本發(fā)明涉及對(duì)基板進(jìn)行清洗的基板清洗裝置、基板處理裝置、基板清洗方法以及基板處理方法。

背景技術(shù)：

在制造半導(dǎo)體器件等的光刻工序中，通過(guò)向基板上供給抗蝕液等涂敷液來(lái)形成涂敷膜。在涂敷膜被曝光后，通過(guò)顯影在涂敷膜上形成規(guī)定的圖案。對(duì)涂敷膜被曝光前的基板進(jìn)行清洗處理(例如，參照日本特開(kāi)2009-123800號(hào)公報(bào))。

在日本特開(kāi)2009-123800號(hào)公報(bào)中記載有具有清洗干燥處理單元的基板處理裝置。在清洗干燥處理單元中，基板以被旋轉(zhuǎn)卡盤(pán)保持為水平的狀態(tài)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。在該狀態(tài)下，向基板的表面供給清洗液，從而沖洗附著于基板表面的塵埃等。另外，利用清洗液以及清洗刷清洗基板的整個(gè)背面以及外周端部，來(lái)除去附著于基板的整個(gè)背面以及外周端部的污染物。

近年來(lái)，希望形成于基板的圖案更微細(xì)化。在此，若在基板上殘存異物，則圖案形成精度降低。因此，優(yōu)選充分地除去殘存在基板上的異物。但是，在日本特開(kāi)2009-123800號(hào)公報(bào)中記載的清洗干燥處理單元中，難以除去頑固地附著于基板背面的異物、因涂敷液繞至基板背面而形成的涂敷膜以及混入該涂敷膜的異物等。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供能夠除去附著于基板背面的異物的基板清洗裝置、基板處理裝置、基板清洗方法以及基板處理方法。

一種基板清洗裝置，對(duì)基板的背面進(jìn)行清洗，具有：旋轉(zhuǎn)保持單元，保持基板且使所述基板旋轉(zhuǎn)，以及清洗單元，對(duì)被旋轉(zhuǎn)保持單元保持的基板的背面進(jìn)行清洗；旋轉(zhuǎn)保持單元包括：旋轉(zhuǎn)構(gòu)件，被設(shè)置為能夠圍繞旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)，以及多個(gè)保持構(gòu)件，以能夠與基板的外周端部抵接來(lái)保持基板的方式設(shè)置在旋轉(zhuǎn)構(gòu)件上；清洗單元包括：清洗用具，被設(shè)置為能夠通過(guò)研磨來(lái)除去基板的背面的異物，移動(dòng)裝置，使清洗用具一邊按壓被多個(gè)保持構(gòu)件保持的基板的背面一邊移動(dòng)，以及反作用力產(chǎn)生部，在基板上產(chǎn)生克服清洗用具對(duì)基板的背面施加的負(fù)載的反作用力。

在該基板清洗裝置中，通過(guò)清洗單元清洗被旋轉(zhuǎn)保持單元保持以及旋轉(zhuǎn)的基板的背面。在旋轉(zhuǎn)保持單元中，通過(guò)設(shè)置在旋轉(zhuǎn)構(gòu)件上的多個(gè)保持構(gòu)件以與基板的外周端部被抵接的狀態(tài)保持基板。另外，旋轉(zhuǎn)構(gòu)件圍繞旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)。在清洗單元中，移動(dòng)裝置使清洗用具一邊按壓被旋轉(zhuǎn)保持單元的多個(gè)保持構(gòu)件保持的基板的背面一邊移動(dòng)。在此，通過(guò)反作用力產(chǎn)生部在基板上產(chǎn)生克服清洗用具對(duì)基板的背面施加的負(fù)載的反作用力。借助清洗用具的研磨除去基板的背面的異物。

根據(jù)該結(jié)構(gòu)，在進(jìn)行清洗時(shí)清洗用具對(duì)基板的背面施加的負(fù)載被由反作用力產(chǎn)生部產(chǎn)生的反作用力克服。因此，即使清洗用具按壓基板的背面，也能夠防止基板撓曲。由此，能夠使清洗用具與基板的背面均勻地抵接，能夠?qū)宓谋趁媸┘泳鶆虻呢?fù)載，并充分地進(jìn)行清洗。結(jié)果，能夠可靠地除去牢固地附著在基板的背面上的異物、涂敷液繞至基板的背面而形成的涂敷膜以及混入該涂敷膜的異物等。

反作用力產(chǎn)生部可以包括以與基板的外周端部抵接的方式設(shè)置在旋轉(zhuǎn)構(gòu)件上的多個(gè)抵接構(gòu)件，多個(gè)抵接構(gòu)件在清洗用具對(duì)基板的背面施加負(fù)載時(shí)在基板的外周端部產(chǎn)生克服負(fù)載的反作用力。此時(shí)，能夠以簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu)產(chǎn)生克服抵接構(gòu)件對(duì)基板的背面施加的負(fù)載的反作用力。

基板的外周端部可以具有被處理面?zhèn)刃泵娌俊⒈趁鎮(zhèn)刃泵娌恳约岸嗣?，多個(gè)抵接構(gòu)件中的各個(gè)抵接構(gòu)件具有與基板的被處理面?zhèn)刃泵娌康纸拥牡纸用妗４藭r(shí)，能夠在不對(duì)形成在基板的被處理面上的涂敷膜造成損傷的情況下以簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu)產(chǎn)生克服由抵接構(gòu)件對(duì)基板的背面施加的負(fù)載的反作用力。

多個(gè)保持構(gòu)件可以被設(shè)置為能夠在與基板的外周端部抵接來(lái)保持基板的基板保持狀態(tài)和與基板的外周端部分離的基板釋放狀態(tài)之間切換，旋轉(zhuǎn)保持單元還包括使多個(gè)保持構(gòu)件在基板保持狀態(tài)與基板釋放狀態(tài)之間切換的保持構(gòu)件切換部，多個(gè)保持構(gòu)件中的各個(gè)保持構(gòu)件隨著旋轉(zhuǎn)構(gòu)件的旋轉(zhuǎn)以經(jīng)過(guò)沿著基板的外周端部的第一區(qū)域以及第二區(qū)域的方式圍繞旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)，在對(duì)基板的背面的除了周緣部以外的中心區(qū)域進(jìn)行清洗時(shí)，保持構(gòu)件切換部使多個(gè)保持構(gòu)件成為基板保持狀態(tài)，并且移動(dòng)裝置使清洗用具在基板的背面的中心區(qū)域移動(dòng)，在對(duì)基板的背面的周緣部進(jìn)行清洗時(shí)，保持構(gòu)件切換部在旋轉(zhuǎn)構(gòu)件旋轉(zhuǎn)的過(guò)程中使多個(gè)保持構(gòu)件中的處于第一區(qū)域的保持構(gòu)件成為基板保持狀態(tài)，使多個(gè)保持構(gòu)件中的處于第二區(qū)域的保持構(gòu)件成為基板釋放狀態(tài)，并且移動(dòng)裝置使清洗用具在基板的背面的周緣部且在第二區(qū)域上移動(dòng)。

此時(shí)，在對(duì)基板的背面的周緣部進(jìn)行清洗時(shí)，位于第二區(qū)域的保持構(gòu)件與基板的外周端部分離。由此，能夠以不與保持構(gòu)件干涉的方式使清洗用具位于第二區(qū)域。結(jié)果，能夠高效地對(duì)基板的背面的周緣部進(jìn)行清洗。

各抵接構(gòu)件可以在與基板的外周端部抵接的狀態(tài)下配置在相鄰的各2個(gè)保持構(gòu)件之間。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，即使在第二區(qū)域中保持構(gòu)件與基板的外周端部分離時(shí)，與該保持構(gòu)件相鄰的2個(gè)抵接構(gòu)件也與基板的外周端部抵接。由此，能夠一邊維持對(duì)基板的背面的周緣部進(jìn)行的清洗的效率一邊產(chǎn)生克服對(duì)基板的背面施加的負(fù)載的反作用力。

反作用力產(chǎn)生部可以包括能夠吸引基板的背面的吸引部，吸引部在清洗用具對(duì)基板的背面施加負(fù)載時(shí)，借助對(duì)基板的背面的吸引產(chǎn)生克服負(fù)載的反作用力。此時(shí)，能夠在不對(duì)在基板的被處理面上形成的涂敷膜造成損傷的情況下產(chǎn)生克服對(duì)基板的背面施加的負(fù)載的反作用力。

清洗用具可以具有朝向基板的背面的研磨面，并且在研磨面具有開(kāi)口，吸引部通過(guò)清洗用具的開(kāi)口吸引基板的背面。此時(shí)，能夠以簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu)通過(guò)清洗用具一邊吸引基板的背面一邊進(jìn)行研磨。

吸引部能夠通過(guò)吸引來(lái)排出被清洗用具除去的異物。此時(shí)，不需要向外部排出因研磨而從基板的背面除去的異物的作業(yè)。由此，能夠提高清洗的效率。

清洗單元可以還包括清洗刷，該清洗刷進(jìn)一步對(duì)通過(guò)清洗用具清洗后或清洗中的基板的背面進(jìn)行清洗。此時(shí)，能夠可靠地除去附著在基板的背面上的不同種類的異物。

另一種基板清洗裝置，對(duì)基板的背面進(jìn)行清洗，具有：旋轉(zhuǎn)保持單元，保持基板且使所述基板旋轉(zhuǎn)，以及清洗單元，對(duì)被旋轉(zhuǎn)保持單元保持的基板的背面進(jìn)行清洗；旋轉(zhuǎn)保持單元包括：旋轉(zhuǎn)構(gòu)件，被設(shè)置為能夠圍繞旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)，以及多個(gè)保持構(gòu)件，以能夠與基板的外周端部抵接來(lái)保持基板的方式設(shè)置在旋轉(zhuǎn)構(gòu)件上；清洗單元包括：清洗用具，被設(shè)置為能夠通過(guò)研磨來(lái)除去基板的背面的異物，移動(dòng)裝置，使所述清洗用具一邊按壓被多個(gè)保持構(gòu)件保持的基板的背面一邊移動(dòng)，以及清洗刷，進(jìn)一步對(duì)通過(guò)清洗用具清洗后或清洗中的基板的背面進(jìn)行清洗。

在該基板清洗裝置中，通過(guò)清洗單元清洗被旋轉(zhuǎn)保持單元保持以及旋轉(zhuǎn)的基板的背面。在旋轉(zhuǎn)保持單元中，通過(guò)設(shè)置在旋轉(zhuǎn)構(gòu)件上的多個(gè)保持構(gòu)件在基板的外周端部被抵接的狀態(tài)下保持基板。另外，旋轉(zhuǎn)構(gòu)件圍繞旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)。在清洗單元中，移動(dòng)裝置使清洗用具一邊按壓被旋轉(zhuǎn)保持單元的多個(gè)保持構(gòu)件保持的基板的背面一邊移動(dòng)。借助清洗用具的研磨除去基板的背面的異物。清洗刷進(jìn)一步對(duì)通過(guò)清洗用具清洗后或清洗中的基板的背面進(jìn)行清洗。

由此，借助清洗用具的研磨能夠除去牢固地附著在基板的背面上的異物、涂敷液繞進(jìn)基板的背面而形成的涂敷膜以及混入該涂敷膜的異物等。另外，通過(guò)清洗用具以及清洗刷能夠可靠地除去附著在基板的背面上的不同種類的異物。

清洗單元還可以包括清洗液供給部，該清洗液供給部向通過(guò)清洗用具清洗后或清洗中的基板的背面供給清洗液。此時(shí)，能夠以簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu)向外部排出因研磨而從基板的背面除去的異物。

