技術(shù)特征：

1.一種應(yīng)用于半導(dǎo)體的磁力噴墨測(cè)試工藝，其特征在于，包括以下步驟：

S1、先激光切割晶片呈半切透狀，形成若干待分離的晶粒；

S2、測(cè)試晶粒，區(qū)分不合格晶粒；

S3、磁性墨水配制；

S4、晶片噴墨，對(duì)不合格晶粒進(jìn)行噴墨；

S5、烘干，將噴墨后的晶片放置在烘箱內(nèi)，烘箱溫度為80-100℃，時(shí)間為15-25min；

S6、裂片，將待裂晶片放置在兩張防靜電麥拉紙之間，再通過(guò)硬質(zhì)膠棒滾碾晶片，使其分裂成若干晶粒；

S7、磁鐵吸附帶墨水的不合格晶粒，完成。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種應(yīng)用于半導(dǎo)體的磁力噴墨測(cè)試工藝，其特征在于，步驟S3、磁性墨水配制；

S3.1、原料準(zhǔn)備，包括Fe₃O₄粉末8-15g、酒精150-220ml和墨水400-600ml；

S3.2、原料混合，將Fe₃O₄粉末溶于盛放墨水的容器，再將酒精加入容器；

S3.3、原料攪拌，攪拌時(shí)間為3-6h，溫度為15-30℃；

S3.4、靜置、完成。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種應(yīng)用于半導(dǎo)體的磁力噴墨測(cè)試工藝，其特征在于，還包括表面活性劑，將表面活性劑加入步驟S3.2中的容器內(nèi)。