1.一種干刻蝕裝置的下部電極(10)，包括電極底板(11)以及位于所述電極底板(11)上的絕緣層(13)，其特征在于，所述絕緣層(13)內(nèi)嵌入有金屬網(wǎng)(14)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的干刻蝕裝置的下部電極(10)，其特征在于，所述金屬網(wǎng)(14)呈交叉網(wǎng)狀嵌入在所述絕緣層(13)內(nèi)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的干刻蝕裝置的下部電極(10)，其特征在于，所述金屬網(wǎng)(14)包括多根第一金屬絲(141)和多根第二金屬絲(142)，所述第一金屬絲(141)沿著第一方向延伸，所述第二金屬絲(142)沿著第二方向延伸，所述第一金屬絲(141)和所述第二金屬絲(142)相互交叉設(shè)置成網(wǎng)狀嵌入在所述絕緣層(13)內(nèi)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的干刻蝕裝置的下部電極(10)，其特征在于，所述金屬網(wǎng)(14)遍布在整個所述絕緣層(13)內(nèi)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的干刻蝕裝置的下部電極(10)，其特征在于，所述金屬網(wǎng)(14)為純銅網(wǎng)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的干刻蝕裝置的下部電極(10)，其特征在于，所述絕緣層(13)具有相對的下表面(131)和上表面(132)，所述絕緣層(13)通過所述下表面(131)與所述電極底板(11)結(jié)合，所述金屬網(wǎng)(14)嵌入在所述下表面(131)內(nèi)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的干刻蝕裝置的下部電極(10)，其特征在于，所述金屬網(wǎng)(14)先置于所述電極底板(11)上表面，所述絕緣層(13)沉積形成在所述電極底板(11)上以使所述金屬網(wǎng)(14)嵌入在所述下表面(131)內(nèi)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的干刻蝕裝置的下部電極(10)，其特征在于，所述電極底板(11)內(nèi)具有容納冷媒的冷媒管道(12)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的干刻蝕裝置的下部電極(10)，其特征在于，所述電極底板(11)為鋁電極底板，所述絕緣層(13)為氧化鋁陶瓷絕緣層。
10.一種干刻蝕裝置，包括反應(yīng)腔(30)以及設(shè)置在所述反應(yīng)腔(30)內(nèi)的上部電極(20)和下部電極(10)，其特征在于，所述下部電極(10)為權(quán)利要求1至9任一項所述的干刻蝕裝置的下部電極(10)。