一種基板處理裝置具有：膜形成單元，通過(guò)將涂敷液供給至基板的被處理面來(lái)在被處理面上形成涂敷膜；除去單元，向基板的周緣部供給除去液，該除去液除去由膜形成單元在基板的被處理面的周緣部形成的涂敷膜；以及對(duì)通過(guò)除去單元除去被處理面的周緣部的涂敷膜后的基板的背面進(jìn)行清洗的上述一種或另一種基板清洗裝置。

在該基板處理裝置中，涂敷液通過(guò)膜形成單元供給至基板的被處理面，由此在基板的被處理面形成涂敷膜。另外，除去液通過(guò)除去單元供給至基板的周緣部，由此除去在基板的被處理面的周緣部形成的涂敷膜。由此，在除了基板的周緣部以外的被處理面上形成涂敷膜。

在上述的基板清洗裝置中，通過(guò)清洗單元清洗被旋轉(zhuǎn)保持單元保持以及旋轉(zhuǎn)的基板的背面。在旋轉(zhuǎn)保持單元中，通過(guò)設(shè)置在旋轉(zhuǎn)構(gòu)件上的多個(gè)保持構(gòu)件在基板的外周端部被抵接的狀態(tài)下保持基板。另外，旋轉(zhuǎn)構(gòu)件圍繞旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)。在清洗單元中，移動(dòng)裝置使清洗用具一邊按壓被旋轉(zhuǎn)保持單元的多個(gè)保持構(gòu)件保持的基板的背面一邊移動(dòng)。借助清洗用具的研磨除去基板的背面的異物。

在上述的一種基板清洗裝置中，通過(guò)反作用力產(chǎn)生部在基板上產(chǎn)生克服清洗用具對(duì)基板的背面施加的負(fù)載的反作用力。即，在進(jìn)行清洗時(shí)清洗用具對(duì)基板的背面施加的負(fù)載被由反作用力產(chǎn)生部產(chǎn)生的反作用力克服。因此，即使清洗用具按壓基板的背面，也能夠防止基板撓曲。由此，能夠使清洗用具與基板的背面均勻地抵接，能夠?qū)宓谋趁媸┘泳鶆虻呢?fù)載，并充分地進(jìn)行清洗。結(jié)果，能夠可靠地除去牢固地附著在基板的背面上的異物、涂敷液繞進(jìn)基板的背面而形成的涂敷膜以及混入該涂敷膜的異物等。

在上述的另一種基板清洗裝置中，在通過(guò)清洗用具的研磨而除去基板的背面的異物后，進(jìn)一步通過(guò)清洗刷對(duì)基板的背面進(jìn)行清洗。由此，能夠通過(guò)清洗用具的研磨除去牢固地附著在基板的背面上的異物、涂敷液繞進(jìn)基板的背面而形成的涂敷膜以及混入該涂敷膜的異物等。另外，能夠通過(guò)清洗用具以及清洗刷可靠地除去附著在基板的背面上的不同種類的異物。

一種基板清洗方法，對(duì)基板的背面進(jìn)行清洗，包括：通過(guò)旋轉(zhuǎn)保持單元保持基板且使所述基板旋轉(zhuǎn)的步驟，以及通過(guò)清洗單元對(duì)被旋轉(zhuǎn)保持單元保持的基板的背面進(jìn)行清洗的步驟；保持基板且使所述基板旋轉(zhuǎn)的步驟包括：通過(guò)使設(shè)置在旋轉(zhuǎn)構(gòu)件上的多個(gè)保持構(gòu)件與基板的外周端部抵接來(lái)保持基板的步驟，以及使旋轉(zhuǎn)構(gòu)件圍繞旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)的步驟；進(jìn)行清洗的步驟包括：通過(guò)移動(dòng)裝置使清洗用具一邊按壓被多個(gè)保持構(gòu)件保持的基板的背面一邊移動(dòng)的步驟，通過(guò)清洗用具進(jìn)行研磨來(lái)除去基板的背面的異物的步驟，以及通過(guò)反作用力產(chǎn)生部在基板上產(chǎn)生克服清洗用具對(duì)基板的背面施加的負(fù)載的反作用力的步驟。

根據(jù)該基板清洗方法，通過(guò)清洗單元清洗被旋轉(zhuǎn)保持單元保持以及旋轉(zhuǎn)的基板的背面。在旋轉(zhuǎn)保持單元中，通過(guò)設(shè)置在旋轉(zhuǎn)構(gòu)件上的多個(gè)保持構(gòu)件在基板的外周端部被抵接的狀態(tài)下保持基板。另外，旋轉(zhuǎn)構(gòu)件圍繞旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)。在清洗單元中，移動(dòng)裝置使清洗用具一邊按壓被旋轉(zhuǎn)保持單元的多個(gè)保持構(gòu)件保持的基板的背面一邊移動(dòng)。在此，通過(guò)反作用力產(chǎn)生部在基板上產(chǎn)生克服清洗用具對(duì)基板的背面施加的負(fù)載的反作用力。借助清洗用具的研磨除去基板的背面的異物。

根據(jù)該方法，在進(jìn)行清洗時(shí)清洗用具對(duì)基板的背面施加的負(fù)載被由反作用力產(chǎn)生部產(chǎn)生的反作用力克服。因此，即使清洗用具按壓基板的背面，也能夠防止基板撓曲。由此，能夠使清洗用具與基板的背面均勻地抵接，能夠?qū)宓谋趁媸┘泳鶆虻呢?fù)載，并充分地進(jìn)行清洗。結(jié)果，能夠可靠地除去牢固地附著在基板的背面上的異物、涂敷液繞進(jìn)基板的背面而形成的涂敷膜以及混入該涂敷膜的異物等。

另一種基板清洗方法，對(duì)基板的背面進(jìn)行清洗，包括：通過(guò)旋轉(zhuǎn)保持單元保持基板且使所述基板旋轉(zhuǎn)的步驟，以及通過(guò)清洗單元對(duì)被旋轉(zhuǎn)保持單元保持的基板的背面進(jìn)行清洗的步驟；保持基板且使所述基板進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的步驟包括：通過(guò)使設(shè)置在旋轉(zhuǎn)構(gòu)件上的多個(gè)保持構(gòu)件與基板的外周端部抵接來(lái)保持基板的步驟，以及使旋轉(zhuǎn)構(gòu)件圍繞旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)的步驟；進(jìn)行清洗的步驟包括：通過(guò)移動(dòng)裝置使清洗用具一邊按壓被多個(gè)保持構(gòu)件保持的基板的背面一邊移動(dòng)的步驟，通過(guò)清洗用具進(jìn)行研磨來(lái)除去基板的背面的異物的步驟，以及通過(guò)清洗刷進(jìn)一步對(duì)通過(guò)清洗用具清洗后或清洗中的基板的背面進(jìn)行清洗的步驟。

根據(jù)該基板清洗方法，通過(guò)清洗單元清洗被旋轉(zhuǎn)保持單元保持以及旋轉(zhuǎn)的基板的背面。在旋轉(zhuǎn)保持單元中，通過(guò)設(shè)置在旋轉(zhuǎn)構(gòu)件上的多個(gè)保持構(gòu)件在基板的外周端部被抵接的狀態(tài)下保持基板。另外，旋轉(zhuǎn)構(gòu)件圍繞旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)。在清洗單元中，移動(dòng)裝置使清洗用具一邊按壓被旋轉(zhuǎn)保持單元的多個(gè)保持構(gòu)件保持的基板的背面一邊移動(dòng)。借助清洗用具的研磨除去基板的背面的異物。清洗刷進(jìn)一步對(duì)通過(guò)清洗用具清洗后或清洗中的基板的背面進(jìn)行清洗。

由此，能夠借助清洗用具的研磨除去牢固地附著在基板的背面上的異物、涂敷液繞進(jìn)基板的背面而形成的涂敷膜以及混入該涂敷膜的異物等。另外，能夠通過(guò)清洗用具以及清洗刷可靠地除去附著在基板的背面上的不同種類的異物。

一種基板處理方法包括：通過(guò)向基板的被處理面供給涂敷液來(lái)在被處理面上形成涂敷膜的步驟；向基板的周緣部供給用于將在基板的被處理面的周緣部形成的涂敷膜除去的除去液的步驟；以及利用上述一種或另一種基板清洗方法對(duì)除去了被處理面的周緣部的涂敷膜后的基板的背面進(jìn)行清洗的步驟。

根據(jù)該基板處理方法，涂敷液通過(guò)膜形成單元供給至基板的被處理面，由此在基板的被處理面上形成涂敷膜。另外，除去液通過(guò)除去單元供給至基板的周緣部，由此除去在基板的被處理面的周緣部形成的涂敷膜。由此，在除了基板的周緣部之外的被處理面上形成涂敷膜。

根據(jù)上述的基板清洗方法，通過(guò)清洗單元清洗被旋轉(zhuǎn)保持單元保持以及旋轉(zhuǎn)的基板的背面。在旋轉(zhuǎn)保持單元中，通過(guò)設(shè)置在旋轉(zhuǎn)構(gòu)件上的多個(gè)保持構(gòu)件在基板的外周端部被抵接的狀態(tài)下保持基板。另外，旋轉(zhuǎn)構(gòu)件圍繞旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)。在清洗單元中，移動(dòng)裝置使清洗用具一邊按壓被旋轉(zhuǎn)保持單元的多個(gè)保持構(gòu)件保持的基板的背面一邊移動(dòng)。借助清洗用具的研磨除去基板的背面的異物。

根據(jù)上述一種基板清洗方法，通過(guò)反作用力產(chǎn)生部在基板上產(chǎn)生克服清洗用具對(duì)基板的背面施加的負(fù)載的反作用力。即，在進(jìn)行清洗時(shí)清洗用具對(duì)基板的背面施加的負(fù)載被由反作用力產(chǎn)生部產(chǎn)生的反作用力克服。因此，即使清洗用具按壓基板的背面，也能夠防止基板撓曲。由此，能夠使清洗用具與基板的背面均勻地抵接，能夠?qū)宓谋趁媸┘泳鶆虻呢?fù)載，并充分地進(jìn)行清洗。結(jié)果，能夠可靠地除去牢固地附著在基板的背面上的異物、涂敷液繞進(jìn)基板的背面而形成的涂敷膜以及混入該涂敷膜的異物等。

根據(jù)上述另一種基板清洗方法，在通過(guò)清洗用具的研磨除去基板的背面的異物后，進(jìn)一步通過(guò)清洗刷對(duì)基板的背面進(jìn)行清洗。由此，能夠借助清洗用具的研磨除去牢固地附著在基板的背面上的異物、涂敷液繞進(jìn)基板的背面而形成的涂敷膜以及混入該涂敷膜的異物等。另外，能夠通過(guò)清洗用具以及清洗刷可靠地除去附著在基板的背面上的不同種類的異物。

