本實用新型涉及顯示領域，具體涉及一種蒸鍍裝置。

背景技術：

顯示裝置是一種顯示圖像的裝置。近年來，OLED(Organic Light Emitting Diode)顯示器逐漸進入到消費品顯示裝置市場中，被人們所認知。OLED顯示器具有自發(fā)光特性。因為OLED顯示器不需要獨立的光源，所以其可具有相對液晶顯示器較小的厚度和重量。此外，OLED顯示器還具有色彩豐富、電壓需求低且省電效率高等特性。

通常地，OLED顯示器包括多個像素，用于發(fā)射不同顏色的光。多個像素發(fā)射光以顯示圖像，TFT(Thin Film Transistor，薄膜晶體管)來驅動每個像素。另外，絕緣層(如像素限定層)可限定每個像素的區(qū)域和形狀。進一步，每個像素可定位在其相鄰的像素之間。

隨著高分辨率顯示裝置的應用越來越廣泛，對顯示裝置的分辨率的要求也越來越高。目前，通常通過減小像素的尺寸并減小像素間的間距來達到提高顯示裝置分辨率的目的，但是隨著工藝技術的不斷細化，會導致顯示裝置的工藝難度和制造成本的增加。

技術實現(xiàn)要素：

有鑒于此，本實用新型提出一種蒸鍍裝置。

一種蒸鍍裝置，包括：主基板，輔助基板，其中，所述主基板包括掩膜版吸附部。

本實用新型提供的蒸鍍裝置，有效的避免了蒸鍍過程中，基板在對位過程中由于自身重量而下垂，導致掩膜版與基板對位誤差較大問題，提高產(chǎn)品良率。

附圖說明

圖1為本實用新型提供的一種蒸鍍裝置的輔助基板剖視圖；

圖2為本實用新型提供的一種蒸鍍裝置的輔助基板示意圖；

圖3為本實用新型提供的一種蒸鍍裝置的主基板剖視圖；

圖4為本實用新型提供的一種蒸鍍裝置的主基板示意圖；

圖5為本實用新型提供的一種掩膜版剖視圖；

圖6為本實用新型提供的一種掩膜版示意圖。

具體實施方式

盡管下面將參照附圖對本實用新型進行更詳細的描述，其中表示了本實用新型的優(yōu)選實施例，應當理解為本領域技術人員可以在此描述的基礎上進行修改，而仍然可以實現(xiàn)本實用新型的有利效果。因此，下列的描述應當被理解為對本領域技術人員的思路的擴展，而并不作為對本實用新型的限制。

為了清楚的描述實際實施例的全部特征。在下列描述中，不詳細描述公知的功能和結構，因為它們會使本實用新型由于不必要的細節(jié)而混亂。應當認為在任何實際實施例的開發(fā)中，必須做出大量實施細節(jié)以實現(xiàn)開發(fā)者的特定目標，例如按照有關系統(tǒng)或有關商業(yè)的限制，由一個實施例改變?yōu)榱硪粋€實施例。另外，應當認為這種開發(fā)工作可能是復雜和耗費時間的，但是對本領域技術人員來說僅僅是常規(guī)工作。

在下列段落中參照附圖以舉例方式更具體地描述本實用新型。根據(jù)下列說明使本實用新型的要點和特征將更清楚。需說明的是，附圖均采用非常簡化的形式且均使用非精準的比率，僅用以方便、清晰地輔助說明本實用新型實施例的目的。

本實用新型實施方式提供一種蒸鍍裝置，包括：主基板，輔助基板，其中，主基板包括掩膜版吸附部，主基板與輔助基板相對設置，掩膜版吸附部可以設置在主基板內(nèi)部，也可以設置在主基板表面，在本實施方式中，對此不作限定，下面將通過附圖對本實用新型提供的蒸鍍裝置結構進行詳盡說明。

如圖1、圖2所示，圖1為本實用新型提供的一種蒸鍍裝置的輔助基板剖視圖，圖2為本實用新型提供的一種蒸鍍裝置的輔助基板示意圖；蒸鍍裝置的輔助基板包括吸附裝置101，在本實施方式中，吸附裝置101為磁力掩膜版吸附裝置，磁力掩膜版吸附裝置在電流的控制下可以產(chǎn)生磁場，通過磁力吸附至少部分由磁性金屬構成的掩膜版。在其他實施方式中，吸附裝置101也可以為真空掩膜版吸附裝置，吸附裝置用于將掩膜版吸附在輔助基板面向主基板一側的表面104，輔助基板還包括輔助對位裝置102，該輔助對位裝置102可以為攝像頭，用于采集對位信息，也可以為對位標記，用于提供位置信息。

如圖3、圖4所示，圖3為本實用新型提供的一種蒸鍍裝置的主基板剖視圖，圖4為本實用新型提供的一種蒸鍍裝置的主基板示意圖；蒸鍍裝置的主基板包括掩膜版吸附部201，掩膜版吸附部201包括電磁單元，電磁單元在電流的控制下可以產(chǎn)生磁場，通過磁力吸附至少部分由磁性金屬構成的掩膜版，蒸鍍裝置的主基板還包括真空吸附部，真空吸附部用于吸附蒸鍍基板，將蒸鍍基板固定在所述主基板面向輔助基板一側的表面204，主基板還包括對位裝置202，該對位裝置202可以為對位標記，用于提供位置信息，也可以攝像頭，用于采集對位信息。主基板面向所述輔助基板一側面為至少部分區(qū)域為平滑表面，以便蒸鍍基板平整的固定在主基板面向輔助基板一側的表面204。

上述主基板與輔助基板可以在機械作用下反轉180°，也就是說，可以主基板位于輔助基板上方，也可以通過機械作用，主基板位于輔助基板下方。

本實用新型實施方式提供的蒸鍍裝置，通過磁力吸附，將掩膜版吸附在主基板一側，有效的避免了蒸鍍過程中，基板在對位過程中由于自身重量而下垂，導致掩膜版與基板對位誤差較大問題，提高產(chǎn)品良率。

可選的，本實用新型實施方式中，主基板還包括主基板溝槽203，輔助基板還包括輔助基板溝槽103，進一步參考圖5、圖6，圖5為本實用新型提供的一種掩膜版剖視圖，圖6為本實用新型提供的一種掩膜版示意圖；掩膜版包括掩膜部分301以及框架302，所述框架302尺寸與所述主基板溝槽203、輔助基板溝槽103相匹配。

本實用新型提供的蒸鍍裝置及有機電致發(fā)光顯示面板蒸鍍方法，有效的避免了蒸鍍過程中，基板在對位過程中由于自身重量而下垂，導致掩膜版與基板對位誤差較大問題，提高產(chǎn)品良率。

綜上所述，雖然本實用新型已以較佳實施例披露如上，然其并非用以限定本實用新型，本領域的技術人員在不脫離本實用新型的精神和范圍的前提下可做各種的更動與潤飾，因此倘若本實用新型的這些修改和變型屬于本實用新型權利要求及其等同技術的范圍之內(nèi)，則本實用新型也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。本實用新型的保護范圍以本實用新型的權利要求為準。