2實施方式的基板處理裝置1中，使用被搬運且被處理的基板的處理單位為一張的單張式的基板處理裝置，但是不限于此。例如，在以20張為單位等運載單位進行搬運和處理的批次式裝置，或以少量張數(shù)(例如幾張)的基板組為單位進行搬運和處理的裝置等中，將兩張以上的基板構(gòu)成的基板組稱為基板集合，能夠按照基板集合進行處理和判斷。

在這些情況下，在上述的各實施方式中將稱為“在先基板”的部分改稱為“在先基板集合”，將稱為“在后基板”的部分改稱為“在后基板集合”，因此包含在本發(fā)明的范圍內(nèi)。

作為本發(fā)明的計劃邏輯的調(diào)度表生成順序，說明了在中央機械手cr和清洗處理單元ss間的搬運流程，但是本發(fā)明的計劃邏輯能夠適用于從規(guī)定的搬運源取出基板，搬運至以外的位置的過程中的各種搬運流程。例如，在分度器機械手ir從中轉(zhuǎn)部50取出基板的取出處理以及搬運處理的情況下的搬運流程也能夠應(yīng)用本發(fā)明。此時，對于中央機械手cr向中轉(zhuǎn)部50先搬入的在先基板(或在先基板集合)和在在先基板(在先基板集合)后通過中央機械手cr向中轉(zhuǎn)部50搬入的在后基板(在后基板集合)應(yīng)用本發(fā)明的計劃邏輯。另外，此時，中轉(zhuǎn)部50的多個基板載置部pass對應(yīng)于本發(fā)明的“多個處理單元”，向各基板載置部pass載置已處理基板w的載置處理對應(yīng)于本發(fā)明的“規(guī)定處理”，被搬運器保持部4保持的搬運器c對應(yīng)于本發(fā)明的“規(guī)定的搬運目的地”。

第1實施方式以及第2實施方式的調(diào)度表生成程序p1存儲在控制部60內(nèi)，但是存儲調(diào)度表生成程序p1的裝置不限于控制部60。例如，可以將具有該調(diào)度表生成程序p1、執(zhí)行該程序的運算裝置即cpu、存儲作為運算結(jié)果的調(diào)度表數(shù)據(jù)sd的存儲部的調(diào)度表生成裝置設(shè)置在控制部60的外部。即，即使通過規(guī)定的信息處理單元(典型的，計算機或由多個計算機組成的整個系統(tǒng))執(zhí)行上述調(diào)度表生成步驟，該調(diào)度表生成步驟也包含在本發(fā)明的技術(shù)范圍內(nèi)。另外，在上述實施方式中，說明調(diào)度表生成程序p1存儲在存儲裝置64(閃存，硬盤裝置等)中的方式，但是可以在線將調(diào)度表生成程序p1賦予調(diào)度表生成裝置。

第1實施方式以及第2實施方式的調(diào)度表數(shù)據(jù)sd，在基板處理裝置1開始基板處理前，已經(jīng)生成完成并存儲在存儲裝置64中，但是不限于此。例如，可以使調(diào)度表數(shù)據(jù)sd的生成時刻對應(yīng)于基板處理裝置1的各裝置的動作時刻，在各裝置即將進行動作之前生成用控制該動作的調(diào)度表數(shù)據(jù)sd。根據(jù)這樣的結(jié)構(gòu)，即使在裝置的一部分產(chǎn)生故障等不可預(yù)測的情況時，基于該時刻的各裝置的狀況也能夠生成調(diào)度表數(shù)據(jù)sd。

即，本發(fā)明的調(diào)度表生成裝置的可以實時生成或事前生成調(diào)度表生成過程。在實時生成時，與基板處理裝置1中的一系列的基板處理并行，依次生成以后到來的(即將來的)時間段的基板處理裝置的部分調(diào)度表數(shù)據(jù)，依次將該部分調(diào)度表數(shù)據(jù)賦予基板處理裝置的調(diào)度表控制部。在該實時生成中，具有在從上游的系統(tǒng)送來處理工藝的變更等情況時，易于應(yīng)對等的優(yōu)點。

另一方面，在事前生成的情況下，在線或者離線將在基板處理裝置1運轉(zhuǎn)前由本發(fā)明的調(diào)度表生成裝置生成的整體調(diào)度表數(shù)據(jù)傳送給基板處理裝置的調(diào)度表控制部來使用。在該事前生成中，由于對得到的調(diào)度表進行充分地校驗等后使用，所以具有難于產(chǎn)生錯誤等的優(yōu)點。

另外，在上述第1實施方式以及第2實施方式中，如上所述，說明了不依據(jù)搬運單元同時搬運的基板的張數(shù)，在滿足處理區(qū)域3和中轉(zhuǎn)部50間的搬運單元的往返搬運時間tc實質(zhì)相同的條件(“往返搬運時間規(guī)定條件”)的情況，判斷一并搬出流程和依次搬出流程哪個效率高的調(diào)度表生成步驟。因此，不存在“第1判定用時刻比第2判定用時刻早時”的狀態(tài)，但是例如，在根據(jù)搬運的基板的張數(shù)而搬運單元的搬運速度降低的情況下，若第1判定用時刻比第2判定用時刻早，則采用所述依次搬出流程生成調(diào)度表。

在第1實施方式以及第2實施方式中，以作為基板處理裝置1的擦洗清洗處理裝置為例說明生成調(diào)度表的結(jié)構(gòu)，但是，本發(fā)明的基板處理裝置1不限于擦洗清洗處理裝置，能夠用于不伴隨有擦洗清洗的單張式基板清洗裝置、冷卻處理裝置或干燥處理裝置等各種基板處理裝置。

附圖標(biāo)記說明

1基板處理裝置

2分度器區(qū)域

3處理區(qū)域(處理部)

4搬運器保持部

6b、6c、7b、7c、13b、14b、15b、16b手部

11上表面清洗處理部

12下表面清洗處理部

50中轉(zhuǎn)部

60控制部(調(diào)度表生成裝置)

b1、b4、b7清洗處理區(qū)段

b2、b5、b8取出區(qū)段

b3、b6、b9搬運區(qū)段

cr中央機械手(搬運單元)

f屬性標(biāo)志

ir分度器機械手(搬運單元)

p0處理程序

p1調(diào)度表生成程序

pass基板載置部

rt翻轉(zhuǎn)單元

sd調(diào)度表數(shù)據(jù)

ss(ss1～ss8)上表面清洗處理單元

ssr(ssr1～ssr8)下表面清洗處理單元

w(w1～w3)基板