附圖說(shuō)明

圖1是表示本發(fā)明的第一實(shí)施方式的基板處理裝置的俯視示意圖。

圖2是表示圖1的涂敷處理部、顯影處理部以及清洗干燥處理部的內(nèi)部結(jié)構(gòu)的側(cè)視示意圖。

圖3是表示圖2的清洗干燥處理單元的結(jié)構(gòu)的概略俯視圖。

圖4是圖3的清洗干燥處理單元的局部a-a剖視圖。

圖5是圖3的清洗干燥處理單元的局部b-b剖視圖。

圖6a以及6b是基板的外周端部的側(cè)視放大圖。

圖7a以及7b是用于說(shuō)明旋轉(zhuǎn)卡盤(pán)保持基板的保持動(dòng)作的圖。

圖8a以及8b是用于說(shuō)明旋轉(zhuǎn)卡盤(pán)保持基板的保持動(dòng)作的圖。

圖9是用于說(shuō)明基板的正面清洗處理的側(cè)視圖。

圖10a以及10b是用于說(shuō)明第一清洗機(jī)構(gòu)對(duì)基板進(jìn)行的背面清洗處理的側(cè)視圖。

圖11是用于說(shuō)明第一清洗機(jī)構(gòu)對(duì)基板進(jìn)行的背面清洗處理的俯視圖。

圖12是表示圖1的熱處理部以及清洗干燥處理部的內(nèi)部結(jié)構(gòu)的側(cè)視示意圖。

圖13是表示搬運(yùn)部的內(nèi)部結(jié)構(gòu)的側(cè)視示意圖。

圖14是表示第一變形例的清洗干燥處理單元的結(jié)構(gòu)的側(cè)視圖。

圖15是用于說(shuō)明第二清洗機(jī)構(gòu)對(duì)基板進(jìn)行的背面清洗處理的側(cè)視圖。

圖16是用于說(shuō)明第二清洗機(jī)構(gòu)對(duì)基板進(jìn)行的外周端部清洗處理的側(cè)視圖。

圖17是表示第二變形例的清洗干燥處理單元的結(jié)構(gòu)的俯視示意圖。

圖18a～18c是表示在進(jìn)行背面清洗處理時(shí)圖17的清洗干燥處理單元的動(dòng)作的側(cè)視示意圖。

圖19是表示本發(fā)明的第二實(shí)施方式的清洗干燥處理單元的結(jié)構(gòu)的局部縱剖視圖。

圖20是圖19的清洗干燥處理單元中的清洗頭的側(cè)視放大圖。

圖21是包括基板清洗裝置的基板清洗單元的俯視示意圖。

具體實(shí)施方式

[1]第一實(shí)施方式

(1)基板處理裝置

下面，參照附圖說(shuō)明本發(fā)明的第一實(shí)施方式的基板清洗裝置以及基板處理裝置。此外，在下面的說(shuō)明中，基板指半導(dǎo)體基板、液晶顯示裝置用基板、等離子顯示器用基板、光盤(pán)用基板、磁盤(pán)用基板、光磁盤(pán)用基板或光掩模用基板等。另外，在本實(shí)施方式中使用的基板的至少一部分具有圓形的外周端部。例如，外周端部的除了定位用缺口以外的部分呈圓形。

圖1是本發(fā)明的第一實(shí)施方式的基板處理裝置的俯視示意圖。在圖1以及后面規(guī)定的圖中為了明確位置關(guān)系而標(biāo)注有表示相互正交的x方向、y方向以及z方向的箭頭。x方向以及y方向在水平面內(nèi)彼此正交，z方向相當(dāng)于鉛垂方向。

如圖1所示，基板處理裝置100具有分度器部11、涂敷部12、顯影部13、清洗干燥處理部14a以及搬入搬出部14b。由清洗干燥處理部14a以及搬入搬出部14b構(gòu)成接口部14。以與搬入搬出部14b相鄰的方式配置有曝光裝置15。

分度器部11包括多個(gè)搬運(yùn)器載置部111以及搬運(yùn)部112。在各搬運(yùn)器載置部111上載置有分多層地容置有多個(gè)基板w的搬運(yùn)器113。在搬運(yùn)部112上設(shè)置有主控制器114以及搬運(yùn)機(jī)構(gòu)115。主控制器114控制基板處理裝置100的各種構(gòu)成構(gòu)件。搬運(yùn)機(jī)構(gòu)115一邊保持基板w一邊搬運(yùn)基板w。

涂敷部12包括涂敷處理部121、搬運(yùn)部122以及熱處理部123。涂敷處理部121以及熱處理部123設(shè)置為隔著搬運(yùn)部122相向。在搬運(yùn)部122與分度器部11之間設(shè)置有用于載置基板w的基板載置部pass1～pass4(參照?qǐng)D13)。在搬運(yùn)部122設(shè)置有用于搬運(yùn)基板w的搬運(yùn)機(jī)構(gòu)127、128(參照?qǐng)D13)。

顯影部13包括顯影處理部131、搬運(yùn)部132以及熱處理部133。顯影處理部131以及熱處理部133設(shè)置為隔著搬運(yùn)部132相向。在搬運(yùn)部132與搬運(yùn)部122之間設(shè)置有用于載置基板w的基板載置部pass5～pass8(參照?qǐng)D13)。在搬運(yùn)部132設(shè)置有用于搬運(yùn)基板w的搬運(yùn)機(jī)構(gòu)137、138(參照?qǐng)D13)。

清洗干燥處理部14a包括清洗干燥處理部161、162以及搬運(yùn)部163。清洗干燥處理部161、162設(shè)置為隔著搬運(yùn)部163相向。在搬運(yùn)部163上設(shè)置有搬運(yùn)機(jī)構(gòu)141、142。

在搬運(yùn)部163與搬運(yùn)部132之間設(shè)置有載置兼緩沖部p-bf1、p-bf2(參照?qǐng)D13)。載置兼緩沖部p-bf1、p-bf2能夠容置多個(gè)基板w。

另外，在搬運(yùn)機(jī)構(gòu)141、142之間，以與搬入搬出部14b相鄰的方式設(shè)置有基板載置部pass9以及后述的載置兼冷卻部p-cp(參照?qǐng)D13)。載置兼冷卻部p-cp具有冷卻基板w的功能(例如，冷卻板)。在載置兼冷卻部p-cp，基板w被冷卻至適于曝光處理的溫度。在搬入搬出部14b設(shè)置有搬運(yùn)機(jī)構(gòu)143。搬運(yùn)機(jī)構(gòu)143將基板w搬入搬出曝光裝置15。

(2)涂敷處理部以及顯影處理部

圖2是表示圖1的涂敷處理部121、顯影處理部131以及清洗干燥處理部161的內(nèi)部結(jié)構(gòu)的側(cè)視示意圖。如圖2所示，在涂敷處理部121分層地設(shè)置有涂敷處理室21、22、23、24。在各涂敷處理室21～24中設(shè)置有涂敷處理單元129。在顯影處理部131中分層地設(shè)置有顯影處理室31、32、33、34。在各顯影處理室31～34中設(shè)置有顯影處理單元139。

如圖1以及圖2所示，各涂敷處理單元129具有多個(gè)旋轉(zhuǎn)卡盤(pán)25、多個(gè)防濺罩27、多個(gè)處理液噴嘴28、噴嘴搬運(yùn)機(jī)構(gòu)29以及多個(gè)邊緣沖洗噴嘴30。在本實(shí)施方式中，旋轉(zhuǎn)卡盤(pán)25、防濺罩27以及邊緣沖洗噴嘴30在各涂敷處理單元129中各設(shè)置兩個(gè)。

各旋轉(zhuǎn)卡盤(pán)25在保持有基板w的狀態(tài)下被未圖示的驅(qū)動(dòng)裝置(例如，電動(dòng)馬達(dá))驅(qū)動(dòng)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。防濺罩27設(shè)置為包圍在旋轉(zhuǎn)卡盤(pán)25的周?chē)?/p>

經(jīng)由處理液配管從未圖示的處理液儲(chǔ)存部向各處理液噴嘴28供給后述的各種處理液。在不向基板w供給處理液的待機(jī)時(shí)刻，各處理液噴嘴28被配置在待機(jī)位置。在向基板w供給處理液的供給時(shí)刻，通過(guò)噴嘴搬運(yùn)機(jī)構(gòu)29保持被配置在待機(jī)位置的某個(gè)處理液噴嘴28，將該處理液噴嘴28移動(dòng)至基板w的上方。

通過(guò)一邊使旋轉(zhuǎn)卡盤(pán)25旋轉(zhuǎn)一邊從處理液噴嘴28噴出處理液，來(lái)向旋轉(zhuǎn)的基板w上涂覆處理液。另外，通過(guò)一邊使旋轉(zhuǎn)卡盤(pán)25旋轉(zhuǎn)一邊從邊緣沖洗噴嘴30向旋轉(zhuǎn)的基板w的周緣部噴出沖洗液，使涂覆在基板w上的處理液的周緣部溶解。由此，除去基板w的周緣部的處理液。在此，基板w的周緣部是指在基板w的正面沿著基板w的外周端部的具有規(guī)定寬度的區(qū)域。

在本實(shí)施方式中，在圖2的涂敷處理室22、24的涂敷處理單元129中，從處理液噴嘴28基板w供給防反射膜用的處理液(防反射液)。在涂敷處理室21、23的涂敷處理單元129中，從處理液噴嘴28向基板w供給抗蝕膜用的處理液(抗蝕液)。

如圖2所示，顯影處理單元139與涂敷處理單元129同樣地具備多個(gè)旋轉(zhuǎn)卡盤(pán)35以及多個(gè)防濺罩37。另外，如圖1所示，顯影處理單元139具備噴出顯影液的2個(gè)狹縫噴嘴38以及使這些狹縫噴嘴38在x方向上移動(dòng)的移動(dòng)機(jī)構(gòu)39。

在顯影處理單元139中，通過(guò)未圖示的驅(qū)動(dòng)裝置使旋轉(zhuǎn)卡盤(pán)35旋轉(zhuǎn)。由此，基板w進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。狹縫噴嘴38一邊移動(dòng)一邊向旋轉(zhuǎn)的各基板w供給顯影液。由此，對(duì)基板w進(jìn)行顯影處理。

在清洗干燥處理部161設(shè)置有多個(gè)(在本例中為4個(gè))清洗干燥處理單元sd1。在清洗干燥處理單元sd1中，對(duì)曝光處理前的基板w進(jìn)行清洗以及干燥處理。以下，說(shuō)明清洗干燥處理單元sd1的結(jié)構(gòu)。

(3)清洗干燥處理單元的結(jié)構(gòu)

圖3是表示圖2的清洗干燥處理單元sd1的結(jié)構(gòu)的概略俯視圖。圖4是圖3的清洗干燥處理單元sd1的局部a-a剖視圖。圖5是圖3的清洗干燥處理單元sd1的局部b-b剖視圖。圖6a、圖6b是基板w的外周端部的側(cè)視放大圖。如圖6a所示，基板w的外周端部10包括被處理面?zhèn)鹊男泵娌?、背面?zhèn)鹊男泵娌?以及端面3。在基板w的被處理面的除了周緣部pe以外的區(qū)域形成作為涂敷膜的抗蝕膜r。

如圖3～圖5所示，清洗干燥處理單元sd1包括旋轉(zhuǎn)保持單元200以及清洗單元300。旋轉(zhuǎn)保持單元200包括旋轉(zhuǎn)卡盤(pán)210、多個(gè)卡盤(pán)銷220、切換部230、防護(hù)機(jī)構(gòu)240以及多個(gè)交接機(jī)構(gòu)250。旋轉(zhuǎn)卡盤(pán)210將基板w保持為水平狀態(tài)且使基板w旋轉(zhuǎn)，包括旋轉(zhuǎn)馬達(dá)211、旋轉(zhuǎn)軸212、旋轉(zhuǎn)板213以及板支撐構(gòu)件214。

旋轉(zhuǎn)馬達(dá)211設(shè)置在清洗干燥處理單元sd1的上部，被未圖示的支撐構(gòu)件支撐。旋轉(zhuǎn)軸212被設(shè)置為從旋轉(zhuǎn)馬達(dá)211向下方延伸。板支撐構(gòu)件214安裝在旋轉(zhuǎn)軸212的下端部。旋轉(zhuǎn)板213為圓板狀，被板支撐構(gòu)件214支撐為水平狀態(tài)。旋轉(zhuǎn)馬達(dá)211使旋轉(zhuǎn)軸212旋轉(zhuǎn)，由此旋轉(zhuǎn)板213圍繞鉛垂軸旋轉(zhuǎn)。

在旋轉(zhuǎn)馬達(dá)211、旋轉(zhuǎn)軸212以及板支撐構(gòu)件214中穿插有液供給管215。能夠經(jīng)由液供給管215，向被旋轉(zhuǎn)卡盤(pán)210保持的基板w上供給清洗液。作為清洗液例如使用純水。

多個(gè)卡盤(pán)銷220以關(guān)于旋轉(zhuǎn)軸212隔開(kāi)等角度間隔的方式設(shè)置在旋轉(zhuǎn)板213的周緣部。在本例中，8個(gè)卡盤(pán)銷220以關(guān)于旋轉(zhuǎn)軸212隔開(kāi)45度的間隔的方式設(shè)置在旋轉(zhuǎn)板213的周緣部。各卡盤(pán)銷220包括軸部221、銷支撐部222、保持部223以及磁鐵224。

軸部221在垂直方向上貫通旋轉(zhuǎn)板213。銷支撐部222從軸部221的下端部在水平方向上延伸。保持部223從銷支撐部222的前端部向下方突出。另外，在旋轉(zhuǎn)板213的上表面?zhèn)?，在軸部221的上端部安裝有磁鐵224。

各卡盤(pán)銷220能夠以軸部221為中心圍繞鉛垂軸旋轉(zhuǎn)，且能夠在保持部223與基板w的外周端部10抵接的閉狀態(tài)和保持部223與基板w的外周端部10分離的開(kāi)狀態(tài)之間切換。此外，在本例中，在磁鐵224的n極處于內(nèi)側(cè)時(shí)，各卡盤(pán)銷220成為閉狀態(tài)，在磁鐵224的s極處于內(nèi)側(cè)時(shí)，各卡盤(pán)銷220處于開(kāi)狀態(tài)。另外，在閉狀態(tài)下，保持部223與基板w的斜面部1、2抵接。

切換部230包括磁鐵板231、232以及磁鐵升降機(jī)構(gòu)233、234。磁鐵板231、232沿著以旋轉(zhuǎn)軸212為中心的周向配置在旋轉(zhuǎn)板213的上方。磁鐵板231、232在外側(cè)具有s極，在內(nèi)側(cè)具有n極。磁鐵升降機(jī)構(gòu)233、234分別使磁鐵板231、232升降。由此，磁鐵板231、232能夠獨(dú)立地在比卡盤(pán)銷220的磁鐵224更高的上方位置和與卡盤(pán)銷220的磁鐵224高度大致相同的下方位置之間移動(dòng)。

通過(guò)磁鐵板231、232的升降使各卡盤(pán)銷220在開(kāi)狀態(tài)和閉狀態(tài)之間切換。后面描述磁鐵板231、232以及卡盤(pán)銷220的動(dòng)作的詳細(xì)內(nèi)容。

防護(hù)機(jī)構(gòu)240包括防護(hù)體241以及防護(hù)體升降機(jī)構(gòu)242。防護(hù)體241具有關(guān)于旋轉(zhuǎn)卡盤(pán)210的旋轉(zhuǎn)軸212旋轉(zhuǎn)對(duì)稱的形狀，設(shè)置在旋轉(zhuǎn)卡盤(pán)210的外方。防護(hù)體升降機(jī)構(gòu)242使防護(hù)體241升降。防護(hù)體241阻擋從基板w飛散的清洗液。被防護(hù)體241阻擋的清洗液通過(guò)未圖示的排液裝置或回收裝置排液或回收。

多個(gè)(在本例中為3個(gè))交接機(jī)構(gòu)250以旋轉(zhuǎn)卡盤(pán)210的旋轉(zhuǎn)軸212為中心等角度間隔地配置在防護(hù)體241的外方。各交接機(jī)構(gòu)250包括升降旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)部251、旋轉(zhuǎn)軸252、臂253以及保持銷254。

旋轉(zhuǎn)軸252從升降旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)部251向上方延伸。臂253從旋轉(zhuǎn)軸252的上端部向水平方向延伸。保持銷254以能夠保持基板w的外周端部10的方式設(shè)置在臂253的前端部。通過(guò)升降旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)部251使旋轉(zhuǎn)軸252進(jìn)行升降動(dòng)作以及旋轉(zhuǎn)動(dòng)作。由此，保持銷254在水平方向以及上下方向上移動(dòng)。

清洗單元300包括第一清洗機(jī)構(gòu)310以及多個(gè)輔助銷330。在本實(shí)施方式中，第一清洗機(jī)構(gòu)310以能夠?qū)Ρ恍D(zhuǎn)保持單元200的旋轉(zhuǎn)卡盤(pán)210保持的基板w的背面進(jìn)行清洗的方式配置在清洗干燥處理單元sd1的下部。第一清洗機(jī)構(gòu)310包括清洗頭311、頭保持構(gòu)件312、清洗噴嘴313以及頭移動(dòng)機(jī)構(gòu)314。

清洗頭311為大致圓柱狀，例如，由分散有磨粒的pva(聚乙烯醇)海綿形成。清洗頭311具有對(duì)基板w的背面進(jìn)行研磨的研磨面311a，且以研磨面311a朝向上方的方式被頭保持構(gòu)件312保持。另外，在頭保持構(gòu)件312的處于清洗頭311附近的部分上安裝有清洗噴嘴313。在清洗噴嘴313上連接有供給清洗液的液供給管(未圖示)。清洗液例如為純水。清洗噴嘴313的噴出口朝向清洗頭311的研磨面311a的周邊。

頭移動(dòng)機(jī)構(gòu)314一邊通過(guò)清洗頭311的研磨面311a對(duì)基板w的背面施加負(fù)載p1(圖6b)一邊使頭保持構(gòu)件312移動(dòng)。由此，清洗頭311沿著水平方向以及鉛垂方向移動(dòng)。清洗頭311通過(guò)對(duì)被旋轉(zhuǎn)卡盤(pán)210保持的基板w的背面進(jìn)行研磨來(lái)清洗基板w的背面。在清洗基板w后，從清洗噴嘴313的噴出口向清洗頭311的上端部周邊噴出清洗液，由此除去顆粒。

多個(gè)輔助銷330以關(guān)于旋轉(zhuǎn)保持單元200的旋轉(zhuǎn)軸212隔開(kāi)等角度的方式設(shè)置在旋轉(zhuǎn)板213的周緣部。在本例中，8個(gè)輔助銷330以關(guān)于旋轉(zhuǎn)軸212隔開(kāi)45度的方式設(shè)置在旋轉(zhuǎn)板213的周緣部。各輔助銷330配置在相鄰的2個(gè)卡盤(pán)銷220的中間位置，且在垂直方向上貫通旋轉(zhuǎn)板213。在各卡盤(pán)銷220成為閉狀態(tài)且保持部223與基板w的斜面部1、2(圖6a)抵接的狀態(tài)下，各輔助銷330的下部與基板w的斜面部1抵接。

具體地說(shuō)，如圖6b所示，輔助銷330包括外周面331、下表面332以及傾斜面333。外周面331為圓柱形，下表面332為水平形狀。傾斜面333形成為錐狀來(lái)連接外周面331和下表面332。即，輔助銷330的下部為圓錐臺(tái)形狀。輔助銷330的傾斜面333與基板w的斜面部1抵接。輔助銷330在基板w上產(chǎn)生克服清洗頭311的研磨面311a對(duì)基板w的背面施加的負(fù)載p1的反作用力p2。

在本實(shí)施方式中，輔助銷330以下表面332不突出至比基板w更靠下的下方的狀態(tài)與基板w的斜面部1抵接，但是本發(fā)明不限于此。輔助銷330可以以下表面332突出到比基板w更靠下的下方的狀態(tài)與基板w的斜面部1抵接。此時(shí)，優(yōu)選輔助銷330的傾斜面333與水平面形成的角度例如小于45度。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，輔助銷330的下表面332與基板w的外周端部10充分地分離，因此，清洗頭311的研磨面311a難于與輔助銷330的下表面332接觸。

(4)清洗干燥處理單元的動(dòng)作

圖7a、7b以及圖8a、8b是用于說(shuō)明旋轉(zhuǎn)卡盤(pán)210對(duì)基板w的保持動(dòng)作的圖。首先，如圖7a所示，防護(hù)體241移動(dòng)至比卡盤(pán)銷220更低的位置。另外，多個(gè)交接機(jī)構(gòu)250(圖3)的保持銷254通過(guò)防護(hù)體241的上方移動(dòng)至旋轉(zhuǎn)板213的下方。通過(guò)搬運(yùn)機(jī)構(gòu)141(圖1)來(lái)在多個(gè)保持銷254上載置基板w。

此時(shí)，磁鐵板231、232處于上方位置。此時(shí)，磁鐵板231、232的磁力線b在卡盤(pán)銷220的磁鐵224的高度上從內(nèi)側(cè)朝向外側(cè)。由此，各卡盤(pán)銷220的磁鐵224的s極被向吸引至內(nèi)側(cè)。因此，各卡盤(pán)銷220成為開(kāi)狀態(tài)。

接著，如圖7b所示，多個(gè)保持銷254在保持基板w的狀態(tài)下上升。由此，基板w移動(dòng)至多個(gè)卡盤(pán)銷220的保持部223之間。另外，基板w的斜面部1(圖6a)與多個(gè)輔助銷330的傾斜面333(圖6b)抵接。

接著，如圖8a所示，磁鐵板231、232移動(dòng)至下方位置。此時(shí)，各卡盤(pán)銷220的磁鐵224的n極被吸引至內(nèi)側(cè)，各卡盤(pán)銷220成為閉狀態(tài)。由此，在基板w的斜面部1與多個(gè)輔助銷330的傾斜面333抵接的狀態(tài)下，通過(guò)各卡盤(pán)銷220的保持部223保持基板w的斜面部1、2。此外，各卡盤(pán)銷220在相鄰的保持銷254間保持基板w的斜面部1、2。因此，卡盤(pán)銷220與保持銷254互不干涉。此后，多個(gè)保持銷254移動(dòng)至防護(hù)體241的外方。

然后，如圖8b所示，防護(hù)體241移動(dòng)至包圍被卡盤(pán)銷220保持的基板w的高度。然后，依次對(duì)基板w進(jìn)行清洗處理以及干燥處理。清洗處理包括對(duì)基板w的正面(上表面)進(jìn)行清洗的正面清洗處理以及對(duì)基板w的背面(下表面)進(jìn)行清洗的背面清洗處理。對(duì)于正面清洗處理和背面清洗處理，可以任意一個(gè)先行進(jìn)行處理，也可以同時(shí)進(jìn)行處理。

圖9是用于說(shuō)明基板w的正面清洗處理的側(cè)視圖。如圖9所示，在進(jìn)行基板w的正面清洗處理時(shí)，在通過(guò)旋轉(zhuǎn)卡盤(pán)210使基板w旋轉(zhuǎn)的狀態(tài)下，通過(guò)液供給管215對(duì)基板w的正面供給清洗液。清洗液借助離心力向基板w的整個(gè)表面擴(kuò)散，并向外方飛散。由此，沖洗附著在基板w的正面上的塵埃等。

圖10a、圖10b是用于說(shuō)明通過(guò)第一清洗機(jī)構(gòu)310對(duì)基板w進(jìn)行背面清洗處理的側(cè)視圖。圖11是用于說(shuō)明通過(guò)第一清洗機(jī)構(gòu)310對(duì)基板w進(jìn)行背面清洗處理的俯視圖。在基板w的背面清洗處理中，依次進(jìn)行對(duì)基板w的中心部進(jìn)行的背面清洗處理和對(duì)基板w的周緣部進(jìn)行的背面清洗處理。在此，基板w的背面的周緣部是指基板w的從斜面部2(圖6a)至規(guī)定寬度的內(nèi)側(cè)的區(qū)域，其寬度比清洗頭311的研磨面311a(圖6b)的直徑更小。可以先進(jìn)行中心部的背面清洗處理和基板w的周緣部的背面清洗處理中的任意一個(gè)處理。

在對(duì)基板w的中心部進(jìn)行背面清洗處理時(shí)，如圖10a所示，在通過(guò)旋轉(zhuǎn)卡盤(pán)210使基板w旋轉(zhuǎn)的狀態(tài)下，清洗頭311移動(dòng)至基板w的中心部的下方。然后，在通過(guò)清洗頭311的研磨面311a對(duì)基板w的背面施加負(fù)載p1的狀態(tài)下，清洗頭311在基板w的中心部移動(dòng)。由此，通過(guò)清洗頭311對(duì)基板w的背面的中心部進(jìn)行研磨，來(lái)除去附著在基板w的背面上的異物。另外，從清洗噴嘴313向基板w的背面與清洗頭311的研磨面311a之間的接觸部分供給清洗液，由此除去顆粒。

在對(duì)基板w的周緣部進(jìn)行背面清洗處理時(shí)，如圖10b所示，磁鐵板231被配置在下方位置，磁鐵板232被配置在上方位置。在該狀態(tài)下，通過(guò)旋轉(zhuǎn)卡盤(pán)210使基板w旋轉(zhuǎn)。

此時(shí)，如圖11所示，在磁鐵板231的外方區(qū)域r1，各卡盤(pán)銷220成為閉狀態(tài)，在磁鐵板232的外方區(qū)域r2，各卡盤(pán)銷220成為開(kāi)狀態(tài)。即，各卡盤(pán)銷220的保持部223，在通過(guò)磁鐵板231的外方區(qū)域r1時(shí)，維持與基板w的外周端部10接觸的狀態(tài)，在通過(guò)磁鐵板232的外方區(qū)域r2時(shí)，與基板w的外周端部10分離。

在本例中，8個(gè)卡盤(pán)銷220中的至少7個(gè)卡盤(pán)銷220處于磁鐵板231的外方區(qū)域r1。此時(shí)，至少通過(guò)7個(gè)卡盤(pán)銷220保持基板w。由此，確?；鍂的穩(wěn)定性。另外，即使在磁鐵板232被配置在上方位置時(shí)，8個(gè)輔助銷330的傾斜面333(圖6b)也從上方與基板w的斜面部1抵接。

在該狀態(tài)下，清洗頭311移動(dòng)至外方區(qū)域r2中的基板w的背面的周緣部。并且，通過(guò)清洗頭311的研磨面311a對(duì)基板w的背面的周緣部施加負(fù)載p1。由此，通過(guò)清洗頭311研磨基板w的背面的周緣部，除去附著在基板w的背面上的異物。另外，從清洗噴嘴313向基板w的背面與清洗頭311的研磨面311a之間的接觸部分供給清洗液，由此除去顆粒。

這樣，在對(duì)周緣部進(jìn)行背面清洗處理時(shí)，各卡盤(pán)銷220的保持部223在通過(guò)磁鐵板231的外方區(qū)域r1時(shí)與基板w的外周端部10分離。由此，清洗頭311能夠在不與卡盤(pán)銷220干涉的狀態(tài)下高效且充分地對(duì)基板w的背面的周緣部進(jìn)行清洗。

在此，在外方區(qū)域r1，在某個(gè)卡盤(pán)銷220與基板w的外周端部10分離時(shí)，該卡盤(pán)銷220附近的基板w的外周端部10沒(méi)有被卡盤(pán)銷220保持。在這樣的狀態(tài)下，與該卡盤(pán)銷220相鄰的2個(gè)輔助銷330與基板w的斜面部1抵接，在基板w上產(chǎn)生克服負(fù)載p1的反作用力p2。因此，能夠防止基板w在被清洗頭311施加負(fù)載p1時(shí)撓曲。由此，能夠一邊均勻地維持對(duì)基板w的背面的中心部和周緣部賦予的負(fù)載p1，一邊充分地對(duì)基板w的整個(gè)背面進(jìn)行清洗。

在上述的正面清洗處理以及背面清洗處理后，對(duì)基板w進(jìn)行干燥處理。此時(shí)，磁鐵板231、232配置在下方位置，通過(guò)所有的卡盤(pán)銷220保持基板w。在該狀態(tài)下，通過(guò)旋轉(zhuǎn)卡盤(pán)210使基板w高速旋轉(zhuǎn)。由此，甩出附著在基板w上的清洗液，對(duì)基板w進(jìn)行干燥。

此外，在對(duì)基板w進(jìn)行干燥處理時(shí)，可以通過(guò)液供給管215向基板w供給非活性氣體(例如氮?dú)鈿怏w)或空氣等氣體。此時(shí)，通過(guò)在旋轉(zhuǎn)板213和基板w之間形成的氣流向外方吹散基板w上的清洗液。由此，能夠高效地干燥基板w。

(5)熱處理部

圖12是表示圖1的熱處理部123、133以及清洗干燥處理部162的內(nèi)部結(jié)構(gòu)的側(cè)視示意圖。如圖12所示，熱處理部123具有設(shè)置在上方的上層熱處理部101以及設(shè)置在下方的下層熱處理部102。在上層熱處理部101以及下層熱處理部102中，設(shè)置有多個(gè)熱處理單元php、多個(gè)粘接強(qiáng)化處理單元pahp以及多個(gè)冷卻單元cp。

在熱處理部123的最上部設(shè)置有本地控制器lc1。本地控制器lc1基于來(lái)自圖1的主控制器114的指令，控制涂敷處理部121、搬運(yùn)部122以及熱處理部123的動(dòng)作。

在熱處理單元php中，對(duì)基板w進(jìn)行加熱處理以及冷卻處理。在粘接強(qiáng)化處理單元pahp中，進(jìn)行用于提高基板w與防反射膜的粘接性的粘接強(qiáng)化處理。具體地說(shuō)，在粘接強(qiáng)化處理單元pahp中，對(duì)基板w涂覆hmds(六甲基二硅胺)等粘接強(qiáng)化劑，并且對(duì)基板w進(jìn)行加熱處理。在冷卻單元cp中，對(duì)基板w進(jìn)行冷卻處理。

熱處理部133具有設(shè)置在上方的上層熱處理部103以及設(shè)置在下方的下層熱處理部104。在上層熱處理部103以及下層熱處理部104中設(shè)置有冷卻單元cp、多個(gè)熱處理單元php以及邊緣曝光部eew。能夠從清洗干燥處理部14a將基板w搬入上層熱處理部103以及下層熱處理部104的熱處理單元php。

在熱處理部133的最上部設(shè)置本地控制器lc2。本地控制器lc2基于來(lái)自圖1的主控制器114的指令，控制顯影處理部131、搬運(yùn)部132以及熱處理部133的動(dòng)作。

在邊緣曝光部eew中，對(duì)基板w的周緣部進(jìn)行曝光處理(邊緣曝光處理)。由此，在進(jìn)行以后的顯影處理時(shí)，除去基板w的周緣部上的抗蝕膜。結(jié)果，在進(jìn)行顯影處理后，在基板w的周緣部與其它部分接觸時(shí)，能夠防止基板w的周緣部上的抗蝕膜剝離而變?yōu)轭w粒。

在清洗干燥處理部162中，設(shè)置有多個(gè)(在本例中為5個(gè))清洗干燥處理單元sd2。清洗干燥處理單元sd2除了不具有第一清洗機(jī)構(gòu)310而具有后述的第一變形例(圖14)中的第二清洗機(jī)構(gòu)320這一點(diǎn)外，具有與清洗干燥處理單元sd1相同的結(jié)構(gòu)。在清洗干燥處理單元sd2中，對(duì)曝光處理后的基板w進(jìn)行清洗以及干燥處理。

(6)搬運(yùn)部

圖13是表示搬運(yùn)部122、132、163的內(nèi)部結(jié)構(gòu)的側(cè)視示意圖。如圖13所示，搬運(yùn)部122具有上層搬運(yùn)室125以及下層搬運(yùn)室126。搬運(yùn)部132具有上層搬運(yùn)室135以及下層搬運(yùn)室136。在上層搬運(yùn)室125中設(shè)置有搬運(yùn)機(jī)構(gòu)127，在下層搬運(yùn)室126中設(shè)置有搬運(yùn)機(jī)構(gòu)128。另外，在上層搬運(yùn)室135中設(shè)置有搬運(yùn)機(jī)構(gòu)137，在下層搬運(yùn)室136中設(shè)置有搬運(yùn)機(jī)構(gòu)138。

涂敷處理室21、22(圖2)與上層熱處理部101(圖12)隔著上層搬運(yùn)室125相向，涂敷處理室23、24(圖2)與下層熱處理部102(圖12)隔著下層搬運(yùn)室126相向。顯影處理室31、32(圖2)與上層熱處理部103(圖12)隔著上層搬運(yùn)室135相向，顯影處理室33、34(圖2)與下層熱處理部104(圖12)隔著下層搬運(yùn)室136相向。

在搬運(yùn)部112與上層搬運(yùn)室125之間，設(shè)置有基板載置部pass1、pass2，在搬運(yùn)部112與下層搬運(yùn)室126之間，設(shè)置有基板載置部pass3、pass4。在上層搬運(yùn)室125與上層搬運(yùn)室135之間，設(shè)置有基板載置部pass5、pass6，在下層搬運(yùn)室126與下層搬運(yùn)室136之間，設(shè)置有基板載置部pass7、pass8。

在上層搬運(yùn)室135與搬運(yùn)部163之間，設(shè)置有載置兼緩沖部p-bf1，在下層搬運(yùn)室136與搬運(yùn)部163之間，設(shè)置有載置兼緩沖部p-bf2。在搬運(yùn)部163中以與搬入搬出部14b相鄰的方式，設(shè)置有基板載置部pass9以及多個(gè)載置兼冷卻部p-cp。

能夠通過(guò)搬運(yùn)機(jī)構(gòu)137以及搬運(yùn)機(jī)構(gòu)141、142(圖1)將基板w搬入搬出載置兼緩沖部p-bf1。能夠通過(guò)搬運(yùn)機(jī)構(gòu)138以及搬運(yùn)機(jī)構(gòu)141、142(圖1)將基板w搬入搬出載置兼緩沖部p-bf2。另外，能夠通過(guò)搬運(yùn)機(jī)構(gòu)141、142(圖1)以及搬運(yùn)機(jī)構(gòu)143將基板w搬入搬出基板載置部pass9以及載置兼冷卻部p-cp。

在基板載置部pass1以及基板載置部pass3中，載置有從分度器部11向涂敷部12搬運(yùn)的基板w，在基板載置部pass2以及基板載置部pass4中，載置有從涂敷部12向分度器部11搬運(yùn)的基板w。

在基板載置部pass5以及基板載置部pass7中，載置有從涂敷部12向顯影部13搬運(yùn)的基板w，在基板載置部pass6以及基板載置部pass8中，載置有從顯影部13向涂敷部12搬運(yùn)的基板w。

在載置兼緩沖部p-bf1、p-bf2中，載置有從顯影部13向清洗干燥處理部14a搬運(yùn)的基板w。在載置兼冷卻部p-cp中，載置有從清洗干燥處理部14a向搬入搬出部14b搬運(yùn)的基板w。在基板載置部pass9中，載置有從搬入搬出部14b向清洗干燥處理部14a搬運(yùn)的基板w。

搬運(yùn)機(jī)構(gòu)127與涂敷處理室21、22(圖2)、基板載置部pass1、pass2、pass5、pass6(圖13)以及上層熱處理部101(圖12)交接基板w。搬運(yùn)機(jī)構(gòu)128與涂敷處理室23、24(圖2)、基板載置部pass3、pass4、pass7、pass8(圖13)以及下層熱處理部102(圖12)交接基板w。

搬運(yùn)機(jī)構(gòu)137與顯影處理室31、32(圖2)、基板載置部pass5、pass6(圖13)、載置兼緩沖部p-bf1(圖13)以及上層熱處理部103(圖12)交接基板w。搬運(yùn)機(jī)構(gòu)138與顯影處理室33、34(圖2)、基板載置部pass7、pass8(圖13)、載置兼緩沖部p-bf2(圖13)以及下層熱處理部104(圖12)交接基板w。

(7)基板處理

一邊參照?qǐng)D1、圖2、圖12以及圖13一邊說(shuō)明基板處理。在分度器部11的搬運(yùn)器載置部111(圖1)，載置有收容有未處理的基板w的搬運(yùn)器113(圖1)。搬運(yùn)機(jī)構(gòu)115(圖1)從搬運(yùn)器113向基板載置部pass1、pass3(圖13)搬運(yùn)未處理的基板w。另外，搬運(yùn)機(jī)構(gòu)115將載置在基板載置部pass2、pass4(圖13)的處理完的基板w搬運(yùn)至搬運(yùn)器113。

在涂敷部12中，搬運(yùn)機(jī)構(gòu)127(圖13)將載置在基板載置部pass1的未處理的基板w依次搬運(yùn)至粘接強(qiáng)化處理單元pahp(圖12)、冷卻單元cp(圖12)以及涂敷處理室22(圖2)。接著，搬運(yùn)機(jī)構(gòu)127將涂敷處理室22中的基板w依次搬運(yùn)至熱處理單元php(圖12)、冷卻單元cp(圖12)、涂敷處理室21(圖2)、熱處理單元php(圖12)以及基板載置部pass5(圖13)。

此時(shí)，在粘接強(qiáng)化處理單元pahp中對(duì)基板w進(jìn)行粘接強(qiáng)化處理后，在冷卻單元cp中，將基板w冷卻至適于形成防反射膜的溫度。接著，在涂敷處理室22中，通過(guò)涂敷處理單元129(圖2)在基板w上形成防反射膜。接著，在熱處理單元php中對(duì)基板w進(jìn)行熱處理后，在冷卻單元cp中，將基板w冷卻至適于形成抗蝕膜的溫度。接著，在涂敷處理室21中，通過(guò)涂敷處理單元129(圖2)，在基板w上形成抗蝕膜。然后，在熱處理單元php中，對(duì)基板w進(jìn)行熱處理，并將該基板w載置在基板載置部pass5。

另外，搬運(yùn)機(jī)構(gòu)127將載置在基板載置部pass6(圖13)上的進(jìn)行顯影處理后的基板w搬運(yùn)至基板載置部pass2(圖13)。

搬運(yùn)機(jī)構(gòu)128(圖13)將載置在基板載置部pass3的未處理的基板w依次搬運(yùn)至粘接強(qiáng)化處理單元pahp(圖12)、冷卻單元cp(圖12)以及涂敷處理室24(圖2)。接著，搬運(yùn)機(jī)構(gòu)128將涂敷處理室24中的基板w依次搬運(yùn)至熱處理單元php(圖12)、冷卻單元cp(圖12)、涂敷處理室23(圖2)、熱處理單元php(圖12)以及基板載置部pass7(圖13)。

另外，搬運(yùn)機(jī)構(gòu)128將載置在基板載置部pass8(圖13)的進(jìn)行顯影處理后的基板w搬運(yùn)至基板載置部pass4(圖13)。涂敷處理室23、24(圖2)以及下層熱處理部102(圖12)中的對(duì)基板w的處理內(nèi)容與上述的涂敷處理室21、22(圖2)以及上層熱處理部101(圖12)中的對(duì)基板w的處理內(nèi)容分別相同。

在顯影部13中，搬運(yùn)裝置137(圖13)將載置在基板載置部pass5上的形成抗蝕膜后的基板w依次搬運(yùn)至邊緣曝光部eew(圖12)以及載置兼緩沖部p-bf1(圖13)。此時(shí)，在邊緣曝光部eew中，對(duì)基板w進(jìn)行邊緣曝光處理。進(jìn)行邊緣曝光處理后的基板w被載置在載置兼緩沖部p-bf1。

另外，搬運(yùn)機(jī)構(gòu)137從與清洗干燥處理部14a相鄰的熱處理單元php(圖12)取出進(jìn)行曝光處理后且進(jìn)行熱處理后的基板w。搬運(yùn)機(jī)構(gòu)137將該基板w依次搬運(yùn)至冷卻單元cp(圖12)、任一個(gè)顯影處理室31、32(圖2)、熱處理單元php(圖12)以及基板載置部pass6(圖13)。

此時(shí)，在冷卻單元cp中將基板w冷卻至適于顯影處理的溫度后，在顯影處理室31、32中的任一個(gè)中，通過(guò)顯影處理單元139對(duì)基板w進(jìn)行顯影處理。然后，在熱處理單元php中，對(duì)基板w進(jìn)行熱處理，并將該基板w載置在基板載置部pass6。

搬運(yùn)裝置138(圖13)將載置在基板載置部pass7上的形成抗蝕膜后的基板w依次搬運(yùn)至邊緣曝光部eew(圖12)以及載置兼緩沖部p-bf2(圖13)。

另外，搬運(yùn)機(jī)構(gòu)138從與接口部14相鄰的熱處理單元php(圖12)取出進(jìn)行曝光處理后且進(jìn)行熱處理后的基板w。搬運(yùn)機(jī)構(gòu)138將該基板w依次搬運(yùn)至冷卻單元cp(圖12)、任一個(gè)顯影處理室33、34(圖2)、熱處理單元php(圖12)以及基板載置部pass8(圖13)。顯影處理室33、34以及下層熱處理部104中的對(duì)基板w的處理內(nèi)容與上述的顯影處理室31、32以及上層熱處理部103中的對(duì)基板w的處理內(nèi)容分別相同。

在清洗干燥處理部14a中，搬運(yùn)機(jī)構(gòu)141(圖1)將載置在載置兼緩沖部p-bf1、p-bf2(圖13)的基板w依次搬運(yùn)至清洗干燥處理單元sd1(圖2)以及載置兼冷卻部p-cp(圖13)。此時(shí)，在清洗干燥處理單元sd1中對(duì)基板w進(jìn)行清洗以及干燥處理后，在載置兼冷卻部p-cp中，將基板w冷卻至適于通過(guò)曝光裝置15(圖1)進(jìn)行曝光處理的溫度。

搬運(yùn)機(jī)構(gòu)142(圖1)將載置在基板載置部pass9(圖13)的曝光處理后的基板w依次搬運(yùn)至清洗干燥處理單元sd2(圖12)以及上層熱處理部103或下層熱處理部104的熱處理單元php(圖12)。此時(shí)，在清洗干燥處理單元sd2中對(duì)基板w進(jìn)行清洗以及干燥處理后，在熱處理單元php中進(jìn)行曝光后烘(peb)處理。

在搬入搬出部14b中，搬運(yùn)機(jī)構(gòu)143(圖1)將載置在載置兼冷卻部p-cp(圖13)上的曝光處理前的基板w搬運(yùn)至曝光裝置15。另外，搬運(yùn)機(jī)構(gòu)143(圖1)從曝光裝置15取出曝光處理后的基板w，將該基板w搬運(yùn)至基板載置部pass9(圖13)。

(8)效果

在本實(shí)施方式中，在對(duì)基板w進(jìn)行背面清洗處理時(shí)，由多個(gè)輔助銷330產(chǎn)生的反作用力p2克服清洗頭311對(duì)基板w的背面施力而形成的負(fù)載p1。因此，即使清洗頭311按壓基板w的背面，也能夠防止基板w撓曲。由此，能夠使清洗頭311的研磨面311a均勻地與基板w的背面抵接，能夠?qū)鍂的背面施加均勻的負(fù)載p1，進(jìn)行充分地清洗。結(jié)果，能夠可靠地除去牢固地附著在基板w的背面上的異物，且能夠可靠地除去涂敷液繞至基板w的背面而形成的涂敷膜以及混入該涂敷膜中的異物等。

另外，在本實(shí)施方式中，由于輔助銷330的傾斜面333與基板w的被處理面?zhèn)鹊男泵娌?抵接，所以能夠在不對(duì)形成在基板w的被處理面上的抗蝕膜r造成損傷的情況下，產(chǎn)生克服施加在基板w的背面上的負(fù)載p1的反作用力p2。

(9)第一變形例

圖14是表示第一變形例的清洗干燥處理單元sd1的結(jié)構(gòu)的側(cè)視圖。第一變形例中的清洗干燥處理單元sd1，除了清洗單元300不僅具有第一清洗機(jī)構(gòu)310還具有第二清洗機(jī)構(gòu)320的點(diǎn)之外，具有與圖4的清洗干燥處理單元sd1相同的結(jié)構(gòu)。如圖14所示，第二清洗機(jī)構(gòu)320包括清洗刷321、刷保持構(gòu)件322、清洗噴嘴323以及刷移動(dòng)機(jī)構(gòu)324。

清洗刷321為大致圓柱形狀，例如由海綿形成。清洗刷321被刷保持構(gòu)件322保持。在清洗刷321的外周面形成有截面v字狀的槽321a。在清洗噴嘴323上連接有用于供給清洗液的液供給管(未圖示)。清洗噴嘴323的噴出口朝向清洗刷321的上端部周邊。刷移動(dòng)機(jī)構(gòu)324使刷保持構(gòu)件322移動(dòng)。由此，清洗刷321在水平方向以及鉛垂方向上移動(dòng)。

在清洗干燥處理單元sd1的第一變形例中，在通過(guò)第一清洗機(jī)構(gòu)310進(jìn)行背面清洗處理后，在進(jìn)行干燥處理前，通過(guò)第二清洗機(jī)構(gòu)320依次進(jìn)行背面清洗處理以及外周端部清洗處理。圖15是用于說(shuō)明第二清洗機(jī)構(gòu)320對(duì)基板w進(jìn)行的背面清洗處理的側(cè)視圖。

如圖15所示，在對(duì)基板w進(jìn)行背面清洗處理時(shí)，在通過(guò)旋轉(zhuǎn)卡盤(pán)210使基板w旋轉(zhuǎn)的狀態(tài)下，使清洗刷321移動(dòng)至基板w的下方。然后，在清洗刷321的上表面與基板w的背面接觸的狀態(tài)下，清洗刷321在基板w的背面的中心部與周緣部之間移動(dòng)。從清洗噴嘴323向基板w與清洗刷321之間的接觸部分供給清洗液。由此，通過(guò)清洗刷321對(duì)基板w的整個(gè)背面進(jìn)行清洗，除去附著在基板w的背面上的污染物。

圖16是用于說(shuō)明第二清洗機(jī)構(gòu)320對(duì)基板w進(jìn)行的外周端部清洗處理的側(cè)視圖。如圖16所示，在對(duì)基板w進(jìn)行外周端部清洗處理時(shí)，磁鐵板231配置在下方位置，磁鐵板232配置在上方位置。在該狀態(tài)下，通過(guò)旋轉(zhuǎn)卡盤(pán)210使基板w旋轉(zhuǎn)。此時(shí)，與通過(guò)圖10b中的第一清洗機(jī)構(gòu)310對(duì)基板w的周緣部進(jìn)行的背面清洗處理相同，在磁鐵板231的外方區(qū)域r1，各卡盤(pán)銷220成為閉狀態(tài)，在磁鐵板232的外方區(qū)域r2，各卡盤(pán)銷220成為開(kāi)狀態(tài)。

在該狀態(tài)下，清洗刷321在外方區(qū)域r2移動(dòng)至卡盤(pán)銷220的保持部223與基板w的外周端部10之間。并且，清洗刷321的槽321a與基板w的外周端部10壓力接觸。從清洗噴嘴323向清洗刷321與基板w之間的接觸部分供給清洗液。由此，對(duì)基板w的整個(gè)外周端部10進(jìn)行清洗，除去附著在基板w的外周端部10上的污染物。

通過(guò)圖15的第二清洗機(jī)構(gòu)320對(duì)基板w進(jìn)行的背面清洗處理可以接在通過(guò)圖10a的第一清洗機(jī)構(gòu)310對(duì)基板w的中心部進(jìn)行的背面清洗處理后進(jìn)行。另外，通過(guò)圖16的第二清洗機(jī)構(gòu)320對(duì)基板w進(jìn)行的外周端部清洗處理可以在通過(guò)圖10b的第一清洗機(jī)構(gòu)310對(duì)基板w的周緣部進(jìn)行的背面清洗處理后連續(xù)進(jìn)行。

這樣，在第一變形例的清洗干燥處理單元sd1中，通過(guò)第一清洗機(jī)構(gòu)310以及第二清洗機(jī)構(gòu)320對(duì)基板w的正面、背面以及外周端部10進(jìn)行清洗。由此，能夠可靠地除去附著在基板w上的不同種類的的異物。另外，在該結(jié)構(gòu)中，還可以不在第一清洗機(jī)構(gòu)310上設(shè)置清洗噴嘴313。

在圖5或圖14的清洗干燥處理單元sd1中，清洗單元300包括1個(gè)第一清洗機(jī)構(gòu)310，但是本發(fā)明不限于此。清洗單元300可以包括清洗頭311的研磨面311a的粗糙度互不相同的多個(gè)第一清洗機(jī)構(gòu)310。此時(shí)，通過(guò)包括研磨面311a粗的清洗頭311的一個(gè)第一清洗機(jī)構(gòu)310對(duì)基板w進(jìn)行清洗，然后，通過(guò)包括研磨面311a細(xì)(光滑)的清洗頭311的另一個(gè)第一清洗機(jī)構(gòu)310對(duì)基板w進(jìn)行清洗。由此，能夠更可靠地除去附著在基板w上的不同種類的異物。

另外，在圖14的清洗干燥處理單元sd1中，清洗單元300包括1個(gè)第二清洗機(jī)構(gòu)320，但是本發(fā)明不限于此。清洗單元300可以包括多個(gè)第二清洗機(jī)構(gòu)320。此時(shí)，能夠通過(guò)一個(gè)第二清洗機(jī)構(gòu)320清洗基板w的背面，通過(guò)另一個(gè)第二清洗機(jī)構(gòu)320清洗基板w的外周端部10。由此，能夠同時(shí)進(jìn)行背面清洗處理和外周端部清洗處理。

在第一變形例的清洗干燥處理單元sd1中，可以通過(guò)公用的移動(dòng)機(jī)構(gòu)實(shí)現(xiàn)頭移動(dòng)機(jī)構(gòu)314和刷移動(dòng)機(jī)構(gòu)324。另外，如上述的例子，在清洗單元300中設(shè)置有多個(gè)第一清洗機(jī)構(gòu)310或第二清洗機(jī)構(gòu)320時(shí)，可以通過(guò)公用的移動(dòng)機(jī)構(gòu)實(shí)現(xiàn)多個(gè)頭移動(dòng)機(jī)構(gòu)314以及刷移動(dòng)機(jī)構(gòu)324中的一部或全部的移動(dòng)機(jī)構(gòu)。

(10)第二變形例

在第一變形例的清洗干燥處理單元sd1中，在通過(guò)第一清洗機(jī)構(gòu)310進(jìn)行的背面清洗處理結(jié)束后，通過(guò)第二清洗機(jī)構(gòu)320進(jìn)行背面清洗處理，但是，本發(fā)明不限于此?？梢栽谕ㄟ^(guò)第一清洗機(jī)構(gòu)310進(jìn)行的背面清洗處理結(jié)束前，通過(guò)第二清洗機(jī)構(gòu)320進(jìn)行背面清洗處理。圖17是表示第二變形例的清洗干燥處理單元sd1的結(jié)構(gòu)的俯視示意圖。在圖17中，省略卡盤(pán)銷220以及輔助銷330的圖示。

如圖17所示，第一清洗機(jī)構(gòu)310，在不進(jìn)行背面清洗處理時(shí)，以向一個(gè)方向延伸的狀態(tài)待機(jī)在旋轉(zhuǎn)保持單元200的一個(gè)側(cè)方且基板w的下方。清洗頭311安裝在頭保持構(gòu)件312的一端部。在第一清洗機(jī)構(gòu)310待機(jī)時(shí)，將配置有清洗頭311的位置稱為頭待機(jī)位置p1。在圖17中，用雙點(diǎn)劃線表示頭待機(jī)位置p1。

在通過(guò)第一清洗機(jī)構(gòu)310進(jìn)行背面清洗處理時(shí)，頭保持構(gòu)件312以頭保持構(gòu)件312的另一端部的中心軸312a為基準(zhǔn)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。由此，如圖17中粗箭頭a1所示，在比基板w更靠下方的高度，清洗頭311在與被旋轉(zhuǎn)卡盤(pán)200保持的基板w的中心相向的位置和頭待機(jī)位置p1之間移動(dòng)。另外，調(diào)整頭保持構(gòu)件312的高度，以使清洗頭311的研磨面311a與基板w的背面接觸。

第二清洗機(jī)構(gòu)320，在不進(jìn)行背面清洗處理時(shí)，以向一個(gè)方向延伸的狀態(tài)待機(jī)在旋轉(zhuǎn)保持單元200的另一側(cè)方且基板w的下方。清洗刷321a安裝在刷保持構(gòu)件322的一端部。在第二清洗機(jī)構(gòu)320待機(jī)時(shí)，將配置有清洗刷321的位置稱為刷待機(jī)位置p2。在圖17中，用雙點(diǎn)劃線表示刷待機(jī)位置p2。

在通過(guò)清洗刷321進(jìn)行背面清洗處理時(shí)，刷保持構(gòu)件322以刷保持構(gòu)件322的另一端部的中心軸322a為基準(zhǔn)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。由此，如圖17中粗箭頭a2所示，在比基板w更靠下方的高度，清洗刷321在與被旋轉(zhuǎn)卡盤(pán)200保持的基板w的中心相向的位置和刷待機(jī)位置p2之間移動(dòng)。另外，調(diào)整刷保持構(gòu)件322的高度，以使清洗刷321的上表面與基板w的背面接觸。

在此，在清洗干燥處理單元sd1中，在頭保持構(gòu)件312和刷保持構(gòu)件322同時(shí)旋轉(zhuǎn)時(shí)，將頭保持構(gòu)件312和刷保持構(gòu)件322可能干涉的某個(gè)區(qū)域定義為干涉區(qū)域if。干涉區(qū)域if是頭保持構(gòu)件312因旋轉(zhuǎn)而運(yùn)行的軌跡與刷保持構(gòu)件322因旋轉(zhuǎn)而運(yùn)行的軌跡之間的重疊區(qū)域。

圖18a～圖18c是表示進(jìn)行背面清洗處理時(shí)的圖17的清洗干燥處理單元sd1的動(dòng)作的側(cè)視示意圖。在圖18a～18c中，省略旋轉(zhuǎn)保持單元200以及輔助銷330的圖示。

在開(kāi)始進(jìn)行背面清洗處理時(shí)，被圖17的旋轉(zhuǎn)保持單元200保持的基板w以預(yù)定的速度旋轉(zhuǎn)。另外，第一清洗機(jī)構(gòu)310的清洗頭311以及第二清洗機(jī)構(gòu)320的清洗刷321在比基板w更靠下方的高度，分別位于頭待機(jī)位置p1以及刷待機(jī)位置p2。

接著，如圖18a中點(diǎn)劃線的箭頭所示，清洗頭311在移動(dòng)至基板w中心的下方后上升，使研磨面311a與基板w的背面接觸。由此，通過(guò)清洗頭311對(duì)基板w的背面的中心進(jìn)行研磨。

然后，如圖18b中點(diǎn)劃線的箭頭所示，清洗頭311移動(dòng)至基板w的外周端部。由此，從中心向外周端部對(duì)基板w的背面進(jìn)行研磨。在研磨基板w的過(guò)程中，從圖17的清洗噴嘴313向基板w供給清洗液。因此，通過(guò)清洗液沖洗因研磨而從基板w的背面剝離的污染物。

在頭保持構(gòu)件312移動(dòng)至干涉區(qū)域if外時(shí)，如圖18b中雙點(diǎn)劃線的箭頭所示，清洗刷321在移動(dòng)至基板w的中心的下方后上升，上表面與基板w的背面接觸。由此，通過(guò)清洗刷321清洗基板w的背面的中心。

然后，如圖18c中雙點(diǎn)劃線的箭頭所示，清洗刷321移動(dòng)至基板w的外周端部。由此，從中心向外周端部清洗基板w的背面。在對(duì)基板w清洗的過(guò)程中，從圖17的清洗噴嘴323向基板w供給清洗液。因此，通過(guò)清洗液沖洗因研磨而從基板w的背面剝離的污染物。

清洗頭311以及清洗刷321分別返回頭待機(jī)位置p1以及刷待機(jī)位置p2，由此基板w的背面清洗處理結(jié)束。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，能夠在頭保持構(gòu)件312與刷保持構(gòu)件322不干涉的情況下，同時(shí)進(jìn)行通過(guò)第一清洗機(jī)構(gòu)310進(jìn)行的背面清洗處理和通過(guò)第二清洗機(jī)構(gòu)320進(jìn)行的背面清洗處理。

[2]第二實(shí)施方式

針對(duì)第二實(shí)施方式的基板清洗裝置以及基板處理裝置，說(shuō)明與第一實(shí)施方式的基板清洗裝置以及基板處理裝置的不同點(diǎn)。圖19是表示本發(fā)明的第二實(shí)施方式的清洗干燥處理單元sd1的結(jié)構(gòu)的局部縱剖視圖。圖20是圖19的清洗干燥處理單元sd1中的清洗頭311的側(cè)視放大圖。如圖19所示，在本實(shí)施方式中，清洗單元300不包括多個(gè)輔助銷330。

另外，在本實(shí)施方式中，各卡盤(pán)銷220的保持部223的形狀與圖4的卡盤(pán)銷220的保持部223的形狀不同。在圖19的例子中，保持部223的下部為圓錐臺(tái)形，上部為圓柱形。對(duì)于卡盤(pán)銷220在水平面內(nèi)的直徑，在圓錐臺(tái)形部分，從下方向上方逐漸減小，在圓柱形部分恒定。此時(shí)，基板w以斜面部1(圖6a)不與各保持部223抵接的方式，被多個(gè)保持部223保持。

在圖19的第一清洗機(jī)構(gòu)310的清洗頭311形成有在垂直方向上貫通研磨面311a的開(kāi)口311b。另外，第一清洗機(jī)構(gòu)310還包括吸引驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)315。吸引驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)315例如為抽風(fēng)機(jī)(aspiration)，經(jīng)過(guò)清洗頭311的開(kāi)口311b吸引基板w的背面。如圖20所示，在對(duì)基板w進(jìn)行背面清洗處理時(shí)，基板w一邊被從開(kāi)口311b吸引至清洗頭311，一邊通過(guò)清洗頭311清洗基板w的背面。

此時(shí)，即使在清洗頭311的研磨面311a對(duì)基板w的背面的中心部以及周緣部中的某一部分施加負(fù)載p1時(shí)，也能夠通過(guò)吸引，在不對(duì)在基板w的被處理面上形成的涂敷膜造成損傷的情況下，在基板w上產(chǎn)生克服負(fù)載p1的反作用力p2。由此，防止在清洗頭311施加負(fù)載p1時(shí)基板w發(fā)生撓曲。另外，能夠通過(guò)清洗頭311的研磨面311a以均勻的壓力對(duì)基板w的整個(gè)背面施加負(fù)載p1。結(jié)果，能夠一邊均勻地維持對(duì)基板w的背面的中心部和周緣部施加的負(fù)載p1，一邊清洗基板w的整個(gè)背面。

另外，在本實(shí)施方式中，基板w的斜面部1不與包括卡盤(pán)銷220的其它構(gòu)件接觸。因此，即使在清洗頭311的研磨面311a按壓基板w的背面的情況下，也能夠在不對(duì)基板w的斜面部1造成損傷的情況下清洗基板w的背面。

而且，在本實(shí)施方式中，能夠從開(kāi)口311b吸引并排出因?qū)鍂的背面進(jìn)行清洗而產(chǎn)生的顆粒等異物以及對(duì)基板w的清洗處理使用的清洗液等的雜質(zhì)。由此，能夠易于維持清洗頭311潔凈。因此，第一清洗機(jī)構(gòu)310可以不包括清洗噴嘴313。另外，由于不需要將異物排出至外部的作業(yè)，所以能夠提高清洗的效率。

[3]其它實(shí)施方式

(1)在上述實(shí)施方式中，清洗干燥處理單元sd1設(shè)置在基板處理裝置100的接口部14，但是本發(fā)明不限于此。清洗干燥處理單元sd1可以設(shè)置在基板處理裝置100的涂敷部12，還可以設(shè)置在顯影部13，而且還可以設(shè)置在其它區(qū)塊?；蛘?，清洗干燥處理單元sd1不設(shè)置在基板處理裝置100上，而可以作為用于對(duì)基板w的背面進(jìn)行清洗的基板清洗裝置獨(dú)立設(shè)置。

圖21是包括基板清洗裝置的基板清洗單元的俯視示意圖。如圖21所示，基板清洗單元20包括分度器部11以及清洗干燥處理部14a。圖21的分度器部11具有與圖1的分度器部11相同的結(jié)構(gòu)。另外，圖21的清洗干燥處理部14a除了具有緩沖部164這一點(diǎn)之外，具有與圖1的清洗干燥處理部14a相同的結(jié)構(gòu)。此外，圖21的清洗干燥處理部14a可以與圖1的清洗干燥處理部14a相同而不具有緩沖部164。

說(shuō)明通過(guò)基板清洗單元20進(jìn)行的清洗處理。在分度器部11，在搬運(yùn)器載置部111，載置有容納了作為處理對(duì)象的基板w的搬運(yùn)器113。搬運(yùn)機(jī)構(gòu)115從搬運(yùn)器113向基板載置部pass1、pass3(圖13)搬運(yùn)基板w。另外，搬運(yùn)機(jī)構(gòu)115將載置在基板載置部pass2、pass4(圖13)上的處理完的基板w搬運(yùn)至搬運(yùn)器113。

在清洗干燥處理部14a中，搬運(yùn)機(jī)構(gòu)141將載置在基板載置部pass1、pass3上的基板w搬運(yùn)至清洗干燥處理部161中的某個(gè)清洗干燥處理單元sd1(圖2)。此時(shí)，在清洗干燥處理單元sd1中，對(duì)基板w進(jìn)行清洗以及干燥處理。搬運(yùn)機(jī)構(gòu)141將通過(guò)清洗干燥處理單元sd1進(jìn)行清洗以及干燥處理后的基板w搬運(yùn)至基板載置部pass2、pass4。

在此，在從基板載置部pass1、pass3向清洗干燥處理部161搬運(yùn)基板w時(shí)，所有的清洗干燥處理單元sd1都處于進(jìn)行基板w的清洗以及干燥處理的過(guò)程中。此時(shí)，任意的清洗干燥處理單元sd1都不能夠接受基板w。因此，在這樣的情況下，搬運(yùn)機(jī)構(gòu)141將基板w搬運(yùn)至緩沖部164。在某個(gè)清洗干燥處理單元sd1能夠接受基板w后，搬運(yùn)機(jī)構(gòu)141將緩沖部164的基板w搬運(yùn)至該清洗干燥處理單元sd1。

搬運(yùn)機(jī)構(gòu)142將載置在基板載置部pass1、pass3上的基板w搬運(yùn)至清洗干燥處理部162中的某個(gè)清洗干燥處理單元sd2(圖12)。此時(shí)，在清洗干燥處理單元sd2中，與清洗干燥處理單元sd1相同地對(duì)基板w進(jìn)行清洗以及干燥處理。搬運(yùn)機(jī)構(gòu)142將通過(guò)清洗干燥處理單元sd2進(jìn)行清洗以及干燥處理后的基板w搬運(yùn)至基板載置部pass2、pass4。

在此，在從基板載置部pass1、pass3向清洗干燥處理部162搬運(yùn)基板w時(shí)，所有的清洗干燥處理單元sd2處于對(duì)基板w進(jìn)行清洗以及干燥處理的過(guò)程中。此時(shí)，任意的清洗干燥處理單元sd2都不能接受基板w。因此，在這樣的情況下，搬運(yùn)機(jī)構(gòu)142將基板w搬運(yùn)至緩沖部164。在某個(gè)清洗干燥處理單元sd2能夠接受基板w后，搬運(yùn)機(jī)構(gòu)142將緩沖部164的基板w搬運(yùn)至該清洗干燥處理單元sd2。

在圖2的例子中，在清洗干燥處理部161設(shè)置4個(gè)清洗干燥處理單元sd1，但是本發(fā)明不限于此?？梢栽谇逑锤稍锾幚聿?61設(shè)置3個(gè)以下的清洗干燥處理單元sd1，還可以設(shè)置5個(gè)以上的清洗干燥處理單元sd1。另外，在圖12的例子中，在清洗干燥處理部162設(shè)置5個(gè)清洗干燥處理單元sd2，但是本發(fā)明不限于此。在清洗干燥處理部162可以設(shè)置4個(gè)以下的清洗干燥處理單元sd2，也可以設(shè)置6個(gè)以上的清洗干燥處理單元sd2。

(2)在上述實(shí)施方式中，8個(gè)卡盤(pán)銷220配置為隔開(kāi)45度，但是本發(fā)明不限于此?？梢园凑栈鍂的尺寸任意決定卡盤(pán)銷220的數(shù)量以及配置的角度間隔。同樣地，在第一實(shí)施方式中，8個(gè)輔助銷330配置為隔開(kāi)45度，但是本發(fā)明不限于此。可以按照基板w的尺寸任意決定輔助銷330的數(shù)量以及配置的角度間隔。

(3)在第一實(shí)施方式中，在第一清洗機(jī)構(gòu)310沒(méi)有設(shè)置吸引基板w的機(jī)構(gòu)，但是本發(fā)明不限于此?？梢栽诘谝粚?shí)施方式的第一清洗機(jī)構(gòu)310設(shè)置與第二實(shí)施方式相同的吸引驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)315，并且在清洗頭311形成開(kāi)口311b。

同樣地，在第二實(shí)施方式中，清洗單元300不具有多個(gè)輔助銷330，但是本發(fā)明不限于此。第二實(shí)施方式的清洗單元300可以具有與第一實(shí)施方式相同的多個(gè)輔助銷330。

(4)在上述實(shí)施方式中，切換部230借助磁力使卡盤(pán)銷220在閉狀態(tài)和開(kāi)狀態(tài)之間切換，但是本發(fā)明不限于此。切換部230可以借助機(jī)械的結(jié)構(gòu)或電氣控制來(lái)使卡盤(pán)銷220在閉狀態(tài)和開(kāi)狀態(tài)之間切換。

(5)在上述實(shí)施方式中，清洗干燥處理單元sd1的卡盤(pán)銷220以使基板w的背面朝向下方的方式在旋轉(zhuǎn)板213的下側(cè)保持基板w，但是本發(fā)明不限于此。卡盤(pán)銷220可以以基板w的背面朝向上方的方式在旋轉(zhuǎn)板213的上側(cè)保持基板w。此時(shí)，清洗單元300配置在清洗干燥處理單元sd1的上部，通過(guò)清洗頭311的下表面清洗基板w的背面。

(6)在上述實(shí)施方式中，曝光裝置15為干式曝光(dryexposure)裝置，但是本發(fā)明不限于此。曝光裝置15可以是例如浸液式曝光(immersionexposure)裝置。此時(shí)，在基板處理裝置100中，可以還在基板w的抗蝕膜上形成抗蝕蓋膜(頂部涂層)。

[4]權(quán)利要求的各結(jié)構(gòu)要素與實(shí)施方式的各要素之間的對(duì)應(yīng)關(guān)系

以下，說(shuō)明權(quán)利要求的各結(jié)構(gòu)要素與實(shí)施方式的各要素之間的對(duì)應(yīng)關(guān)系的例子，但是本發(fā)明不限于以下的例子。

在上述的實(shí)施方式中，基板w為基板的例子，周緣部pe為周緣部的例子，外周端部10為外周端部的例子，斜面部1、2分別為被處理面?zhèn)刃泵娌恳约氨趁鎮(zhèn)刃泵娌康睦?，端?為端面的例子。清洗干燥處理單元sd1為基板清洗裝置的例子，旋轉(zhuǎn)保持單元200為旋轉(zhuǎn)保持單元的例子，清洗單元300為清洗單元的例子，旋轉(zhuǎn)軸212為旋轉(zhuǎn)軸的例子。

旋轉(zhuǎn)板213為旋轉(zhuǎn)構(gòu)件的例子，卡盤(pán)銷220為保持構(gòu)件的例子，清洗頭311為清洗用具的例子，頭移動(dòng)機(jī)構(gòu)314為移動(dòng)裝置的例子。輔助銷330為反作用力產(chǎn)生部以及抵接構(gòu)件的例子，傾斜面333為抵接面的例子，切換部230為保持構(gòu)件切換部的例子，外方區(qū)域r1、r2分別為第一以及第二區(qū)域的例子。

吸引驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)315為反作用力產(chǎn)生部以及吸引部的例子，研磨面311a為研磨面的例子，開(kāi)口311b為開(kāi)口的例子，清洗噴嘴313為清洗液供給部的例子。清洗刷321為清洗刷的例子，處理液噴嘴28為膜形成單元的例子，邊緣沖洗噴嘴30為除去單元的例子，基板處理裝置100為基板處理裝置的例子。

作為權(quán)利要求的各結(jié)構(gòu)要素還能夠使用具有權(quán)利要求所記載的結(jié)構(gòu)或功能的其它各種要素。

[工業(yè)利用性]

本發(fā)明能夠有效用于對(duì)各種基板的背面的清洗處理。